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图象自动处理显微镜系统 总被引:2,自引:2,他引:0
该图象自动处理显微镜系统采用了电荷藕合器件对显微镜系统的涂片(或其它试片)进行了自动测光、自动调焦、自动曝光,以及对涂片(如细胞)进行自动筛选的功能。整个系统由微机控制,设有自动输涂片机械手装置、显微镜工作台自动二维扫描机构、自动测光、自动拍照等装置。微机对CCD器件所得到的图象信息按预定模式进行处理,并由预定程序对其组成机构的每步动作自动控制,达到显微镜系统对图象进行自动分析和处理的目的。 相似文献
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彩色胶片分析系统主要根据捕获图象的颜色来判断胶片的曝光量和色偏程度,因此要保持系统输入到输出彩色的一致性。本文简要地介绍了胶片分析系统,讨论了引起输入到输出色偏的原因、系统的最优设置及彩色校正方法。 相似文献
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微机式自动准同期装置以其安全可靠、快速、稳定、精度高等诸多特点逐渐在市场中占据主导地位,广泛的应用于发电厂和变电站。针对微机自动准同期装置的保护原理和硬件设计做主要介绍,并结合图例论述它的功能实现。 相似文献
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线阵CCD应用于多个目标测量时的图象拼接技术 总被引:4,自引:0,他引:4
为了便于线阵CCD的测量,可将多个平行目标的图象拼接到一条直线上,此方法可应用于标准水银温度计的自动检定系统中。 相似文献
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变焦距物镜作为光学成象系统,是PCA—100图象彩色分析仪中的一个重要组成部分。通过变焦距物镜,将被分析图象胶片上的黑白图象成象在一支高灵敏度的摄象管靶面上。当分析者要分析大小不同的图象胶片,或者对于同一图象胶片要分析全部图象或其中某一局部图象时,操作变焦距物镜就可以方便而可靠地使被分析图象清晰地放大,在变倍过程中,变焦距物镜的象面保 相似文献
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大气压聚合SiOx薄膜用于新型印刷板材的研究 总被引:1,自引:1,他引:0
以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体,采用DBD等离子体枪在大气环境下进行聚合物合成,对2种不同进样方式的放电特性、聚合效果作了比较,发现2种进样方式的放电特性相同,唯一不同在于等离子体区下游进样放电等离子体炬长在低流量时先增大后减小,而等离子体区直接进样方式放电炬长直接达到起弧最大值.FTIR显示单体不同的输入方式对聚合膜结构影响不大,但对聚合膜的沉积速度有明显的影响,单体输入到等离子体区下游成膜速度明显快于单体直接进入等离子体区.扫描电子显微镜(SEM)给出了聚合膜的表面形态,表面能测试显示其接触角可达110度,推墨实验表明等离子体下游区进样聚合膜斥墨性好,可做无水胶印板材. 相似文献
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在片薄膜铂电阻温度传感器以铂作为感温薄膜,采用半导体工艺制造,可以有效地监测晶圆片上的半导体器件温度。为了校准该类型温度传感器,根据其工作原理和结构特点,参考JJG 229-2010对校准装置的要求,提出了一种利用高低温探针台、八位半数字多用表以及直流探针组建校准装置的方法;通过组建校准装置,测量温度传感器在不同温度下的电阻值,得到电阻-温度特性的分度表;并对在片薄膜铂电阻温度传感器在25℃和125℃2个温度点进行校准。校准数据及校准结果验证表明,该方法切实可行,可有效解决无连接引线的在片铂薄膜电阻温度传感器的校准问题。该校准技术也可为其他类型感温元件的在片温度传感器校准提供参考依据。 相似文献
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在自动洗片机应用中,当干燥器安装错误,或洗胶片时送片速度过快等原因,可以造成片在机器内卷曲,堆积,阻塞,造成传动装置损坏,本文分析了故障原因和修复方法。 相似文献
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利用双波长测量金属膜的厚度 总被引:1,自引:0,他引:1
本文为测量金属膜的厚度提供了一种新的用双波长的测量方法。该方法测量简便,精度高,同时也适用于透明介质膜的厚度测量,测量范围从几十个波长至1cm。 相似文献
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基于压差法的薄膜透气性测试装置,在压力和温度检测器的检测性能给定和环境温度相对稳定的情况下,影响测试结果的主要因素是测试装置的密封性能。为了同时提高测试装置的密封性能和测试精度,提出了3层密封结构设计的模型,建立了相应的数学模型,并给出了因泄漏而引起压强变化的特性和仿真结果。为3层密封结构薄膜透气性测试装置的实际应用提供了理论依据。 相似文献
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AIN是一种在热、电、光和机械等方面具有良好综合性能的材料,作为电子薄膜材料在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用。简介了AIN薄膜的制备方法,评述了国内外各科研团体的最新研究成果和进展,阐述了AIN薄膜的应用,并综述了近年来AIN薄膜作为缓冲层、SOI结构的绝缘埋层和吉赫兹级声表面波器件压电薄膜的研究现状。 相似文献
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该文从中英影片名的语言特征出发,将以名词为中心词的英文片名与以动词为中心词的中文片名进行对比,总结分析了中英影片名各自的选词“喜好”及其成因、潜在规则,在此基础上作者再以韩礼德的语法隐喻为理论框架,从功能语法的角度详细分析了名物化手法在影片名翻译中的运用及其功能。 相似文献
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以4,4'-二氨基-2,2'-双三氟甲基联苯(TFMB)、4,4'-(六氟异丙烯)二酞酸酐(6FDA)和3,3',4,4'-联苯四甲酸二酐(BPDA)为反应单体,改变非含氟BPDA单体在二酐中的配比和加料方式制备出一系列共聚型含氟聚酰亚胺(PI)薄膜并表征和分析其性能,研究了共聚物链结构对其性能的影响。结果表明,BPDA单体的加料方式及其在二酐单体中的比例均影响薄膜的性能。共聚型含氟PI薄膜在室温下均溶于非质子极性溶剂,且在可见光范围内有较高的透光率。随着非含氟二酐单体BPDA含量的提高薄膜的光学性能略有降低而其热性能和力学拉伸性能提高。非含氟二酐单体占二酐单体的比例为68.97%的共聚型PI薄膜,在500 nm处的透过率达到96.01%;非含氟二酐单体占二酐单体比例为35.71%的共聚型PI薄膜失重10%的热分解温度为595.23℃,拉伸强度为100.98 MPa。同时,BPDA加料方式的改变对共聚型PI薄膜的光学性能、热学性能和力学拉伸性能均有不同程度的影响。 相似文献
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采用Langmuir-Blodgett(LB)膜静电诱导沉积法制备聚3,4-乙烯二氧噻吩(PEDOT)高度有序导电聚合物复合薄膜,研究了薄膜的导电性能并进一步研究薄膜在改善器件性能方面的作用.并将其应用于有机电致发光二极管(OLED)器件的空穴缓冲层,将聚3,4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸(PEDOT/PSS)复合LB沉积于纳米铟锡金属氧化物(ITO)电极上,制备了以复合LB膜为空穴缓冲层的OLED器件.发现复合LB膜改善了器件性能(启动电压降低,最大亮度增加),但进一步的研究表明LB膜器件在一定时间后出现性能劣化.I-V特性和X射线反射率(XRR)分析表明,薄膜的结构发生一定程度的改变是导致器件性能变差的可能原因. 相似文献