苝染料杂化氧化锌薄膜的电沉积制备与表征

用含氯化锌(ZnCl2)和苝染料的二甲基亚砜溶液做电解液，可在ITO(氧化铟锡)导电玻璃上电化学沉积有机-无机杂化薄膜．薄膜的粒径尺寸约为300nm，杂化染料后的氧化锌(ZnO)薄膜的紫外可见吸收光谱相比纯ZnO薄膜明显宽泛而且偏向可见光部分．实验证明了染料敏化法提高ZnO薄膜光吸收能力的可行性．     

电沉积法制备纳米SnO_2薄膜

采用一种电沉积法室温下制备纳米SnO2薄膜。经研究得到了电沉积SnO2薄膜的最佳工艺条件:电流密度、电沉积时间、主盐浓度、游离酸浓度分别为i=8 mA.cm-2,t=120 m in,c(SnC l2)=0.02 mol/L,c(HNO3)=0.03 mol/L。用X射线衍射、红外光谱和扫描电镜、透射电镜等对薄膜的物相和微观结构、表面形貌等进行了研究。结果表明,室温下干燥得到的薄膜由SnO2.xH2O组成,但经过400℃热处理后,逐渐转变成结晶较为完整的四方结构SnO2薄膜,薄膜的表面较为平整、呈多孔状,薄膜粒径大小为8~20 nm。     

可溶性的含羧基苝酰亚胺类化合物的合成及其光谱性质研究

本文主要以酐(1)为起始物,通过在环母体结构的1、6、7、12位上引入苯氧基和对甲基苯氧基合成了另外两种酐化合物(2a和2b);所得到的酐化合物与6-氨基已酸进行反应,合成了3种可溶性的含有羧基的酰亚胺化合物(3a、3b和3c),使用红外、紫外、荧光1、H-NMR,元素分析对所合成的化合物进行了表征.经研究发现,环母体结构的1、6、7、12位上苯氧基和对甲基苯氧基的引入,能使得所合成的含羧基酰亚胺类化合物的最大吸收波长分别红移了44.1 nm和50.1 nm;Stokes位移变大,分别为34.1 nm和30.0 nm;而荧光量子产率有所降低但下降趋势不明显.     

电沉积制备Co-Pt-Mo磁性薄膜

通过电沉积方法在铜基底上制得Co-Pt-Mo磁性薄膜。通过对镀液的循环伏安分析,确定了合适的沉积电位。研究了pH值对薄膜的成分、表面形貌、结构以及磁性能的影响。结果表明:随着pH值的增大,薄膜中Co的质量分数从26.9%逐渐增加到63.8%,矫顽力与比饱和磁化强度分别从0.3kA/m和189kA/m增加到24.1kA/m和1 283kA/m。     

苝酰亚胺衍生物抗肿瘤作用的研究进展

恶性肿瘤是人类因疾病死亡的主要因素,新型高效低毒的抗肿瘤药物已成为目前社会研究的热点。苝酰亚胺衍生物(perylenediimides derivatives, PDIs)是具有共轭大π键的大分子,荧光效率优异、稳定性高且化学可修饰性强,可作为抗肿瘤药物、药物载体、医用荧光探针等用于肿瘤疾病的诊断和治疗。本文综述了近年来国内外学者对苝酰亚胺衍生物在抗肿瘤作用方面的研究概况,并对其发展做了展望。     

单边苯基苝酰亚胺的合成工艺研究

研究了以3,4,9,10-苝四羧酸二酐为原料,经过水解,酸酐化,苯胺酰亚胺化,乙酸铵条件下酰亚胺化,最终制备得到不对称的N-苯基苝酰亚胺分子。通过红外光谱分析表征了结构。     

