玻璃蚀刻

目前，很多客户要求在宾馆、饭店、营业厅、会议室、歌舞厅、居室等场所的玻璃上雕刻出名人字画、对联、花鸟、人物、动物、风景等图案，需求量可观，对于从事工艺美术行业的人员来说是一个商业机遇。玻璃雕刻除了机械磨花、手工磨花、气泵喷砂、蒙砂等方法以外，还有化学蚀刻。下面就介绍这方面的工艺。     

高硼、高铝玻璃蚀刻机理及性能

近年来,蚀刻玻璃后盖因其对通信信号无阻碍、可装饰性强、手感好及触摸后无手汗痕迹等优点,逐渐成为手机行业的潮流趋势。通过对玻璃蚀刻的机理分析,制定配方,确定关键参数,优化工艺流程,从而实现对蚀刻后玻璃性质的调控,降低对环境及人身安全的危害,实现低成本和高良率。通过对关键参数的调控,成功实现雾度从10%到90%的渐变蚀刻。     

感光法玻璃蚀刻工艺

本文对感光法玻璃蚀刻工艺进行研究,提出该方法的工艺特点及注意事项。     

Delta玻璃蚀刻套装

套装使您可轻而易举地做出漂亮的蚀刻样式来．该套装中不含酸、不含有害气体、不会对皮肤产生腐蚀。且该材料用肥皂水就可以清洗掉。[第一段]     

玻璃减薄蚀刻废液综合处理技术研究

以显示玻璃减薄蚀刻模拟废液、钾盐或钠盐等为原料,选择性地回收其中的氟硅酸.主要探究了不同沉淀剂种类、用量、洗涤剂种类与用量对氟硅酸盐纯度和氟硅酸回收率的影响,并用XRD对最佳条件下制备的产品进行表征.XRD分析结果表明:回收的产品即为氟硅酸钠.化学分析结果表明:K3洗涤剂处理后的样品纯度≥99.64％,符合国家标准;回收率最高可达98.36％.     

玻璃表面化学深蚀刻的工艺原理与操作方案

本文对平板玻璃表面化学蚀刻做一些较为通俗的理性论述：一、化学蚀刻的原理：我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种，非晶态固体。易碎；透明。它与我们的生活密不可分，现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品，更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工，     

从专利申请浅析我国玻璃蚀刻技术的发展趋势

通过国家知识产权局专利数据库CNABS,利用国际专利分类号IPC分类号来对我国的玻璃蚀刻技术的专利申请情况进行了全面检索,并对检索到的数据进行全面分析,包括对玻璃蚀刻技术的申请量现状、发展趋势、国内外主要申请人、以及未来的研究趋势进行分析,从而指出当前国内在玻璃蚀刻研究中存在的一些问题,并提出一些建议及对发展前景进行展望。     

感光化学蚀刻技术

这是一种用电脑刻绘光固化技术蚀刻玻璃的工艺方法。首先用文泰刻绘软件扫描所选图案并处理成线条状雕刻在不干胶贴上，然后将刻有图案的不干胶贴在玻璃基板上面，用氢氟酸或氢氟酸与硫酸的配比为7：3比例的溶液涂刷，腐蚀后用清水冲洗后即制成具有精细图案的玻璃制品，也可采用紫光灯曝光的方法制作，使感光片贴于玻璃基板上，经曝光显影工序后再用氢氟酸蚀刻而成。雕刻图案的玻璃在光线照射下，图案通体发出荧光，晶莹剔透，七彩斑斓令人目眩。     

蚀刻与酸抛光对玻璃表面反射光的改变

利用各向异性化学腐蚀法制备了具有朦胧效果的低反射装饰玻璃,详细研究了玻璃表面经过酸蚀刻与酸抛光后以微观峰的高度调控反射光。介绍了浸泡法、淋液法对表面腐蚀、酸抛光处理时间和反射光的影响,结果表明：淋液法可以降低腐蚀时间,消除浸泡法表面形成的线纹和不规则的峰,在酸抛光阶段可消除附在峰表面的硅氧化物获得减少反射光作用。     

蒙砂粉熟化过程与蚀刻玻璃表面的研究

固体蒙砂粉的熟化质量是决定玻璃蚀刻效果的重要因素。用X射线衍射（XRD）、能谱仪（EDS）、拉曼光谱、粘度计、Zeta电位和碱滴定等方法研究了用柠檬酸和氟化氢铵为主要成分配制的蒙砂粉的理化性质随熟化时间的变化规律,考察和评价了熟化时间对GG6手机盖板玻璃蚀刻效果的影响。结果表明：熟化时间为36 h,得到的熟化液的黏度和氢离子浓度最大,GG6玻璃蚀刻后的粗糙度为265 nm、雾度为84%、透光率为92.4%、光泽度为11.7%,符合工业上手机玻璃盖板的蚀刻加工质量要求,蚀刻后的GG6玻璃表面形成一层微量的氟硅酸物晶体,构成的微纳蚀孔结构更均匀。测定蒙砂液的理化性质能有助于更好地了解蒙砂粉的熟化过程,对蒙砂粉蚀刻工艺具有指导作用,提高玻璃防眩工艺的生产效率。     

