纳米SiC/Ni复合镀层的制备及其摩擦磨损性能

用电沉积方法在316L不锈钢表面制备了纯镍镀层和纳米SiC/Ni复合镀层,考察了电镀时间、SiC质量浓度、电流密度和镀液温度对复合镀层中纳米SiC含量的影响,表征了镀层的表面形貌和SiC纳米颗粒的尺寸;最后研究了镀层的摩擦磨损性能。结果表明:复合镀层中纳米SiC的含量随着电镀时间延长、电流密度增大、镀液温度升高以及SiC质量浓度的增大先升高后降低,且最佳工艺参数为电镀时间30min,SiC质量浓度20g·L-1,电流密度2A·dm-2,镀液温度60℃,镀液pH4.5,搅拌速度300r·min-1;与纯镍镀层相比,纳米SiC/Ni复合镀层的晶粒更细小,组织更致密,具有更好的摩擦磨损性能,摩擦因数降低了7%以上,磨损率降低了50%。     

基于正交试验的低温电镀铁工艺探讨

为获得适宜的无刻蚀低温电镀铁工艺,以主盐(FeCl2·4H2O)浓度、镀液pH值、镀液温度和电流密度为因素,以沉积速率、维氏硬度、腐蚀速率及耐磨性为性能评价指标,进行了四因素三水平的正交试验。结果表明,电流密度是沉积速率的主要影响因素,镀液pH值是镀层维氏硬度和耐蚀性的主要影响因素,镀液温度为镀层耐磨性的主要影响因素;无刻蚀低温镀铁最佳工艺参数:主盐浓度为400g/L,pH值为1.0,温度为35℃,电流密度为15A/dm2。     

电沉积制备纳米晶镍-钨-稀土合金镀层工艺及性能

采用电沉积技术制备了纳米晶镍-钨-稀土合金镀层,重点研究了其制备工艺及镀层性能,探讨了电流密度、电沉积时间、镀液中稀土含量、镀液pH值和镀液温度等因素对镀层沉积速率的影响;用SEM、XRD、EDS、阳极极化曲线等方法分析了镀层的表面形貌、结构、组成、耐蚀性和抗氧化性等。结果表明:合金镀层的最佳制备工艺条件为电流密度9.5 A·dm~(-2)、镀液pH值7、电沉积时间70 min、镀液温度50℃、镀液中NdCl_3添加量4.5 g·L~(-1)或镀液中Ce(SO_4)_2添加量3 g·L~(-1);添加稀土元素钕、铈后合金镀层表面颗粒排列致密、均匀,表面无裂纹,其抗高温氧化性和耐蚀性能与硬铬镀层比较相差较小。     

铝合金表面电沉积Ni-SiC复合镀层的研究

针对铝合金表面的电镀特点,采用化学侵锌、预镀镍等预处理方法,在铝合金表面得到了表面光洁平整,内部质量优良,与铝合金基体结合紧密的Ni-SiC复合镀层。研究了镀液中SiC浓度、电流密度、搅拌速度、镀液pH值和镀液温度等电镀参数对复合镀层厚度、镀层中的SiC体积分数及镀层显微硬度的影响。结果表明,电镀工艺条件的改变影响Ni-SiC复合镀层的共沉积速度与SiC粒子在镀层中的体积分数。当镀液SiC浓度为120g/L时,镀层中的SiC体积分数为8.5％,硬度为504.6HV,较纯铝(82.5HV)提高5倍,较纯镍(242.5.HV)提高l倍。     

Al2O3增强镍-磷-钨复合镀层的制备及性能

为了提高镍-磷-钨合金镀层性能,制备了Al2O3增强的镍-磷-钨复合镀层;探讨了镀液中Al2O3颗粒尺寸、搅拌方式、电流密度、镀液中Al2O3、Na2WO4的含量和pH值等对镀速、镀层中Al2O3的质量分数及镀层外观质量的影响;确定了复合电沉积最佳工艺条件;并对镀层的硬度、耐磨性能、抗高温氧化性能、耐腐蚀性能、表面形貌、相结构和化学成分等进行了测试.结果表明:在超声波振荡搅拌下,加入纳米Al2O3,控制电流密度为2A·cm-2,镀液中Al2O3和Na2WO4的含量分别为50g·L-1和6g·L-1,pH值为5.0时,镀速和镀层中的Al2O3质量分数最大,镀层质量最佳;加入微米和纳米Al2O3镀层的综合性能均高于未加入Al2O3的镀层.     