二甲基亚砜有机溶液中Bi-Sb薄膜温差电材料的电沉积制备

采用循环伏安曲线以及稳态极化曲线的测试方法分析了二甲基亚砜有机溶液中纯Bi、纯Sb以及Bi-Sb二元体系在Ti基体上的还原过程。结合分析结果,采用直流恒电位方式电沉积制备了Bi-Sb二元薄膜温差电材料,并采用X-射线衍射以及塞贝克系数测试对不同电位下制备出的Bi-Sb二元薄膜温差电材料的物相结构及性能进行了表征。实验结果表明,在Ti基体上Bi3+、Sb3+离子的氧化还原均为不可逆过程,前者的阴极还原过程仅由离子扩散造成,而后者的还原过程中涉及到了离子的吸附,二者沉积电位接近,共沉积过程是一步完成的。对制备出的材料的物相以及性能的分析结果表明,电沉积制备出的材料确为Bi-Sb二元合金,随着沉积电位的负移,温差薄膜电材料的表面变得粗糙,在不同电位下沉积出的材料均为P型温差电材料,塞贝克系数随电位变化不大。     

电泳电沉积法制作功能性薄膜

概述了电泳电沉积的机理及其用于制作各种功能性薄膜材料，电泳电沉积在材料领域具有广阔的发展前景。     

电沉积制备ZnSe薄膜材料的研究进展

综述了国外电沉积制备ZnSe薄膜的研究进展,尤其是在酸性电解液溶液中电沉积制备ZnSe薄膜、电沉积掺杂制备p型和n型ZnSe薄膜,且阐述了电沉积ZnSe薄膜材料的特性和机理,对其前景进行展望,提出了今后的重点研究方向.     

电沉积制备纳米迭层薄膜材料

1 前言 纳米迭层膜是指由许多层厚度均在纳米量级的单层膜组成的薄膜,通常具有周期性调制结构,在不足1μm厚的膜层中,往往包含几十至几百个双层膜(一个双层膜为一个人工调制周期)。当膜层的厚度减小到一定程度时,其微观结构不同于体材。比如在单晶基底上可以获得外延生长的晶体结构,称为超晶格。这类材料由于在结构上具有纳米尺寸,从而表现出”尺寸量子效应”,具有独特的,机械、电、磁、光及化学性能。自70年代以来超晶格结构材料吸引了众多学科中的大批研究者。有     

铸铝合金在有机羧酸体系中电化学陶瓷成膜

利用电化学沉积陶瓷膜（EDCF）技术将铸铝ZL108合金置于有机羧酸复合体系，制得了具有较高硬度和良好外观的灰色类陶瓷膜。详细研究了各工艺参数对膜层性能的影响，结果表明，有机羧酸是主要成膜物质；金属硫酸盐是阳极反应的活化剂，但浓度过高会加快膜层溶解；方波脉冲电源有利于生成厚膜；峰值电流密度越大，成膜时间越短，但过大会使膜层减薄；溶液pH值、搅拌等对成膜过程有一定影响。     

铝表面无机非金属膜层的阳极沉积

对铝在Ｎａ２ＷＯ４－Ｈ３ＰＯ４溶液中的阳极极化行为进行了研究。结果表明,在高电压、大电流的作用下,铝表面可沉积一层致密的无机非金属膜层。该膜层与其底金属结合牢固,具有较高的硬度、耐磨和耐蚀性能。采用电化学方法进行无机非金属膜层沉积的表面处理方法,工艺简单、成膜速度快,具有很好的工业应用前景。     

Ni-Co磁性薄膜的电化学沉积及磁性能

研究了电流密度和温度对电沉积Ni-Co薄膜形貌、晶体结构及磁性能的影响。结果表明:随着电流密度的增加,Ni-Co薄膜的比饱和磁化强度先增大后减小,在200A/m2时达到最大值;电流密度对薄膜的结晶度和晶粒尺寸均有影响;在较高温度下制备的薄膜表面较粗糙,这是由于温度的升高致使析氢加剧。     

电化学沉积制备氧化钼/碳纳米管复合纤维及其电化学行为

以电化学沉积法将氧化钼（MoOx）沉积于宏观碳纳米管（CNT）纤维上,制得氧化钼包覆碳纳米管复合纤维（MoOx/CNT）,研究了复合纤维的结构、相组成及电化学性能。结果表明：该复合纤维由氧化钼均匀包覆碳纳米管束的同轴纳米纤维构成,氧化钼包覆层厚度为100～175nm,碳纳米管束直径为20～60 nm,能谱分析表明包覆层含Mo和O;将该复合纤维用于电化学系统超电容,电化学测试其具有明显的电化学活性,电容量为19 F/g;该复合纤维可用于发展电化学功能纤维或编织储能器件。     

