碱土族金属掺杂对C_(60)薄膜的电子结构与性质的影响

将Ｓｎ粉末和Ｃ６０粉末共同蒸发获得碱土族金属掺杂的Ｃ６０薄膜样品,与未掺杂的纯Ｃ６０样品一起进行扫描电镜、紫外可见吸收光谱和电阻随温度变化特性的测量,分析比较掺杂对薄膜样品的组成、结构和性质的影响．结果显示,掺锡后组成薄膜的纳米颗粒略有增大并突出表面,使薄膜的电子发射阈值降低;掺入的Ｓｎ原子在禁带中形成杂质能级,使电子吸收跃迁由原来的直接跃迁变为间接跃迁,导电性也由原来的绝缘体变为Ｎ型半导体．     

退火对C_（60）薄膜电学性质的影响

本文研究了退火对Ｃ６０膜电导率的影响．结果表明，从室温到２００℃的温度范围内，Ｃ６０膜具有明显的半导体性质，室温电导率在１０－５～１０－７（Ω·ｃｍ）－１的范围内．薄膜在２００℃温度下恒温保持过程中，当时间小于２．５小时时电导率的增大是由于薄膜中不稳定的ｈｃｐ相的减少引起的；而相互通连的晶粒数目的减少导致退火时间大于２．５小时的薄膜电导率的减小．相互通连的晶粒数目的减少使得晶间势垒变高，从而使电导率变小．通连晶粒间缺陷的减少导致激活能变大，这些缺陷在Ｃ６０膜的能带中引入缺陷态．σ－１／Ｔ图中高温区域电导偏     

氟金云母衬底上C_(60)薄膜的光学性质

用热壁外延法在氟金云母衬底上生长出了高质量 C6 0 薄膜 ,用原子力显微镜观察了样品的表面形貌 .测量并分析了不同厚度 C6 0 薄膜的紫外 -可见吸收光谱 .由测量的透射及反射光谱 ,经计算得到了吸收系数与入射光子能量的关系 .利用结晶半导体的带间跃迁理论 ,对禁戒的带间直接跃迁 hu→ t1 u和电偶极允许的带间直接跃迁 hu→ t1 g的带隙分别进行了计算     

在氩气氛下生长的C_(60)薄膜的结构与特性

采用惰性气氛蒸发法制备 C6 0 薄膜 ,用原子力显微镜 (AFM)、X射线衍射 (XRD)、红外光谱 (IR)及紫外 -可见光谱研究了在氩 (Ar)气氛下生长的 C6 0 薄膜的表面形貌、结构及光吸收特性 .AFM测量表明在 Ar气氛下生长的C6 0 薄膜的表面生长岛更尖锐 ,并且有较大直径的表面粒子 .由紫外 -可见光吸收谱测量发现 Ar气氛下生长的 C6 0 薄膜的强度和吸收峰位置与在真空下生长的 C6 0 薄膜比较有大的红移 .可求出在 Ar气氛下生长的 C6 0 薄膜的光学禁带宽度 Eg=2 .2 4e V,比在真空下生长的 C6 0 薄膜禁带宽度 (2 .0 2 e V)要大 .与真空下生长的 C6 0 薄膜比较     

氢掺杂C_(60)薄膜的电导性质研究

本文报道了用微波等离子法制备氢掺杂Ｃ６０薄膜．直流电导测量表明,室温下掺杂的电导率要比未掺杂膜的大５个量级．经５７３Ｋ温度退火后,掺杂膜的电导接近,但仍要高于本征膜的电导率,说明仍有少量的氢留在薄膜中．     

铝纳米薄膜对铜纳米薄膜的防护作用

铜纳米薄膜在微电子器件中应用广泛。然而,纳米尺度的铜表面极易发生氧化,影响铜纳米薄膜的电学性能。利用物理气相沉积方法制备了铜纳米薄膜,研究了基底粗糙度对铜纳米薄膜电学性能退化的影响,发现基底粗糙度越大,铜的电学性能退化越快。通过在铜纳米薄膜的表面蒸镀铝纳米薄膜对铜纳米薄膜进行防护,研究了铝纳米薄膜厚度对其在不同环境下防护效果的影响,结果显示铝膜厚度越大,对铜纳米薄膜的防护效果越好。通过高温破坏测试,发现铝纳米薄膜能有效地提高铜纳米薄膜的极限工作温度,当铝纳米薄膜厚度为10 nm时,可将铜纳米薄膜的极限工作温度提高2.5倍。     

纳米硅薄膜界面结构的微观特征

对使用等离子体增强化学汽相沉积法（ＰＥＣＶＤ）制备的纳米硅薄膜（ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ），使用ＨＲＥＭ及ＳＴＭ技术观测了其显微结构，给出大量的界面结构图象．首次获得有关晶粒及界面区中原子的分布情况．使我们认识到ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ膜中界面区内的硅原子仍然是具有短程有序性并不是完全无序的．     

碱土族金属掺杂对C60薄膜的电子结构与性质的影响

将Sn粉末和C60粉末共同蒸发获得碱土族金属掺杂的C60薄膜样品，与未掺杂的纯C60样品一起进行扫描电镜，紫外可见吸收光谱和电阻随温度变化特性的测量，分析比较掺杂对薄膜样品的组成，结构和性质的影响，结果显示，掺锡后组成薄膜的纳米颗粒略有增大并突出表面，使薄膜的电子发射阈值降低，掺入的Sn原子在禁带中形成杂质能级，使电子吸收跃迁由原来的直接跃迁变为间接跃迁，导电性也由原来的绝缘体变为N型半导体。     

C60与金刚石薄膜成核关系的研究

采用热丝化学气相沉积法在覆盖C60膜的硅基片上沉积金刚石膜,研究了金刚石膜的成核与生长.实验结果表明,金刚石的成核密度可达1×106Cm-2,利用这种方法可实现衬底无损淀积金刚石膜.C60之所以能够促进金刚石成核,我们认为主要与C60分子本身独特的结构及H原子的激活作用有关.同时,高温下C60分解后残留的石墨等碳碎片以及C原子与衬底Si反应生成的SiC都可作为金刚石的成核位.     