化学复合镀制备Ni-Co-P-PTFE自润滑镀层的工艺研究

对Ni-Co-P-PTFE化学复合镀制备自润滑镀层的工艺过程进行了研究。探讨了实验因素对镀层的摩擦因数和显微硬度的影响情况，得到的最佳工艺条件是电镀时间2h，镀液温度90℃，pH值5，PTFE乳液加入量10g/L，镀液中CoSO4与NiSO4的摩尔配比为1：1。实验表明，该复合镀层具有优异的润滑性能。     

Ni-TiC复合镀工艺的优化

采用共沉积法(CECD),在不锈钢上制备Ni TiC复合镀层。主要研究了TiC粒子的浓度、阴极电流密度、pH值等 对复合镀层中粒子含量的影响。利用正交试验法优选出制备Ni TiC复合镀层的最佳工艺参数。结果表明,Ni TiC复合 镀层的最佳工艺参数为:TiC粒子的浓度6g/L,电流密度4A/dm2,pH=4,镀液温度30℃。     

铸铁表面铬基Cr-MoS_2复合电镀层的摩擦磨损性能

在镀铬电镀液中掺杂具有减摩自润滑作用的二硫化钼微粒,在铸铁活塞环表面制成铬基Cr-MoS2复合电镀层。复合镀的工艺是:MoS2微粒浓度15g/L,温度为40-50℃,搅拌强度130r/min,对应的电流密度15A/dm2,间歇搅拌。数据表明,复合镀层Cr-MoS2与基体结合致密,MoS2在铬基体上分布均匀。复合镀层具有优异的摩擦磨损性能,在相同摩擦条件下,磨损仅为纯镀铬层的1/12,摩擦系数为纯镀铬层的1/2。     

氰化镀铜—双层镍—镀铬工艺的应用

本文介绍氰化镀铜-双层镍-镀铬电镀工艺和精密过滤机、助滤剂、光亮剂及光亮剂自动添加机、电镀自动线。实践证明该工艺镀液稳定、维护方便、镀层光亮、结合力好、耐腐蚀性能强。     

电流密度对氨基磺酸盐镀液电沉积纳米TiN/Ni复合镀层性能的影响

以添加有纳米TiN颗粒的氨基磺酸盐镀液为基础镀液,采用超声-脉冲电沉积的方法在45钢表面制备了纳米TiN/Ni复合镀层,分析了电流密度对其微观形貌、显微硬度以及表面TiN含量及分布的影响。结果表明:当电流密度在2~5A·dm~(-2)时,复合镀层结构致密且厚度均匀,其厚度随电流密度的增大而增加;随着电流密度的增大,复合镀层表面晶粒先细化后长大,显微硬度先提高后降低,当电流密度为4A·dm~(-2)时,镀层表面平整,表面和截面硬度均达到最大,分别为677,763HV;复合镀层表面TiN的含量随电流密度的增大先增加后减少,当电流密度为4A·dm~(-2)时,其含量最高且分散均匀。     

铁-纳米ZrO2复合电镀层的组织与性能

采用氯化物低温镀铁工艺,选择纳米ZrO2作为第二相粒子,以不对称交流一直流电源电镀法制备了铁-纳米ZrO2复合镀层;研究了工艺参数对镀层组织结构和镀层硬度、耐磨性能的影响.结果表明:采用此方法可获得内应力小、致密的复合镀层,镀层为α-Fe体心立方结构;当镀液中ZrO2纳米粒子含量为30 g/L,pH值为1,搅拌转速为300 r/min,阴极电流密度为20 A/dm2,施镀温度为30～40℃时,ZrO2粒子在镀层中弥散分布,镀层的平均硬度值达到800 HV.镀铁层中复合适量的ZrO2纳米粒子,能有效地降低粘着磨损,提高镀层的耐磨性能.     

碳纳米管/镍复合镀层硬度研究

在瓦特镀镍溶液中加入碳纳米管,研究球磨处理、搅拌分散形式、分散剂对碳纳米管在镀液中均匀稳定分散的影响,采用恒电流电沉积工艺制备了碳纳米管／镍复合镀层。结果表明：碳纳米管球磨后加入到镀液中,并通过超声分散,可以得到稳定的复合电镀液;碳纳米管与镍能很好地共沉积。当阴极电流密度为2．5A／dm^2、镀液温度为45℃、碳纳米管加入量为0．8～1．2g／L时镀层显微硬度达到最大值。     

16MnR钢焊缝表面纳米复合电镀及抗湿H_2S应力腐蚀试验研究

采用Ni-纳米TiO2复合电镀对16MnR钢焊缝进行表面处理,运用均匀设计方法,研究了镀液温度、阴极电流密度、搅拌速度、纳米TiO2浓度等对复合电镀过程的影响,优选出Ni-纳米TiO2复合电镀的最佳工艺配方.借助金相显微镜、扫描电镜(SEM)与能谱仪(EDS)对复合镀层的微观形貌、组织结构及成分组成进行测试分析.恒载荷拉伸试验结果表明:普通电镀层的抗湿H2S应力腐蚀性能是无镀层的1.9倍,而Ni-纳米TiO2复合电镀层的抗湿H2S应力腐蚀性能是无镀层的4.1倍;镀层中纳米材料的引入,使得金属表面局部晶粒纳米化,提高了16MnR焊缝抗湿H2S应力腐蚀的能力.     

