感光化学蚀刻技术

这是一种用电脑刻绘光固化技术蚀刻玻璃的工艺方法。首先用文泰刻绘软件扫描所选图案并处理成线条状雕刻在不干胶贴上，然后将刻有图案的不干胶贴在玻璃基板上面，用氢氟酸或氢氟酸与硫酸的配比为7：3比例的溶液涂刷，腐蚀后用清水冲洗后即制成具有精细图案的玻璃制品，也可采用紫光灯曝光的方法制作，使感光片贴于玻璃基板上，经曝光显影工序后再用氢氟酸蚀刻而成。雕刻图案的玻璃在光线照射下，图案通体发出荧光，晶莹剔透，七彩斑斓令人目眩。     

玻璃蚀刻

目前，很多客户要求在宾馆、饭店、营业厅、会议室、歌舞厅、居室等场所的玻璃上雕刻出名人字画、对联、花鸟、人物、动物、风景等图案，需求量可观，对于从事工艺美术行业的人员来说是一个商业机遇。玻璃雕刻除了机械磨花、手工磨花、气泵喷砂、蒙砂等方法以外，还有化学蚀刻。下面就介绍这方面的工艺。     

装饰不锈钢管材的快速电化学蚀刻

不锈钢管材以其良好的机械加工性能、耐腐蚀性、明亮的光泽等 ,在室内外建筑装饰方面的应用日趋增多。随着人们文化素养、生活水平的提高 ,目前多采用带有艺术图案的不锈钢管材。在不锈钢表面蚀刻艺术图案 ,传统的方法是化学蚀刻法。即在其表面涂盖一层耐腐蚀保护层 ,用物理法刻出所需的线条图案 ,将其侵入化学腐蚀液中进行蚀刻。由于不锈钢有较好的耐腐蚀性 ,化学反应速率很慢 ,需要较长时间反复腐蚀。这样就易产生掩膜下的横向腐蚀 ,而且效率低、成本高。电解蚀刻法可有效解决上述问题 ,是一种高速、高效的金属蚀刻方法。1　基本原理电化…     

无反射蒙砂玻璃

采用稳定、廉价的化学蚀刻方法改变玻璃表面的形状,达到无反射和提高透光率的效果。研究了蚀刻后表面的晶体结构、形貌,探讨了时间、温度对化学蚀刻结果的影响,提出了控制化学蚀刻表面形状对光无反射、增透的重要性和几何模型。     

玻璃表面化学深蚀刻的工艺原理与操作方案

本文对平板玻璃表面化学蚀刻做一些较为通俗的理性论述：一、化学蚀刻的原理：我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种，非晶态固体。易碎；透明。它与我们的生活密不可分，现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品，更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工，     

化学蚀刻

有一种化学蚀刻法可代替喷砂制作法，该法可做出与表面蚀刻类似的效果，该法的优点在于做法简单，并且也不需要用磨蚀蚀刻所用的一些设备。毫无经验的初学者都可用此法做蚀刻玻璃器皿、小型平板玻璃或镜子等作品。该方法的缺点在于用化学物质做出的蚀刻不像喷砂作品那么坚固、那么亮那么白，也没那么持久耐用，也可能会产生划痕和斑点。     

铜表面化学蚀刻的研究

应用电化学反应原理和配位场理论,对以硫代硫酸钠和碳酸氢铵组成的蚀刻溶液的铜表面化学蚀刻原理进行了分析,认为:铜被硫代硫酸钠氧化为铜离子,铜离子与碳酸氢铵提供的氨分子迅速形成稳定的铜氨络离子。研究了各组分浓度、温度对蚀刻速率的影响作用,并进行了蚀刻溶液对钢设备的腐蚀性能研究。结果表明:随着溶液中硫代硫酸钠和碳酸氢铵浓度的增加,蚀刻速率增大,而碳酸氢铵的浓度受硫代硫酸钠浓度的限制,蚀刻溶液对钢设备没有腐蚀作用。     

从专利申请浅析我国玻璃蚀刻技术的发展趋势

通过国家知识产权局专利数据库CNABS,利用国际专利分类号IPC分类号来对我国的玻璃蚀刻技术的专利申请情况进行了全面检索,并对检索到的数据进行全面分析,包括对玻璃蚀刻技术的申请量现状、发展趋势、国内外主要申请人、以及未来的研究趋势进行分析,从而指出当前国内在玻璃蚀刻研究中存在的一些问题,并提出一些建议及对发展前景进行展望。     

三氯化铁蚀刻液的蚀刻能力研究

研究了三氯化铁蚀刻液对铁镍合金的蚀刻能力,通过对比实验,得出三氯化铁蚀刻液的最佳刻蚀温度为40℃,40℃时,20 mL蚀刻液的最大蚀刻速度为0.021 mg·min-1·mm-2；达到有效蚀刻量46.39 g/L时,蚀刻速度为0.009 4 mg·min-1·mm-2；达到最大蚀刻量58.79 g/L时,蚀刻速度为0.002 46mg·min-1·mm-2.     

