ClF和F2:两个新的紫外激光系统

1975年，Ewing和Bran根据Mo Ousker等人的理论予见，用电子束激励了I2。此后对F2、Br2和Cl2也进行了成功的实验。I2激光器的波长为342毫微米，Br2的为292毫微米，Cl2的为258毫微米，F2的为158毫 微米。因此，它们与稀有气体卤化物激光器差不多覆盖同一光谱区。尽管如此，但过去对它们的研究却远远不如后者那样详尽。     

塑料薄膜光电探测器

美国Boulder公司已研制了一种新的多用途光电探测器以及一与它配套的独特校准技术。光电探测器由厚度6～12微米的聚氟乙烯或聚二氟乙烯薄膜组成,薄膜两面加有10毫微米厚的镍膜。工作时,薄膜产生偶极矩,它随所吸收的入射辐射而改变。光电探测器由紫外到远红外波长都有均匀响应。它的突出特点是,低噪声、在室温时是1赫带宽1毫微瓦、快响应,可以看到1微秒的脉冲形状,并能扩展到毫微秒范围、     

氮化铝基板薄膜金属化工艺研究

氮化铝（ＡＩＮ）基板由于其优良的热性能和无毒性，成为一种重要的微电子材料。本文从以下三方面研究了氮化铝基板的薄膜金属化问题：（１）金属薄膜同ＡＩＮ基板的附着力；（２）ＡＩＮ基板上薄膜电阻的温度系数；（３）ＡＩＮ基板上ＮｉＣｒ薄膜电阻的功率密度。研究结果表明，氮化铝上薄膜金属化层的附着强度可以大于ＡＩＮ陶瓷本身。成功地将薄膜金属化氮化铝基板应用于功率混合电路和功率对晶体管模块中。     

简讯1

为了保护飞行员免受不同波长的激光辐射损伤,需要存储、配备和安装不同的飞行护目镜,美国空军正在寻找减小对此类护目镜的要求的途径。在得克萨斯州的布鲁克空军基地的航空空间医学部正在研究在执行某一任务前粘附于透明遮光板上,随后即被废弃的预成型薄膜。感兴趣的波长是300毫微米至10.6微米。     

铜薄膜内微孔对其力学性能影响及开裂行为研究

研究了铜薄膜内微孔对其力学性能影响及开裂行为,采用磁控溅射工艺制备聚酰亚胺柔性基板上铜薄膜,通过扫描电镜(SEM)对铜薄膜表面形貌表征、EDS能谱分析及SEM原位拉伸观察实验,得出磁控溅射工艺制备出超薄铜薄膜多为柱状晶结构,且带有微米级孔洞.并测得不同孔隙率铜薄膜载荷与位移增量的变化,由相关公式求出应力-应变关系;分析了不同孔径微孔的上下边缘沿晶开裂,微裂纹萌生、扩展的行为.结果表明:磁控溅射工艺在聚酰亚胺柔性基板上制备的微米级铜薄膜受拉伸时微孔沿晶开裂形成初始微裂纹,孔径≤4μm微孔处局部应力偏低,未能使微裂纹沿晶界改变方向继续扩展,微裂纹受到抑制;在较高的局部应力下,孔径>10μm微孔裂纹继续沿新的晶界方向扩展,与其他微孔裂纹连通;孔隙率越高,多孔微裂纹连通几率越高,薄膜力学性能就越差,且铜薄膜开裂可能性也越高.     

