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光学薄膜膜厚监控方法及其进展 总被引:7,自引:1,他引:7
针对目前膜厚监控技术的广泛使用和其方法的日益多样性 ,力图对光学薄膜膜厚监控方法作一个全面、细致的描述。包括膜厚监控方法的分类、进展和展望 ,重点介绍了几种膜厚的光学监控方法 相似文献
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极值法是目前国内外真空镀膜膜厚监控中应用最广泛的方法。本文阐述了此法的膜厚监控原理、系统、方法。重点讨论了为提高监控精度而采取的一些改进措施。 相似文献
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本文结合厚膜混合集成电路的设计、制造工艺,介绍了MCM技术的应用,详细说明了如何针对MCM的特点进行厚膜混合集成电路的设计,阐述了设计要求、材料的特点及工艺的控制方法。 相似文献
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主要介绍了AutoCAD在厚膜版图设计中的应用,并在此基础上简要阐述了使用AutoCAD设计厚膜版图的一些方法。 相似文献
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主要介绍了光学薄膜在光通信的无源型器件中的原理及应用,并与光纤光栅和平面光波导型的无源器件作简单比较。 相似文献
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厚膜成膜工艺中膜厚对成膜质量有重大的影响,本文探讨了膜厚的意义,影响膜厚的工艺因素及在实际工作中采取的控制措施。 相似文献
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在厚膜集成电源误差放大电路设计中,采用标准的片式元器件,运用表面组装工艺,使产品制作中工艺方便灵活,成品率大大提高,以片式电阻的贴装弥补了多次印刷工艺带来的成品率下降的缺点。同时介绍贴装技术中再流焊工艺的使用经验,总结了再流焊对电路设计的要求及其优点,说明了表面组装技术用于厚膜电路是一种切实可行的方法。 相似文献
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光学薄膜的制备有真空蒸发、反应蒸发、溅射、等离子体淀积及离子镀等方法。离子镀技术在1963年美国马托斯提出后,经过二十年的发展,已成为将真空蒸发和溅射相结合的制备薄膜的新颖而获得广泛应用的工艺。它在航空工业、机械制造工业、轻工业、电子工业及光学工业等部门中,已显示出了巨大的优越性。这种工艺相对于其它制备薄膜的技术来说,具有许多独特的优点:(1)沉积速率快,蒸发料粒子电离后,动能可达3000~5000eV,沉积速率可达0.24~1μm/min,而溅积仅只达~0.1μm/min;(2)附着力好,粒子高速轰击工件时,能够穿透工件表面,形成一种注入基体的 相似文献
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石英晶体监控膜厚仪的发展与应用 总被引:1,自引:0,他引:1
石英晶体振荡监控光学薄膜厚度是直接监控光学薄膜物理厚度的方法,与工作波段无关,设置简单,各种厚度皆可控制.易于实现自动控制,将会越来越广泛地应用在光学薄膜厚度监控中。本文首先介绍了石英晶体监控膜厚仪监控光学薄膜厚度的原理,然后讨论了石英晶体监控仪的发展和晶振片的稳定性。 相似文献
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<正> 概述 高阻率厚膜浆料广泛用于聚焦控制电位器、分压器及旁路网络。厚膜电阻之所以能被迅速采用,是因为其电阻具有良好的稳定性,及较低的加工成本。过去对电阻材料在 相似文献
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