化学蒸镀法制作透明导电膜

日本中国涂料公司,最近发表了采用有机锡化合物的化学蒸镀法(CVD法),制作透明导电膜的新技术。此法称为反跳反转化学蒸镀法,可防止过去化学蒸镀法白雾状浑浊的弊病。与物理蒸镀法制作透明导电膜相比,成本可更低,予期透明导电膜应用于工业的范围,将会有进一步扩大。一般电的良导体是不透过可见光的,然而透明导电膜是具有高导电性和透明性的特     

最近的等离子技术

最近出现了各种用干法制作材料的方法,例如,采用真空蒸镀法和溅射法制薄膜。但由于其成膜速度很慢,所以实用化受到限制。近来又出现了利用等离子技术制造薄膜的方法。为了避免离子对基板的伤害,又研究了仅用自由基离子,由光激发的办法制作薄摸。构成薄膜的要素是原子,如以其附着于基板上的形态分类,大致可分为三类:1.蒸镀;2.溅射;3.在气体和基板界面反应。现将这三种干法制膜技术分述如下。     

AZO透明导电薄膜的制备技术及应用进展

概述了国内外AZO透明导电薄膜的多种制备技术和开发应用进展。详细介绍了磁控溅射、溶胶-凝胶、脉冲激光沉积、真空蒸镀、化学气相沉积等工艺在AZO薄膜制备中的研究现状,并且在对AZO膜与ITO膜性能比较的基础上,指出AZO薄膜的产业化前景好。     

聚乙烯醇缩甲醛(PVF)有机膜上沉积金属膜的XPS研究

介绍了在聚乙烯醇缩甲醛（PVF或Formvar）膜上蒸镀Au，Pd和Ag金属膜，用XPS研究其表面与界面的化学组分与价态。实验发现，在PVF膜上蒸镀Au，Pd和Ag后，三种不同价态的C1s相对含量均发生了变化。表明金属原子在PVF膜上的沉积是化学吸附。     

金属蒸镀膜的附着力测定

1.前言 对于蒸镀膜在基板上的附着强度和把该膜从基板上剥离下来时的破坏过程的研究,在考虑蒸镀膜应用技术及其膜的持久性时是重要的。并且,做为蒸镀膜的物性研究也是很有兴趣的问题。 在这里通过真空蒸镀法就测定玻璃基板上蒸镀金属(银、铜、铝)的附着力、膜厚度的依存性以及基板温度的依存性的结果进行报告。 2.试验材料的制作 附着力测定时所用材料(银、铜、铝)的蒸镀是采用扩散泵排气系统进行排气的真空室。试验材料的纯度用99.999～99.99%在锦蒸发器中进行加热,其蒸发速度为2～4A/s。蒸镀过程中的真空度为4 × 10-3帕。基板采用 26 ×…     

耐有机溶剂型分离膜的制备及应用研究进展

有机溶剂的分离与纯化是近年来的研究热点,众多分离与纯化技术应运而生。耐有机溶剂膜分离技术具有高效节能、操作简便的优势,受到研究者们的普遍关注,在化工、环境、医药、纺织等领域具有广阔的应用前景。文中概括了耐有机溶剂型分离膜的分离技术与分类,阐述了耐有机溶剂型分离膜的制备方法,介绍了耐有机溶剂型分离膜的应用进展,并对耐有机溶剂型分离膜的发展趋势进行了展望。综述内容可为耐有机溶剂型分离膜的推广和应用提供策略支撑。     

聚乙烯醇缩甲醛（PVF）有机膜上沉积金属膜的XPS研究

介绍了在聚乙烯醇缩甲醛（ＰＶＦ或Ｆｏｒｍｖａｒ）膜上蒸镀Ａｕ，Ｐｄ和Ａｇ金属膜，用ＸＰＳ研究其表面与界面的化学组分与价态。实验发现，在ＰＶＦ膜上蒸膜上Ａｕ，Ｐｄ和Ａｇ后，三咱不同价态的ＣＩＳ相对含量均发生变化。表明金属原子在ＰＶＦ膜上沉积上是化学吸附。 ＰＳ     