低温大面积生长CNT技术

日本东海大学开发了仅在500℃下用高频等离子来生长碳纳米管(CNT)的大面积薄膜的技术。该技术是先在基板上溅射铁催化剂膜，然后用红外线加热基板，并同时以13．56MHz高频等离子体来分解碳化氢气体而得到CNT薄膜。CNT薄膜将应用于FED冷阴极、电容器、化学传感器等。     

用Nd∶YAG激光器产生紫外光

波长266毫微米的紫外光的高功率脉冲通过下述方法产生,先把Nd∶YAG激光器产生的1064毫微米波长倍频为532毫微米,再用磷酸二氢铵(ADP)把这种绿光倍频为266毫微米。在266毫微米上得到的单高斯型横模的峰值功率为310瓦,而波长532毫微米的入射光之峰值转换效率为54％。重复率为1千赫时,紫外光的平均功率约为35毫瓦。这种脉冲近似三角形其宽度为250毫微秒。这是一种高功率高重复率相干紫外光的新光源。     

一种LTCC基板上薄膜多层布线技术

LTCC基板上薄膜多层布线工艺是MCM—C／D多芯片组件的关键技术,它可以充分利用LTCC布线层数多、可实现无源元件埋置于基板内层、薄膜细线条精确等优点,从而使芯片等元器件能够在基板上更加有效地实现高密度的组装互连。本文介绍了在LTCC基板上薄膜多层布线工艺技术,通过对导带形成技术、通孔柱形成技术和聚酰亚胺介质膜技术的研究,解决了在LTCC基板上薄膜多层布线的工艺难题。     

薄膜绝缘层对陶瓷厚膜电致发光显示器件的影响

采用丝网印刷技术，在Al2O3陶瓷板上印刷、高温烧结内电极及绝缘层制备出陶瓷厚膜基板，进而制备了新型厚膜电致发光显示器（TDEL），整个器件结构为陶瓷基板／内电极／厚膜绝缘层／发光层／薄膜绝缘层／ITO透明电极。对用不同薄膜绝缘材料制备的显示器件的特性进行测试、比较、分析，结果表明薄膜绝缘介质层对器件的阈值电压、发光亮度均有一定的影响，以复合绝缘层的性能最优。最后对器件的衰减特性进行了初步分析。     

室温金刚石色心激光器发射可调谐可见光

天然金刚石晶体经加工形成H3色心，在室温工作中已发射540毫微米激光辐射。L. De Shazer和S. Band在休斯研究所研制出此种新型激光器。 起初观察到的带通为10毫微米，但是其调谐范围最终可达100毫微米。据De Shazer说，色心不出现漂白效应。采用双YAG泵浦染料激光器高达300毫焦的脉冲泵浦金刚石，最佳泵浦波长为494毫微米。进行了敏化研究加宽其激光带宽。此种激光有用短波长闪光灯光泵的可能，此种稳定的室温可调谐器件的潜在应用在遥感和激光对抗方面。     

Na2激光器产生宽带输出

美国衣阿华大学激光室的J. T. Bahns及其同事报导，首次从光致激发的钠分子获得了较宽的宽带激光输出。用氪激光的568毫微米的谱线泵浦，钠在720和830毫微米之间发射。除了由束缚-束缚态跃迁产生通常的谱线成分之外，还有从束缚-自由态跃迁形成的大约有5亳微米宽度的特殊谱线，其峰值位于805和817.5毫微米。     

离子束辅助淀积薄膜

本文叙述了淀积薄膜时助以离子轰击的电子束蒸镀工艺对薄膜特性的某些影响。薄膜置于潮湿大气中,由于吸潮性的减低,而使SiO_2、TiO_2和ZrO_2薄膜的填充密度明显增加。在ZrO_2-SiO_2多层干涉滤光片中,其峰值透过率波长的变化,从不用离子辅助所淀积膜的8毫微米减到用离子束辅助淀积膜的不到1毫微米。     

界面薄膜的制备技术

本文叙述了用机械研磨和离子减薄技术制备透射电镜界面薄膜试样的方法。应用此法,可在透射电镜中,用衍射法观察界面的缺陷和沉淀相。特别适用于某些材料表面上外延或溅射几微米到十几微米薄层的界面结构的观察。不同材料的界面观察,必须采用离子减薄技术,这是化学腐蚀和电解抛光法所不及的。一、薄膜制备: 机械研磨:将欲观察的样品,切割成2毫米宽的条状试样,用丙酮或酒精清洗后,在4条切割好的试样上,涂上一层环氧树脂(江西宜春慈化化工厂生产的通用双管胶粘剂),然后把其中两条外延(溅射)层面对面相互     