A low voltage and small hysteresis C_(60) thin film transistor

Organic thin film transistors with C_(60) as an n-type semiconductor have been fabricated.A tantalum pentoxide(Ta_2O_5)/poly-methylmethacrylate(PMMA) double-layer structured gate dielectric was used.The Ta_2O_5 layer was prepared by using a simple solution-based and economical anodization technique.Our results demonstrate that double gate insulators can combine the advantage of Ta_2O_5 with high dielectric constant and polymer insulator for a better interface with the organic semiconductor.The performanc...     

C_（60）对ps光脉冲的限幅效应

研究了Ｃ６０甲苯溶液对ｐｓ光脉冲的限幅效应，证明了光限幅效应是单重态激发态吸收的结果；同三重态激发态吸收光限幅效应相比，单重态激发态吸收光限幅具有限幅能量低、响应速度快等优点。实验结果与理论拟合结果基本符合。     

CuPc/C60 heterojunction thin film optoelectronic devices

The optoelectronic properties of heterojunction thin film device with ITO/CuPc/C60/Al structure have been investigated through analyzing their current–voltage characteristics, optical absorption and photocurrent. In this organic photovoltaic device CuPc acts as an optically active layer, C60 as the electron–transporting layer and ITO and Al as electrodes. It is observed that under illumination, the excitons are formed, which subsequently drift towards the interface with C60, where an internal electric field is present. The excitons that reach to the interface are subsequently dissociated into free charge carriers due to the electric field present at the interface. The experimental results show that in this device the total current density is a function of injected carriers at electrode–organic semiconductor surface, the leakage current through the organic layer and collected photogenerated current that results from the effective dissociation of excitons.     

CuPc/C60 heterojunction thin film optoelectronic devices

The optoelectronic properties of heterojunction thin film devices with ITO/CuPc/C60/A1 structure have been investigated by analyzing their current-voltage characteristics,optical absorption and photocurrent.In this organic photovoltaic device,CuPc acts as an optically active layer,C60 as an electron-transporting layer and ITO and A1 as electrodes.It is observed that,under illumination,excitons are formed,which subsequently drift towards the interface with C60,where an internal electric field is present.The excitons that reach the interface are subsequently dissociated into free charge carriers due to the electric field present at the interface.The experimental results show that in this device the total current density is a function of injected carriers at the electrode-organic semiconductor surface,the leakage current through the organic layer and collected photogenerated current that results from the effective dissociation of excitons.     

C60薄层作为CVD金刚石成核区的研究

本文研究了在微波等离子体ＣＶＤ系统中，金刚石在Ｃ６０蒸发膜表面的成核行为，观察到金刚石晶核聚集现象，并且讨论了这种成核行为的产生机理。     

C_(60)作激子阻挡层的有机发光二极管

制备了结构为ITO/CuPc(25nm)/NPB(40nm)/Alq3(xnm)/C60(ynm)/LiF(1nm)/Al(100nm)的有机发光二极管(OLEDs),研究了C60插入层对器件性能的影响。结果表明,在无C60的器件中,当Alq3层较厚时,器件的电流密度-电压(J-V)曲线右移,不利于获得高功率效率;当Alq3层较薄时,又会导致激子在LiF/Al阴极的严重淬灭。实验优化得出,在无C60的器件中,Alq3厚为45nm的器件可获得最高的功率效率。在Alq3与LiF之间插入15nmC60层后,对器件的J-V曲线几乎没有影响,但C60层阻挡了激子向阴极扩散,减少了淬灭。当在Alq3厚度为45nm的器件的Alq3和LiF间插入15nmC60层后,可使器件获得更高的功率效率,尤其是插入15nmC并将Alq厚度降至30nm,获得了最大的功率效率。     

C_(90)分子单层膜在Au(111)表面的STM研究

在超高真空中使用热蒸发方法,在Au(111)表面上制备了C90分子的分子单层膜,并利用超高真空低温扫描隧道显微镜在120 K温度下对其结构进行研究。观察到C90分子在Au(111)表面上先是沿着台阶边缘生长,分子铺满一层后,会在薄膜上形成岛状结构。本文对岛状结构进行了原位高分辨表征,观察到C90分子在正偏压和负偏压下的几种不同形貌,并给出了各种形貌所对应的C90分子构型。     

C60半导体光电器件

讨论了两类Ｃ６０薄膜作为畔导体材料制备的光电器件：Ｃ６０电致发光二级管和半导体聚合物／Ｃ６０导质结二极管、分析了器件的工作原理、指出了Ｃ６０作为半导体光电材料潜在的应用领域。     

纳米尺寸的C60-Cu颗粒膜的制备和形貌研究

本文采用双源共蒸的方法,在室温、１００℃和１６０℃的ＮａＣｌ衬底上,制备了不同组分的Ｃｕ－Ｃ６０颗粒膜并在１６０℃对样品进行了退火研究,结果表明样品的热稳定性较好,通火对样品的微鸨菜影响不显著,这可以由金属铜和Ｃ６０之间的强互作用来解释。样品的ＴＥＭ和ＡＦＭ形貌和 结构研究表明,薄膜的颗粒度大小与沉积温度及沉积速率和金属Ｃ６０相对组分有关。