高耐热聚酰亚胺、芳酰胺超薄膜

一般,薄膜制造技术分干法与湿法两种。聚酰亚胺等高耐热性薄膜过去是用溶液涂敷法制作的,今后仍将用以旋涂法为代表的简便方法来制造薄膜。这.里介绍两种新的薄/膜制作方法。其一是Langmiu B10dgett (LB)法,在各种薄膜的成型中它能制得最薄的薄膜;其二是真空蒸镀聚合法,以     

用激光物理气相沉积法制做超硬质膜

最近,日本的安永畅男等人,着眼于CO_2激光极易被陶瓷材料吸收,而且易使陶瓷材料熔化和蒸发的特点,开发了以CO_2激光为蒸发热源的新激光物理气相沉积法(激光PVD),发现用该方法可以高效率制做均质、致密和高硬度的陶瓷膜。特别是,在激光蒸镀时,用N离子同时照射,或通过兼用激光感应放电,可以形成超硬质的cBN膜和DLC膜(类金刚石碳素膜)。这些膜可以蒸镀在切削刀具和耐磨构件上。下面介绍这种     

有机溶剂分离膜的开发

有机溶剂分离膜的开发１．前言膜分离技术被用在各个领域，目前正在实用化的推广之中。然而，用于液－液混合物的膜分离技术还只限于个别领域中使用，人们期待着它的发展。最近，用渗透气化（ＰＶ）法由共沸混合物脱水的技术已实用化，证明了膜溶剂分离技术具有成本低、能...     

钢板真空镀锌膜附着强度的研究

在普通冷轧钢板上真空镀Zn。用蒸镀法镀Zn,通过加入中间过渡层,得到了结合强度高的镀Zn钢板。用划痕法和拉倒法测定了钢板镀Zn膜的结合强度。在本试验条件下,基板温度高于180℃,可获得良好的结合强度。     

有机溶剂分离膜技术研究进展

利用绿色节能的膜分离技术实现有机溶剂的分离、纯化以及回收具有重要的科学意义和研究价值.常用的有机溶剂分离膜技术主要包括渗透汽化技术、蒸汽渗透技术和有机溶剂纳滤、反渗透技术.以有机溶剂分离膜技术的最新研究进展为核心,综合评价了现有有机溶剂分离膜技术的优势以及目前存在的问题.介绍了目前常用分离膜技术纯化分离有机溶剂的基本思路和原理,详细列举了有机溶剂分离膜的膜材料、技术分类、制膜方法以及典型应用案例,为分离膜技术在有机溶剂分离纯化领域的应用提供指导与借鉴.     

装饰用离子镀技术

离子镀技术是真空物理蒸镀法之一。特别是把化合物膜涂敷作为目的的反应性离子镀技术,在较低温度下,能容易地进行“TiN”、“TiC”等超硬物质的涂敷,所以作为滚刀、插齿刀等高速钢切削刀具的耐磨涂敷法,正被广泛使用(1-4). 另外,用这种反应性离子镀法得到的化合物膜,分别呈现固有的颜色,特别是因为Ti N呈现华丽的黄金色,所以与历来用黄金色装璜的镀金法相比,作为一种具有出色的耐磨性和粘着性的黄金色涂敷法,正被迅速地付于实用[5]。 利用这种反应性离子镇法制成的TiN膜,除具有上述的特征外,还具有:1)无公害;2)比镀金法便宜; 3)在广泛的…     

转移法制备顶电极在钙钛矿太阳能电池中的应用

钙钛矿太阳能电池因为其高效率、易制备和低成本等优点，近年来发展迅速。在钙钛矿器件的多层薄膜结构制备和调控中，研究者们关注最多的是钙钛矿吸光层和电荷传输层。而顶电极部分的问题，由于蒸镀Au电极作为实验室阶段标准研究方法的成功使用，而容易被人们忽略。然而，蒸镀贵金属电极的生产设备和原材料成本问题，在钙钛矿太阳能电池未来的大面积器件制备、大范围应用中将是难以避免的。为此，研究者开发了导电膜转移法、导电浆料涂布法等非蒸镀工艺，尝试解决这些问题。本综述针对这一现状，从工艺方法的角度出发，介绍包括金属、聚合物、碳等多种材料体系的顶电极的转移法应用进展，总结具有普遍性的原理、规律，讨论目前技术的缺陷、瓶颈问题和潜在的解决方案。     