铜表面化学蚀刻的研究

应用电化学反应原理和配位场理论,对以硫代硫酸钠和碳酸氢铵组成的蚀刻溶液的铜表面化学蚀刻原理进行了分析,认为:铜被硫代硫酸钠氧化为铜离子,铜离子与碳酸氢铵提供的氨分子迅速形成稳定的铜氨络离子。研究了各组分浓度、温度对蚀刻速率的影响作用,并进行了蚀刻溶液对钢设备的腐蚀性能研究。结果表明:随着溶液中硫代硫酸钠和碳酸氢铵浓度的增加,蚀刻速率增大,而碳酸氢铵的浓度受硫代硫酸钠浓度的限制,蚀刻溶液对钢设备没有腐蚀作用。     

三氯化铁蚀刻液的蚀刻能力研究

研究了三氯化铁蚀刻液对铁镍合金的蚀刻能力,通过对比实验,得出三氯化铁蚀刻液的最佳刻蚀温度为40℃,40℃时,20 mL蚀刻液的最大蚀刻速度为0.021 mg·min-1·mm-2;达到有效蚀刻量46.39 g/L时,蚀刻速度为0.009 4 mg·min-1·mm-2;达到最大蚀刻量58.79 g/L时,蚀刻速度为0.002 46mg·min-1·mm-2.     

化学蚀刻

有一种化学蚀刻法可代替喷砂制作法，该法可做出与表面蚀刻类似的效果，该法的优点在于做法简单，并且也不需要用磨蚀蚀刻所用的一些设备。毫无经验的初学者都可用此法做蚀刻玻璃器皿、小型平板玻璃或镜子等作品。该方法的缺点在于用化学物质做出的蚀刻不像喷砂作品那么坚固、那么亮那么白，也没那么持久耐用，也可能会产生划痕和斑点。     

玻璃丝网印刷蚀刻油墨的生产及应用

阐述了玻璃丝网印刷蚀刻油墨的化学原理、生产及应用,并与溶液蚀刻方法进行了工艺和社会经济效益的对比。通过比较,说明该法具有操作简单、投资少、污染小等特点,社会效益与经济效益显著。     

卤化铜光致变色玻璃变色机理研究

本文报道了卤化铜光致变色玻璃中光色相物相分析方法和玻璃中铜胶体理论吸收光谱的计算方法。测定了玻璃的顺磁共振谱(ESR)和可见吸收光谱。证明了卤化铜光致变色玻璃的变色机理是CuX自身氧化还原的胶体暗化过程。     

新型快速电路板用液体蚀刻剂

近年来世界各国电子行业的发展很快，据初步统计仅我国每年就需蚀刻剂的用量近１００kt，但传统蚀刻剂大多采用氯化铜类和氯化铵类固体产品。此类产品在蚀刻中要求温度较高，而且对铜和铝的蚀刻时间也较长，因此造成蚀刻成本高等不足。为解决上述问题，由武汉现代工业技术研究院最新研究成功了一种新型快速液体蚀刻剂技术，该技术经多家企业试用均达到很好的效果，并证实了该产品具有蚀刻速度快，成本低于传统蚀刻３５％左右。该产品主要用于印制电路板铜和铝的蚀刻，其主要特点有；通过减少侧蚀，改进焊重融及可焊性，获得更好质量的印制板…     

炉渣微晶玻璃核化机理的研究

采用ＤＴＡ、ＳＴＥＭ、ＥＤＡＸ、ＳＡＥＤ和ＸＲＤ等测试方法，研究了炉用量对ＣａＯ－Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＯ２系统玻璃核化析晶的影响作用，结果表明，在不引入其它核剂的情况下，随着炉渣用量的增加，玻璃的整体析晶程度增强，当炉渣含量为玻璃组成的４０ｗｔ％以上时，炉渣中所含的硫（Ｓ＾２－）能有效地促进玻璃的微晶化，选择适当的炉渣用量和热处理温度可获得性能优良的微晶玻璃材料。     

新型快速电路板用液体蚀刻剂

近年来世界各国电子行业的发展很快 ,据初步统计我国每年就需蚀刻剂的用量近 1 0万ｔ,但传统蚀刻剂大多采用氯化铜类的氯化铵类固体产品。此类产品在蚀刻中要求温度较高 ,而且对铜和铝的蚀刻时间也较长 ,因此造成蚀刻成本高等不足。为解决上述问题 ,由武汉现代工业技术研究院最     

日本纳米芯片加工用含氟蚀刻剂

大金公司已经成为世界上第一家开发出低成本、大批量生产含氟蚀刻和清洁溶剂的生产工艺，产品用于纳米线宽的半导体。Osaka公司计划于2003年11月启动全球生产方案。