超细SiO2的化学沉淀法制备及其原位改性

以天然优质粉石英自制的Na2O3.1SiO2为原料、硅烷偶联剂KH550为改性剂、HCl为沉淀剂、聚乙二醇为表面活性剂,采用化学沉淀法制备了超细且分散性好的改性SiO2粉体.研究了硅烷偶联剂KH550对溶液中生成的二氧化硅粒子表面原位改性的影响及机理,优化了制备超细改性SiO2粉体的工艺条件.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、红外光谱(FTIR)对制备产物进行了表征.结果表明硅烷偶联剂KH550是有效的改性剂.     

聚合物改性纳米SiO2表面的研究

纳米SiO2粒子被广泛用作填料来改性聚合物.但纳米SiO2粒子极易发生团聚,在有机介质中难以均匀分散,使其在许多领域的应用和发展受到限制.对纳米SiO2粒子进行表面改性处理,可以使之较好地分散到有机介质中.纳米SiO2粒子有多种表面改性方法,其中以聚合物包覆的方法效果最好.本文综述了纳米SiO2表面聚合物改性的一般方法,并对其应用前景进行了展望.     

原位复合纳米SiO2改性脲醛木塑复合材料制备

以原位复合纳米SiO2改性脲醛树脂为填充体，人工速生杨木为基体，通过真空加压浸渍法制得木塑复合材料。各种木塑复合材料的主要性能——增重率、抗吸水性、顺纹和恒纹压缩强度分别提高49％、38％、68％和83％。扫描电镜照片显示纳米SiO2改性脲醛完整地填充在杨木基体导管以及孔状结构中。傅立叶红外光谱（FTIR）分析纳米SiO2改性脲醛与杨木基体的固化反应表明，木塑复合材料中木质素C=O吸收峰1750cm^-1完全消失，木质素COO-吸收峰1645cm^-1增强而且发生偏移，充分证明纳米SiO2改性脲醛树脂填充体与木材基体之间发生了化学键合作用而使木塑复合材料各项力学性能得以增强。     

纳米SiO2表面接枝改性研究

采用溶液聚合法在经偶联剂γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(KH-570)化学改性后的纳米粒子表面接枝苯乙烯,研究了单体质量分数、引发剂用量、反应温度及反应时间对接枝率的影响,利用红外光谱和扫描电镜对改性前后的产品进行了表征。结果表明,经改性后的纳米粒子的分散性得到明显改善。最佳反应条件:w(单体)=20%,w(AIBN)=2%,反应温度70℃,反应时间7 h。在此条件下,纳米SiO2的接枝率最高(16.2%)。     

化学沉淀法合成纳米SiO2

本实验以硅酸钠和氯化铵为原料,以乙孵水溶液为溶剂,用沉淀法制备SiO2超细粉体,并用XRD、TEM和SEM对粉体的基本性能进行表征：结果表明：该法制得的SiO2粉体近似呈球形,平均粒径为40nm。     

硅烷偶联剂KH570对纳米SiO2的表面改性及其分散稳定性

采用硅烷偶联剂KH570对纳米SiO₂实现表面改性,并利用透射电镜（TEM）、粒径分析、Zeta电位、红外光谱（FTIR）等方法对改性后纳米SiO₂的表面结构和在有机介质中的分散稳定性进行分析表征。结果表明,通过硅烷偶联剂KH570表面改性后,颗粒表面覆盖了硅烷偶联剂的有机官能团,提高了SiO₂纳米颗粒在水溶液中的Zeta电位,降低了颗粒团聚程度。改性后的纳米SiO₂粉体在有机溶剂中的团聚块体尺寸明显减小,从200 nm降低到不足100 nm。     

纳米SiO2粉体的制备与研究

纳米SiO2粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料，添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂，在适宜的pH值和温度下，采用化学沉淀法合成。研究表明，要得到性能优良纳米的SiO2粉体，最佳工艺条件为：温度20～40℃，pH=6，反应液质量浓度P1=20g／L，P2=1．20g／L，反应时间15min。结果表明：制备的纳米SiO2粒径30～50nm，比表面积大，分散性好，质量优良，可达到产业化的生产。     

纳米SiO2的制备及改性研究进展

主要介绍了纳米SiO2的制备方法,对工艺流程、优缺点进行评述,阐明改性机理,探讨了纳米SiO2的一些改性方法,并对今后的研究重点给出了建议.     

氟碳基硅烷偶联剂改性纳米SiO2封堵剂的制备与性能评价

以工业纳米SiO2为原料,十七氟癸基三甲氧基硅烷为表面改性剂,制备了一种改性纳米SiO2.借助激光粒度分析仪、扫描电镜(SEM)、六速流变仪和滤失仪,对比了改性前后纳米SiO2在钻井液中的粒度分布和微观形貌特征,以及对钻井液流变性能和滤失性能的影响.通过模拟地层渗透率测试实验,评价了不同纳米SiO2对纳微米孔隙的封堵能...     

