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回顾了三价铬电镀的发展历程,介绍了硫酸盐体系三价铬电镀装饰铬的新工艺。新工艺镀铬速度增加到0.057~0.077μm/min,并且速度不随时间而变化。镀液性能稳定,操作简单,便于维护。镀层质量优良,色泽美观,厚度能够达到0.3μm以上。中性盐雾试验、恒定湿热试验、冷热冲击试验、人造汗液测试、抗化学污染测试均能满足行业标准的要求。新工艺性能优越,能够更好地满足广大客户的要求。 相似文献
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三价铬水溶液电镀非晶态铬工艺 总被引:18,自引:2,他引:16
报导了一种Cr3 + 水溶液中电镀非晶态铬新工艺。采用由适当的络合剂、稳定剂、添加剂以及Cr3 + 盐组成的电镀液, 于室温下电沉积出厚度达11 μm 、外观接近镜面的非晶态铬镀层。实验发现, 蓝膜的生成是光亮非晶态Cr 层得以电沉积出来的首要条件。采用X 射线衍射和扫描电子显微镜等方法对铬镀层的结构进行了分析。结果表明, 铬镀层的X 射线衍射图中只有非晶态铬的宽化峰; 扫描电子显微镜结果显示所得Cr 镀层没有针孔, 只有少数细小的裂纹。对Cr3 + 水溶液中电镀Cr 的工艺条件和络合剂、稳定剂、添加剂的作用进行了探讨 相似文献
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开发了一种环保型三价铬彩色钝化工艺,通过实验研究了钝化液成分及钝化工艺对钝化膜耐腐蚀性能和外观的影响。结果显示:钕铁硼镀锌件通过三价铬彩色钝化可以获得致密的钝化膜,钝化膜具有优良的耐腐蚀性能,能够耐盐雾腐蚀96h。 相似文献
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甘氨酸体系三价铬电沉积工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了研究1种以甘氨酸为络合剂的三价铬镀铬工艺,采用正交试验法确定三价铬电沉积的最佳工艺,即0.6mol/L CrCl3*6H2O,0.6mol/L Gly,50g/L NH4Cl,0.6mol/L AlCl3·H2O,0.5mol/L NaCl,60g/L H3BO3,20g/L NaF,0.1mol/L KBr,适量的润湿剂和去极化剂,pH=1.8,Jk=15A/dm2,θ=20℃,时间15min.并具体讨论了络合比、阴极电流密度、时间、温度等因素对镀层厚度和外观的影响;试验结果证明:在该种工艺下可获得光亮、呈准镜面外观、厚度达8μm 左右的铬镀层;且经镀层性能检测表明:该镀层表面光亮、平整,与基体材料结合良好,具有一定的耐腐蚀性能. 相似文献
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目的研究硫酸铈对三价铬钝化膜耐蚀性能的影响。方法通过在三价铬镀铬盐溶液中分别添加0.3、0.5、0.8、1.0、1.5 g/L的硫酸铈,然后通过极化曲线测试,对比不同硫酸铈添加量的钝化膜的腐蚀电流密度,确定硫酸铈在三价铬镀铬盐溶液中的最佳添加量,然后分别制备未添加硫酸铈和添加最佳添加量硫酸铈的三价铬钝化膜,通过电化学工作站CHI660E测量Tafel极化曲线和电化学阻抗谱。分析钝化膜的电化学性能,研究不同钝化膜的耐腐蚀性。观察试样表面的微观形貌,对比添加硫酸铈和未添加硫酸铈的钝化膜的微观形貌。结果通过极化曲线测试发现,当硫酸铈的添加量为1.0 g/L时,钝化膜的腐蚀电流密度小于其余添加量的钝化膜,添加硫酸铈和未添加硫酸铈的钝化膜的耐蚀性能不同,添加硫酸铈后的钝化膜性能得到改善,且钝化膜膜层的微观形貌发生改变。结论添加硫酸铈后,三价铬钝化膜的耐腐蚀性能增强。当硫酸铈的添加量为1.0 g/L时,腐蚀电流密度最小,为3.835×10~(-6) A/cm~2,耐腐蚀性能优于其余钝化膜。 相似文献
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目的解决现有氯化盐体系和硫酸盐体系三价铬电镀存在的问题。方法以甲酸铬为主盐,甲酸铵、尿素和苹果酸为络合剂,通过Hull槽试验和方槽试验,研究铬离子、甲酸铵、尿素、苹果酸的浓度以及镀液pH值、镀液温度、电镀时间等工艺参数对黄铜表面三价铬镀层形貌、沉积速率和光亮范围的影响。结果甲酸铵和尿素分别与Cr3+形成活性络合物,苹果酸具有pH值的缓冲作用。最佳的工艺条件为:Cr3+浓度0.4 mol/L,甲酸铵浓度0.5 mol/L,尿素浓度0.2 mol/L,苹果酸浓度0.05 mol/L,镀液pH值3.5,镀液温度25~30℃。结论该甲酸盐三价铬电镀工艺具有较宽的光亮范围,镀层孔隙率低,光亮致密,沉积速率较高,与铜基体结合良好,结构为混晶态。在室温、电流密度为15 A/dm2的条件下电镀5min,镀铬层厚度即可达到1.78μm,满足装饰性镀铬层的要求。 相似文献
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