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一、引言 颜色玻璃除了离子着色外,还有Au、Ag、Cds、CdSe等“单质”或化合物着色;按照传统的概念,后者称为玻璃的胶体着色,因为在这些玻璃中着色剂呈聚集状态存在,其大小相当于一般胶体粒子的数量级。 本世纪初,Mie运用Maxwell方程计算了金溶胶和金红玻璃的光学性质,指出它们的颜色产生基于Au胶体粒子在绿光区域显著的光吸收。 然而,Cds、CdSe等着色时,玻璃的颜色不象金属胶体着色那样随着粒子大小而变化; 相似文献
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八、硫化镉和硒的着色 (一) 硫化镉和硒着色的概况 用硫化镉和硒可使玻璃产生黄、橙、红等一系列颜色。这类玻璃的光谱透过曲线具有很大的斜率,也就是说有很纯的黄色、橙色和红色。这类有色光学玻璃在照相、电影、光学仪器和军事工业中有较广泛的应用。图31是硒硫化镉玻璃典型的光谱透过曲线。这类玻璃不是镉离子,硒离子或元素镉和硒着色,而是硫化镉(CdS)胶体和硒化镉(CdSe)胶体着色的。 相似文献
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本文扼要地介绍了研究玻璃辐射着色的方法,测定了各类玻璃在γ射线辐照下变色情况。分析玻璃辐照着色机理后,提出了三种防止玻璃着色的途径。比较详细地讨论了氧化铈在各类玻璃中着色情况及防止辐照着色的作用。对于试制耐辐射光学玻璃中一些工艺因素,提出了若干试验结果。 相似文献
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超白玻璃是一种低铁高透过率的玻璃,目前在很多领域都得到了广泛应用。结合在熔制超白玻璃的过程中出现的着色现象,对其着色原因进行分析,指出在超白玻璃的生产过程中,当熔制铁含量低于80×10-6的超白玻璃时,应注意原料中着色杂质Er含量的控制,对提高超白玻璃品质提供一定的借鉴意义。 相似文献
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介绍了着色玻璃颜色测量的基本原理,颜色测量仪器及着色玻璃颜色控制过程,有效控制着色玻璃不同颜色的快速转换及同一色调玻璃颜色的稳定。 相似文献
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电子显微镜的最新发展可以使用高分辨电子显微术在原子水平上直接观察无机材料的显微结构。这归功于使用晶格分辨率2A左右的电子显微镜,也归功于离子束减薄制备样品技术。一、高分辨电子显微术的基本原理首先我们用图1说明晶格条纹象的成像方法。平行电子束入射到位于物镜上方的薄膜试样上,根据布拉格定律,试样的晶面将入射束衍射成为若干束(在图1中是五束)。物镜将衍射束在其背焦面上会聚成衍射点。若放置一个活动光阑位于背 相似文献
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硫属铋镉化物着色玻璃显色过程的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文对以硫属铋镉化物着色玻璃的显色过程进行了系统的研究与讨论。X射线衍射、透射电镜、电子衍射及EDAX能谱分析表明;玻璃在显色过程中析出了由CdS(Se)和Bi_2Se_3等半导体化合物组成的固溶体微晶,其组成随显色温度的提高而改变,从而造成玻璃光吸收的变化。ZnO参与了玻璃的显色过程。从热力学与动力学的观点分析了玻璃的显色过程,对实验结果作了较为圆满的解释。 相似文献
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介绍了由茶色吸热玻璃改产蓝色吸热玻璃过程中着色剂配方的变化。采用以氧化钴为主,氧化铁为辅的组合着色方法,并改变了生产蓝色吸热玻璃配合料中传统使用的还原剂,适当引入氧化亚锡,生产出颜色纯正、光洁度好的蓝色吸热玻璃。 相似文献
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消除硫碳着色玻璃气泡的体会胡爱菊(湖北省大冶玻璃瓶厂435100)气泡是玻璃体中主要缺陷之一,直接影响玻璃制品的质量。而硫碳着色的棕色玻璃,由于不同价态的硫同时存在且作用不同,故有其特殊性 ̄[1],在熔制过程中比普通白玻璃和绿玻璃容易产生气泡。提高炉... 相似文献
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采用脉冲直流反应磁控溅射镀膜方法在FTO透明导电玻璃上制备厚度分别为50nm、100nm、150nm、200nm、250nm和300nm的氧化钨薄膜;采用XRD( X射线衍射) 和AFM(原子力显微镜)分析薄膜着色前后晶体结构和表面形貌的变化;采用电化学工作站和可见-近红外分光光度计对薄膜的循环伏安特性和光学性能进行测试。研究获得:不同厚度氧化钨薄膜均为结晶态,具有单斜晶系结构;随着薄膜厚度增加,薄膜结晶程度逐渐增加;薄膜着色/褪色循环中,不同厚度氧化钨薄膜均发生单斜晶系WO2.92与立方晶系WO3的可逆转变,产生晶格应变,并且随厚度增加,薄膜晶格应变先减小后增大,薄膜厚度为250nm时变色前后晶格应变最小,厚度进一步增加至300nm薄膜着色产生应变明显增大。在相同驱动电压下,随薄膜厚度增加,光学调制幅度(550nm)、着色效率先增大后减小,厚度为250nm时获得最大调制幅度76.01%,和着色效率21.04cm2/C;当厚度进一步增加至300nm时,薄膜褪色态透过率降低到49.30%后无法继续褪色,着色效率也开始下降。使用XPS进一步分析了薄膜着、褪色状态下W元素的化学态,发现300nm薄膜褪色后一部分W5+无法转变成W6+,导致薄膜仍为蓝色。 相似文献
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采用脉冲直流反应磁控溅射镀膜方法在透明导电玻璃FTO(SnO_2:F)上制备厚度分别为50、100、150、200、250和300 nm的WO_3薄膜。分析了薄膜着色前后晶体结构和表面形貌的变化,对薄膜的循环伏安特性和光学性能进行测试。结果表明:不同厚度氧化钨薄膜均为结晶态,具有单斜晶系结构;随着薄膜厚度增加,薄膜结晶程度逐渐增加;薄膜着色/褪色循环中,不同厚度的WO_3薄膜均发生单斜晶系WO_(2.92)与立方晶系WO_3的可逆转变,产生晶格应变,并且随厚度增加,薄膜晶格应变先减小后增大,薄膜厚度为250 nm时,变色前后晶格应变最小,厚度增加至300 nm薄膜时,着色产生应变明显增大。在相同驱动电压下,随薄膜厚度增加,光学调制幅度(550 nm)、着色效率先增大后减小,厚度为250 nm时获得最大调制幅度76.01%和着色效率21.04 cm~2/C;当厚度进一步增加至300 nm时,薄膜褪色态透过率降低到49.30%后无法继续褪色,着色效率也开始下降。使用XPS分析了薄膜着、褪色状态下W元素的化学态,发现300 nm薄膜褪色后一部分W~(5+)无法转变成W~(6+),导致薄膜仍为蓝色。 相似文献