树状分子PAMAM接枝改性纳米SiO2与尼龙6的原位复合

将树状分子PAMAM接枝改性的纳米Si02与尼龙6进行原位复合，测试了复合材料的各项性能，对树状分子改性无机纳米粒子进行了初步的探索。结果表明：PAMAM接枝改性纳米SiO2可以提高尼龙6的强度、刚性和非等温结晶能力，但材料的韧性在接枝PAMAM代数较高的情况下趋于降低，同时，基体的摩尔质量显著下降。     

化学沉淀法制备纳米二氧化硅

采用硅酸钠为硅源,氯化铵为沉淀剂制备纳米二氧化硅.研究了硅酸钠的浓度、乙醇与水的体积比以及pH值对纳米二氧化硅粉末比表面积的影响,并用红外、X射线衍射和透射电镜对二氧化硅粉末进行了表征.研究结果表明在硅酸钠浓度为0.4 mol/L,乙醇与水体积比为1∶ 8,pH值为8.5时可制备出粒径为5～8 nm分散性好的无定形态纳米二氧化硅.     

化学沉淀法制备纳米二氧化硅

以水玻璃和盐酸为原料,采用化学沉淀法制备纳米SiO2。工艺条件为：温度40-50℃,pH值5—6,干燥温度110℃,焙烧温度500℃,制得的二氧化硅粒径在50-60nm,比表面积大,分散性好,达到了工业生产的标准。     

化学沉淀法合成超细二氧化硅

以硅酸钠为硅源,乙酸乙酯为酸化剂,通过沉淀法制备超细二氧化硅。考察了硅酸钠浓度、焙烧温度、超声分散等因素对制备二氧化硅的影响。通过一系列的实验得出制备超细二氧化硅较好的工艺条件：硅酸钠的浓度为0．20 g／mL,焙烧条件为600℃,4 h。并采用XRD、N2等温吸附-脱附、FT-IR、SEM等手段对二氧化硅进行表征。结果表明：所制得的二氧化硅为无定形结构,分散性较好,BET比表面积可达400 m2／g以上。     

凝胶网格沉淀法制备纳米二氧化硅

主要研究了凝胶网格沉淀法制备纳米二氧化硅的工艺条件,如:琼脂用量、HCl浓度、SiO32-离子浓度、反应物物质的量比(H /SiO32-)等因素对产物粒径的影响。实验确定制备纳米二氧化硅的最佳工艺条件为:琼脂质量分数为11.5%,盐酸浓度为0.6mol/L,硅酸钠浓度为0.4mol/L,最佳配比(SiO23-/H )为1:2.1。采用XRD、TG-DTA及透射电镜等测试手段对产物进行了表征。研究表明:采用凝胶网格沉淀法可制得平均粒径为40nm的二氧化硅粉体,凝胶网格沉淀法是一种制备纳米二氧化硅的简单的新方法,所得粉体粒径小,粒径分布窄,实验条件要求低,操作简便、易行,便于工业化生产。     

离子液体辅助液相沉淀法制备纳米La_2O_3

文章以碳酸镧为原料,以氢氧化钠为沉淀剂利用液相沉淀法在离子液体[Bz MIm]BF_4中制备出了纳米La_2O_3粉体。用透射电镜观察粒子的形貌和大小,用马尔文激光粒度分析仪测定粒径分布情况,用比表面仪测定粒子的比表面积。实验结果表明,纳米氧化镧的平均粒径随反应温度、反应物浓度、煅烧温度和时间的增加都呈现出先增大后减小的趋势。本实验过程中,当反应温度90℃,煅烧温度720℃,m([BzMIm]BF_4)/m(La(OH)_3)=2∶3,煅烧1.5 h时,制得的氧化镧粒径分布较均匀,团聚较少,大部分处于14~50 nm,呈长条状,其重量比表面积为53.793 m~2/g。     

单分散纳米二氧化硅微球表面化学修饰与表征

通过溶胶-凝胶法制备纳米二氧化硅微球,以乙醇作为分散介质,用硅烷偶联剂采用一步法对纳米二氧化硅进行了表面化学修饰。通过X-射线光电子能谱（XPS）、透射电子显微镜（TEM）和傅立叶红外光谱仪（FT-IR）等手段对其改性前后效果进行了分析。研究发现修饰后的纳米二氧化硅微球的疏水性增强;硅烷偶联剂与纳米二氧化硅表面羟基发生了化学反应。     

沉淀法制备纳米氧化铬粉体的研究

以Cr(NO_3)_3·9H_2O和NH3·H_2O为原料,采用直接沉淀法制备了纳米Cr_2O_3粉体。通过差热分析、X射线衍射、透射电镜、比表面积分析研究了粉体的制备过程和合成粉体的性能。所得纳米Cr_2O_3分散性良好,粒度分布均匀,平均粒径20~30nm,粒子形状为球形。     

聚氨酯预聚物对沉淀法SiO2表面改性的研究

以端NCO基聚氨酯预聚物(PUB)为改性剂对沉淀法二氧化硅(SiO2)进行了有机湿法改性,同时用硅烷偶联剂Si69改性SiO2进行了对比实验。采用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、扫描电子显微镜(SEM)、热重分析(TGA)、激光粒度分析等方法对改性前后SiO2粒子的结构、表面形貌及性能进行了表征。结果表明,PUB与沉淀法SiO2表面的羟基发生了反应,成功实现了对SiO2的表面改性,改性后的SiO2粒子分散性变好。