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锆合金氧化膜及基体中氧的扩散系数是锆合金腐蚀动力学中的重要参数,目前文献报道的氧在锆及氧化膜中的扩散系数数值差异较大。本文通过真空退火试验,得到不同温度下氧化膜中氧浓度分布,计算了氧在锆合金基体中的扩散系数;通过氧化膜的等效扩散模型,由腐蚀转折前的腐蚀增重曲线,估算锆合金氧化膜中氧的扩散系数,得到Zr-Sn-Nb合金基体中氧的扩散系数随温度的变化规律为DZr(cm2/s)=0.18exp(-180 000/RT);通过转折前的腐蚀增重曲线,估算得到氧化膜中氧的扩散系数随温度的变化规律为Dox(cm2/s)=3×10-7exp(-101 550/RT)。 相似文献
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从轰击离子种类,辅助沉积方式、不同衬底材料以及存放环境湿度等因素对离子束辅助沉积的MoSx膜作特性的影响作了研究。发现这些因素在膜的沉积或使用过程中对其品质和特性都产生不能忽视的影响。 相似文献
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采用双离子束技术在Si(100)衬底上沉积锆氧化物薄膜。由背散射(RBS)技术对形成薄膜进行了剖面测量。结果表明,在相同的溅射锆沉积速率条件下,不同流强的氧离子轰击所形成的薄膜,其组成也不同。深度剖面的O/Zr原子比值为不同的常数表征了不同价态的锆氧化物的生成。最后作了相应的讨论。 相似文献
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膜厚对溅射铬膜与锆合金基体附着性的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了膜层厚度对锆合金基体上制备的直流磁控溅射铬膜附着性的影响。用扫描电镜观察了界面形貌,用原子力显微镜观察了膜层表面形貌.用能谱仪测定了界面成分.用划痕法测定了铬膜的附着性。结果表明:膜/基界面结合良好,界面上存在成分梯度.成分升降区狭窄;随着铬膜厚度从0.5μm增加到2.0μm,晶粒迅速长大、致密的纫纤维状组织的端面出现拱形.铬膜层附着性降低约50%;但铬膜厚度达1.0μm后.晶粒长大的速度和铬膜附着性下降的速度同时趋缓,表明铬膜的附着性与其晶粒大小有明显关系。膜层厚度增加引起膜层附着性下降的主要原因是由于厚度增加所带来的膜层组织及力学性能变化和膜层应力增加。 相似文献
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锆-4合金在高压釜中腐蚀时氧化膜显微组织的演化 总被引:6,自引:0,他引:6
用透射电镜.扫描电镜和扫描探针显微镜研究了锆-4样品在高压釜中(360℃/18.6MPa去离子水)腐蚀后氧化膜的断口形貌、氧化膜不同深度处的显微组织和晶体结构。结果表明:氧化膜生成时形成的压应力。使晶体中产生了许多缺陷,稳定了一些亚稳相.在氧化膜底层中有单斜,四方、立方晶体结构甚至非晶相存在;在氧化膜的中间层及表面层中。空位和间隙原子等缺陷发生扩散、湮没和凝聚,内应力发生弛豫,亚稳相转变成稳定的单斜结构;空位被晶界吸收形成了纳米尺寸的孔洞簇,弱化了晶粒间的结合力,在表面张力的作用下,晶粒逐渐成为球形;孔洞簇的形成并发展成裂纹,使氧化膜失去了原有良好的保护性。导致腐蚀转折,这是氧化膜的显微组织在腐蚀过程中发生演化后的必然结果。 相似文献
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采用低能Ar离子束辅助沉积方法,在Mo/Si(100)衬底上分别沉积Cu、Ag、Pt薄膜.实验发现,若辅助轰击的Ar离子束沿衬底法线方向入射,当离子/原子到达比为0.2时,沉积的Cu膜呈(111)晶向,而Ag、Pt膜均呈(111)和(100)混合晶向.当辅助轰击的Ar离子束偏离衬底法线方向45°入射时,沉积的Cu、Ag、Pt膜均呈(111)择优取向.采用Monte Carlo方法模拟能量为500 eV的Ar离子入射单晶Ag所引起的原子级联碰撞过程,分别算得Ar离子入射单晶Ag(100)面、(111)面时,Ar离子的溅射率与入射角和方位角的关系.对离子注入的沟道效应和薄膜表面的自由能对薄膜择优取向的影响作了初步的探讨和分析. 相似文献
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Duo Liu Feng Zhang Zhihong Zheng Dazhi Wang Xianghuai Liu 《Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms》1998,140(3-4)
In this article, titanium dioxide films prepared by neon ion beam assisted deposition (IBAD) in an oxygen environment were investigated. The deposition rate was varied from 0.2 to 0.4 nm/s while the current density and ion energy were kept at 20 μA/cm2 and 40 keV. The structural characteristics of all films were studied by X-ray diffraction and Raman spectroscopy. Results show that all the films exhibit a rutile phase. The location of (2 0 0) diffraction peaks deviated from the standard value. Simultaneously, the relative intensity of (2 0 0)/(1 1 0) peaks decreases with increasing evaporation rate. All results are discussed in terms of surface free energy and ion channeling effects. 相似文献
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采用离子束辅助沉积法(Ion beam assisted deposition,IBAD)在单晶硅片上进行沉积制备了TiN/Si3N4纳米复合超硬薄膜;研究了辅助束流、轰击能量和Ti:Si靶面积比等工艺参数对TiN/Si3N4超硬纳米复合薄膜性能的影响.此外采用纳米硬度计、光电子能谱(X-ray photoelectron spectrum,XPS)和x射线衍射分析(X-raydiffraction,XRD)方法研究了纳米复合薄膜的性能、成分与组织结构;采用原子力显微镜(Atomic forcemicroscopy,AFM)分析了薄膜的表面形貌,并初步探讨了TiN/Si3N4纳米复合超硬薄膜的生长机理. 相似文献
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利用离子束技术及PECVD制备碳化硅 总被引:1,自引:0,他引:1
阐述利用离子注入、离子束增强沉积、反应离子束溅射及反应离子束辅助沉积等方法制备碳化硅薄膜的实验结果,并报道利用等离子体增强化学气相沉积技术制备可光致发光的非晶态α-SiC:H薄膜的工作。 相似文献
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