光学塑料棱镜反射膜的镀制

由于光学塑料在耐热性、耐吸湿性和表面强度等方面的特性比光学玻璃差,所以在光学塑料棱镜表面上镀制金属反射膜存在着金属膜层和塑料棱镜表而附着性能差的问题,镀膜后的塑料棱镜不易达到使用的技术要求.本文通过对镀膜材料和光学塑料基体的特性分析,提出了一种实用的介质加金属三层反射膜系.基于这种膜系采用了等离子辅助镀膜技术和石英晶片监控膜厚的方法,并且针对塑料棱镜蒸镀的特殊性,严格控制蒸镀条件中的有关参数,形成了一套稳定的蒸镀工艺.实验结果表明,光学塑料棱镜镀制金属反射膜可以解决膜层性能差的问题,满足光学产品的技术要求,实现批量生产.     

超临界CO2用于制备高分子微细粉末

日本工业技术院物质研究所和日本油脂公司开发了把超临界 CO2 作为溶剂 ,不使用有机溶剂 ,不需要分离、干燥、粉碎工艺的各种单体的聚合法。如果用于含有作为表面活性剂的长链氟化烷基的聚丙烯酯 ,能够得到亚微细粒等级的单分散高分子粒子 ,即使不用高价的表面活性剂也可进行聚合超临界CO_2用于制备高分子微细粉末@陈晓惠     

在硅片上制备SnO_2敏感膜

本文介绍采用真空蒸镀与低温氧化相结合的工艺,在生长有氧化层的硅片上利用金属Sn制备SnO_2敏感膜。它较化学气相淀积法易于控制,并可充分利用硅平面工艺生产线现有设备,所制备的SnO_2敏感膜经扫描电镜形貌分析,其粒径小于1μm,且对乙醇,甲烷都有一定的敏感性。到目前为止,制备SnO_2敏感膜的方法有:高频溅射,直流溅射,化学气相淀积,高频等离子激活化学气相淀积,真空蒸镀等。这些方法主要是用锡的氧化物和锡盐将SnO_2膜制作在绝缘衬底(Al_2O_3)上。众所周知,采用溅射方法需要昂贵的设备,而化学气相淀积法(CVD)所需工艺参数较多,难于控制,且对环境要求较严,而我们采用的真空蒸镀同低温氧化相结合的方法,工艺参数较少,对环境要求不象CVD那样严格,更主要的是可以利用硅平面工艺生产线现有设备制成厚度均匀,粒径合适,对某些气体和湿度都灵敏的敏感膜。     

耐溶剂高分子纳滤膜研究进展

作为一种孔径2nm的压力驱动型分离膜,高分子纳滤膜在有机溶剂中的应用日益引起人们的重视,因此,对高分子纳滤膜的耐溶剂性能要求也越来越高。总结了近年来耐溶剂高分子纳滤膜在制备、分离机理以及应用等方面取得的进展,着重介绍了相转化、界面聚合、层层自组装等多种制备方法,并对今后耐溶剂高分子纳滤膜研究的发展方向提出了建议。     

用真空蒸镀法制备垂直记录带

关于将垂直记录技术用于软磁盘和硬磁盘的报道已经很多,但将其用在磁带上还是新课题。垂直磁记录带可用真空蒸镀法制备,其产量与普通涂敷法相同,松下电气公司对采用连续真空蒸镀法制备以坡莫合金为衬底的钴铬垂直磁记录带的技术做了进一步研究。     

硅蒸镀法制备硬质碳毡表面SiC涂层组成及微观结构分析

采用浆料法在硬质碳纤维毡表面制备石墨涂层,利用硅蒸镀使硅蒸汽在石墨涂层、碳纤维、基体碳表面反应生成SiC涂层。利用XRD、SEM及显微硬度计等研究了蒸镀时间对涂层微观结构、晶粒尺寸及显微硬度的影响,并分析了涂层形成过程。研究结果表明,蒸镀时间增加,表面涂层的微裂纹及孔洞减少,逐渐形成连续、致密的SiC涂层;蒸镀时间为3 h,涂层表面仅存在β-SiC;表面粗糙度低的石墨涂层作为硅蒸镀反应基体,生成的SiC晶粒较小;而表面粗糙度高的石墨涂层作为反应基体,表面涂层的显微硬度较大。