电化学沉积铁基软磁合金薄膜的研究进展

铁基合金软磁薄膜具有高饱和磁通密度、低矫顽力,高磁导率、高电阻率、低损耗等特点,广泛应用于电子信息、国防、航空航天等领域.阐述了铁基合金软磁薄膜的制备方法,电化学沉积铁基合金薄膜的特点、种类和性质,并概述了电化学沉积铁基合金镀层的研究趋势.     

垂直排列法组装胶体晶体的最新进展

光子晶体是一种具有光子带隙的新型功能材料．利用胶体粒子自组装三维光子晶体由于其制备过程比较经济、简单，从而为很多人所关注．目前报道的方法已有多种．其中垂直排列法的简便易行使得其受到了广泛的研究，但另一方面这种方法本身的缺点也限制了它的使用范围．针对这种情况，很多研究机构提出了他们的改进方法．本文简要概述了在这一方面的最新进展，并且在本实验室已能够制备任意单分散、均一尺寸二氧化硅粒子的基础上，采用恒温快速蒸发自组装法得到了高质量的胶体晶体排列．     

脉冲激光沉积ZnO薄膜的表面研究

脉冲激光沉积技术（PLD）目前已成为一种重要的制备氧化锌（ZnO）薄膜的技术,但是由于脉冲瞬间沉积时不能避免产生液滴及形成大小不一的颗粒,因此在制备高质量ZnO薄膜的表面均匀性方面还存在一定弊端。文章采用PLD（KrF准分子激光器：波长248 nm,频率5 Hz,脉冲宽度20 ns）方法在衬底温度450℃和氧气流量10 sccm下以高纯ZnO为靶材、在单晶硅衬底表面沉积120 min成功生长了ZnO薄膜。扫描电子图像（SEM）显示ZnO薄膜表面有明显凸起的颗粒,文章通过俄歇能谱仪对ZnO薄膜进行了研究,分析了ZnO薄膜的表面成分及凸起颗粒微观区域的成分。实验结果表明制备的ZnO薄膜表面明显突起的颗粒为ZnO颗粒,文章为PLD法制备ZnO薄膜易形成大小不一的颗粒提供了理论依据。     

应用电泳沉积技术制备钛酸钡铁电陶瓷薄膜

采用电泳沉积技术在Pt电极基片上制备BaTiO3铁电陶瓷薄膜，探讨了电泳沉积过程中的控制因素（悬浮液体系，电场强度，料浆浓度，沉积时间等）对成膜性能的影响，并对薄膜材料的结构，性能进行了表征，实验结果表明；在1050℃（2h)的烧成温度下，经重复沉积一烧结2-3次可得到基本无缺陷的BaTiO3陶瓷薄膜，测量频率在1kHz，测量频率在1kHz时，室温（23℃）下的介电常数ε=2300，介电损耗tanδ=0.2。     

真空镀TiO2薄膜的生产

采用ZDL-2051型真空镀膜机,用真空蒸发沉积方法制备环保材料TiO2薄膜,并用扫描电子显微镜(SEM)和X射线能量色散谱仪对其表面形貌及成分分别进行了观察、分析和表征.结果表明,薄膜表面均匀、致密、无裂痕.研究了TiO2薄膜的制备和生产工艺.     

碳钢基体镍-磷合金镀层表面沉积TiO2薄膜

采用电沉积法在碳钢镀镍一磷合金镀层表面制备了TiO2薄膜,研究了溶液pH值、沉积时间和电流密度对薄膜增重的影响,分析测定了薄膜的成分及表面形貌。所得最佳工艺条件：pH值为4;时间为40min;电流密度为40-50mA／cm^2。在最佳工艺条件下成功制备了与基体结合良好、致密、均匀的TiO2薄膜。浸泡试验表明TiO2薄膜提高了镍一磷合金镀层在质量分数为10％硫酸和10％氯化钠溶液中的耐蚀性。