多靶直流磁控共溅射系统的研制

本文报道了多靶直流磁控共溅射系统的设计及性能，三个直流磁控溅射枪呈１２０°空间角分布于真空罩上，并聚焦于基板中心，靶的有效直径为φ５０ｍｍ，靶平面的法线与基板的法线成６０°夹角，基板可绕中心轴旋转。该系统中生长出φ７０ｍｍ范围内膜厚均匀的大面积薄膜，特别适合于制备大面积、多组元金属氧化物薄膜及合金薄膜。     

精密衰减器的工艺试验

薄膜电阻是微波混合集成电路的重要组成部分,可减少外贴元件,从而减轻重量,缩小体积,提高电路的可靠性和稳定性。钽系薄膜电阻性能良好,在微波集成电路、薄膜电路中广泛应用。我们试制的衰减片所采用的薄膜电路工艺:在99％Al_2O_3陶瓷基片上溅射钽膜;用光刻法刻出钽电阻体;蒸发铬金膜;光刻电极(作为连接同轴衰减器的内外导体);电镀加厚电极至5～8微米;在250℃下热老化;以阳极化调整电阻达到要求值。衰减片外型尺寸为19×8.5×0.55毫     

LTCC基板上薄膜多层布线工艺技术

LTCC基板上薄膜多层布线工艺是MCM-C/D多芯片组件的关键技术。它可以充分利用LTCC布线层数多、可实现无源元件埋置于基板内层、薄膜细线条等优点,从而使芯片等元器件能够在基板上更加有效地实现高密度的组装互连。文章介绍了LTCC基板上薄膜多层布线工艺技术,通过对导带形成技术、通孔柱形成技术和聚酰亚胺介质膜技术的研究,解决了在LTCC基板上薄膜多层布线中介质膜"龟裂",通孔接触电阻大、断路,对导带的保护以及电镀前的基片处理等工艺难题。     

海军研究所研制软X射线激光器

据海军研究所的科学家们报导，他们已产生波长是53.22毫微米的相干的激光，这是迄今为止报导过的波长最短的相干光。工作于海军研究室的有关研究工作者们在气体压力皆为40乇的氦和氖中通过四光子(共振坛强）、波长266.1毫微米(Nd:YAG激光的四次谐波)锁模激光的五次谐波转换获得53.22毫微米的辐射。已在马里兰州盖瑟斯堡的国家标准局召开的有关X-射线谱的国际物理学会议上报导了这项实验，用焦距为10厘米的氟化钙透镜把泵浦辐射聚焦到直径为500微米的孔径(取代垂直入射真空辐射光谱仪入射狭缝)的中心处，焦斑大小为10微米。     

纳米级PZT颗粒制备及压电性能检测

对微米级锆钛酸铅(PZT)粉体的无水乙醇溶液进行兆赫超声处理,制备PZT纳米颗粒,将试样滴于蒸金硅片上并进行烘干处理,采用压电力显微镜观测其尺寸、表面形貌及纵向压电系数.试验结果表明,试样中微米级PZT颗粒的纵向压电系数在20～40 pm/V上下浮动,纳米级PZT颗粒纵向压电系数在2～10 pm/V上下浮动,均具有压电性能.该方法为制备厚膜压电器件提供了一种可行的技术途径.     

聚合物透明薄膜基板

大日本印刷开发了聚合物透明薄膜基板,在此基板上镀防水汽和氧气的膜,不仅用于液晶显示,也用于有机发光显示,将能实现柔软性显示。计划今年开始出销聚合物透明薄膜基板产品聚合物透明薄膜基板     

基于LTCC基板的薄膜微带线制作技术

本文对厚、薄膜多层互连基板的发展进行了简单的分析，对基于LTCC基板的薄膜50Ω微带线的设计、制造、测试进行了介绍。结果表明LTCC基板表面实施薄膜工艺与厚膜工艺相比有利于获得更好的微波一致性。