玻璃文化墙

介仁玻璃创办于一九九四年，公司立足于中国传统砂雕工艺，结合化学蚀刻、水刀切割、手工肌理等加工方法，一直走在行业的前列，他们发明的晶纹玻璃和晶贝玻璃使行业的玻璃艺术加工又上了一个新台阶。     

蒙砂粉熟化过程与蚀刻玻璃表面的研究

固体蒙砂粉的熟化质量是决定玻璃蚀刻效果的重要因素。用X射线衍射（XRD）、能谱仪（EDS）、拉曼光谱、粘度计、Zeta电位和碱滴定等方法研究了用柠檬酸和氟化氢铵为主要成分配制的蒙砂粉的理化性质随熟化时间的变化规律,考察和评价了熟化时间对GG6手机盖板玻璃蚀刻效果的影响。结果表明：熟化时间为36 h,得到的熟化液的黏度和氢离子浓度最大,GG6玻璃蚀刻后的粗糙度为265 nm、雾度为84%、透光率为92.4%、光泽度为11.7%,符合工业上手机玻璃盖板的蚀刻加工质量要求,蚀刻后的GG6玻璃表面形成一层微量的氟硅酸物晶体,构成的微纳蚀孔结构更均匀。测定蒙砂液的理化性质能有助于更好地了解蒙砂粉的熟化过程,对蒙砂粉蚀刻工艺具有指导作用,提高玻璃防眩工艺的生产效率。     

玻璃丝网印刷蚀刻油墨的生产及应用

阐述了玻璃丝网印刷蚀刻油墨的化学原理、生产及应用，并与溶液蚀刻方法进行了工艺和社会经济效益的对比。通过比较，说明该法具有操作简单、投资少、污染小等特点，社会效益与经济效益显著。     

感光法玻璃蚀刻工艺

本文对感光法玻璃蚀刻工艺进行研究，提出该方法的工艺特点及注意事项。     

光刻胶专利信息

正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法;短波成像用溶剂和光刻胶组合物;去除光刻胶和蚀刻残留物的方法;改善蚀刻后光刻胶残余的半导体器件制造方法;处理废弃光刻胶的装置.     

电子束辐射GeS2-Ga2S3-CdS硫系玻璃的二次谐波发生效应

用熔融一急冷法制备了在可见光区有较高透过率的GeS2-Ga2S3-CdS硫系玻璃,在电子束辐射的玻璃样品中观察到明显二次谐波发生效应,得到了对称性良好的Maker条纹.研究结果表明:当激光入射角在±(40°～50°)左右时,二阶非线性光学效应的相对强度出现最大值.通过表面化学蚀刻法进行了极化机理分析,发现在电子束辐射下,玻璃表面很薄的一层区域内形成局域直流强电场,破坏了玻璃的宏观各向同性,极化区域厚度大于理论计算结果.     

某雷达天线反射器的轻量化研制

本项目采用化学蚀刻法制作副反射器栅面图形替代原来的绷丝工艺;用高强度聚氨酯泡沫、J-164填充胶、低密度纤维粉等材料制作天线反射器法兰和加强筋部分;采用一体化成型法兰的方法既节约了两套法兰模具、缩短了天线制作周期,又减轻了天线的重量,采用合理的后处理工艺使天线反射器的型面精度达到图纸要求。     

不锈钢蚀刻速率影响因素研究

研究了蚀刻液中FeCl3、HCl及HNO3的质量浓度以及温度对1Cr18Ni9Ti钢蚀刻速率的影响。实验结果表明,FeCl3质量浓度的增加可以提高蚀刻速率以及蚀刻液的稳定性;蚀刻速率随HCl质量浓度的增加先升高后降低;HNO3质量浓度和温度的增加都可以提高蚀刻速率。     

光成像抗电镀／抗蚀刻油墨的生产开发

随着印制电路板行业的飞速发展．液态光致抗电镀／抗蚀刻油墨已遂渐成为精细导线图形制作的主要方法。综述了液态光致抗蚀刻／抗电镀油墨的组成、特性以及目前在我单位的发展情况。     

不锈钢模具板化学蚀刻、抛光和电镀铬研究

研究了不锈钢模具板的化学蚀刻、化学抛光和电镀铬工艺。分析了影响蚀刻、化学抛光和电镀铬质量的因素,得到了化学蚀刻、化学抛光及电镀铬最佳工艺参数和操作规范。该工艺可以用于各种类型不锈钢的化学蚀刻、化学抛光和电镀铬处理。     

晶圆湿法蚀刻清洗工艺及流量控制发展

对比两种集成电路制造湿法工艺设备的优缺点及未来发展趋势,对影响单片湿法清洗工艺中蚀刻率因素进行分析总结,介绍化学药液混合和制程喷吐中流量控制技术的发展,设计实验将两种化学药液流量控制阀件的蚀刻清洗效果对比,并对未来技术发展进行简要分析。