高速电镀

随着生产的发展和科学技术的进步,为了提高生产效率和经济效益,在电镀工艺方面高速电镀受到了人们的重视。为了实现高速电镀,主要采用以下几种措施: (1)提高镀液中沉积金属离子的浓度。 (2)在镀液中加入大量导电盐类。 (3)将电镀液强烈搅拌或利用泵快速循环。 (4)提高镀液温度。高速电镀与常规电镀相比,对镀层性能有一定影     

Fe-SiCp复合电铸层的制备工艺

研究在Q235钢表面上复合电铸铁基SiCp摩擦材料的制备工艺,探讨了镀液中SiCp的浓度、电流密度、pH值和镀液温度对电铸层中SiCp含量和电铸层性能的影响规律.结果表明当镀液中SiCp的浓度为35 g/L、电流密度为3.5 A/dm2、pH值在1～1.5、镀液温度为35℃时,复合电铸摩擦层的干摩擦因数在0.55～0.60,磨损率小于0.42×10-7 cm3/J,达到了常规法生产的粉末冶金摩擦材料所要求的性能指标.     

Ni-Si3N4复合电镀工艺与耐磨性研究

研究了镀液Si3N4浓度，阴极电流密度、pH值、温度和搅拌方式等工艺参数对Ni—Si3N4复合镀层微粒含量和镀层硬度的影响，在盘销摩擦磨损实验机上对镀层进行了磨损实验。通过实验确定了Ni-Si3N4复合电镀的最佳工艺。结果表明：随着Si3N4共析量的增多复合镀层硬度提高，耐磨性增强；在浸油润滑的条件下，复合镀层的摩擦因数低于纯镍镀层，复合镀层的磨损量小于普通镀镍层。磨痕表面观察表明复合镀层的磨损以磨料磨损为主。     

Ni-B_4C复合涂层制备工艺及性能的研究

通过正交设计,研究了Ni-B4C复合电镀工艺,在充分分析各不同镀液组成和工艺条件下,得出了其最佳镀液组成和工艺参数。研究了镀液中B4C含量对Ni-B4C复合镀层的显微硬度、高温抗氧化性能和耐蚀性能的影响。结果表明,随着B4C颗粒加入量的增加,镀层的显微硬度明显增加,由于B4C微粒加入到电镀Ni复合镀层中可显著地提高基体的抗氧化性,还可降低镀层的耐腐蚀性。     

氯化物体系三价铬电镀工艺研究

开发了一种氯化物体系三价铬电镀工艺。讨论了Cr（Ⅲ）、配位剂、导电盐、硼酸、润湿剂、去极化剂、pH和温度等工艺参数的影响。通过Hull cell试验和小槽挂镀试验,制备了氯化物体系三价铬电镀用石墨阳极。并确定了全套工艺规范。测定了镀液及镀层的性能,结果表明,该体系具有良好的稳定性。在10-20A／dm^2光亮电镀范围内,分散能力为70％-84％,覆盖能力为100％,所得镀层颜色白亮。耐蚀性优良,综合性能与国外同类产品相当。     

影响镀铬层孔隙率的因素和解决措施

硬铬镀层具有良好的耐磨性和低摩擦因数,故在起落架产品上得到广泛应用。孔隙率作为镀铬工艺周期控制项目之一,其测试合格率低不仅影响现场产品的正常交付,对于硬铬镀层的气密质量亦有很大影响。通过开展不同的表面状态、镀前预处理和电镀加工过程各工艺参数等方面的交叉工艺试验,进一步分析电镀过程中槽液温度、电流密度和电镀试件对试样电镀镀铬层孔隙率的影响,制定切实可行的提高镀铬层孔隙率测试合格率的解决措施,孔隙率合格率显著提高。结果表明:电镀前加强试样基体的检查,镀前预处理彻底,电镀过程中槽液配比、槽液温度、电流密度、电镀时间等参数对镀层孔隙率均有很大影响。     

复合电沉积制备纳米钡铁氧体/钴镍合金磁性镀层

采用复合电沉积技术制备了纳米钡铁氧体(BaFe_(12)O_(19))/钴镍合金磁性镀层,研究了纳米钡铁氧铁颗粒对镀层表面形貌及磁性能的影响和镀液中BaFe_(12)O_(19)颗粒含量、电流密度、镀液温度、施镀时间等电沉积工艺参数对复合镀层矫顽力和最大磁能积的影响。结果表明:镀液中加入纳米钡铁氧体颗粒通过优化电沉积工艺可以制备出磁性复合镀层,可明显提高镀层的最大磁能积和矫顽力;以上四种工艺参数对镀层的最大磁能积和矫顽力有明显影响,但影响规律各不相同。