无刻刻蚀直流镀铁层的组织结构与性能

通过镀铁层组织结构与性能的观察、测试、对镀层组织形貌和（２１１）织构的形成机理以及镀铁层高硬度的本 理论分析,同时对镀铁层中微裂纹和内应力的成因进行了探讨。此外还探讨了镀后退火处理对镀铁层组织与性能的影响。     

无刻蚀直流镀铁层的组织结构与性能

通过镀铁层组织结构与性能的观察、测试,对镀层组织形貌和（２１１） 织构的形成机理以及镀铁层高硬度的本质进行了理论分析,同时对镀铁层中微裂纹和内应力的成因进行了探讨。此外还探讨了镀后退火处理对镀铁层组织与性能的影响。     

氨基磺酸盐镀铁工艺的研究

本文就氨基磺酸盐镀铁工艺、镀层的机械性能及微观组织形貌进行了研究探讨。结果表明:氨基磺酸盐镀铁层为柱状结晶组织,与氧化物低温镀铁层相比。镀层硬度较低,一般只有 HV140～180,无微观裂纹,内应力小,具有较好的塑性和结合强度。其允许使用的阴极电流密度上限可超过60A/dm~2。最后,文中还给出了氨基磺酸盐的镀铁工艺。     

无刻蚀镀铁电沉积机理

无刻蚀镀铁是集物理化学、金属学等多学科理论,用于动力机械重要零件再制造,已取得显著效果。通过对称交流活化,使待镀表面形成“微融活化态”界面,是无刻蚀镀铁层与基体金属融合为一体的基础;采用微电脑全自动镀铁电源设备,用董氏无刻蚀镀铁工艺参数编程,实现了施镀全过程的自动化控制。获得稳定可靠高强度的镀铁层或合金镀铁层,再制造机械零件完全符合新品设计的标准和技术要求。所述机理已在试验结果与分析中予以印证。     

无刻蚀镀铁电沉积机理及综合性能

无刻蚀镀铁变革了在硫酸液中电刻蚀与电镀铁分槽进行的镀铁工艺。无刻蚀镀铁是在同一电镀槽中完成对零件交流活化—交流起镀—交流过渡镀—小直流镀—直流过渡镀—全直流镀的全过程。由无刻蚀镀铁技术获得的镀铁层质量稳定、可靠。纯铁镀层的结合强度356MPa,含Ni、Co的合金镀铁层结合强度460MPa,旋转弯曲疲劳极限σ-1为363.85MPa,机车上的大型曲轴镀铁层保证期达30万公里,该技术再制造船舶、机车大型曲轴已实现规模化生产。文中综合了多年来对无刻蚀镀铁层的测试结果,探讨了无刻蚀镀铁层的电沉积机理和特点。研究认为,被镀零件表面经对称交流活化并使其处于微融活化态时,为Fe2+在基体中铁素体晶面上的择优放电沉积创造了条件;初始镀铁层的择优取向与基体相同,Fe2+在活化界面获得电子后先沿(110)晶面沉积,形成纳米等轴晶,随后转向沿(211)晶面沉积并形成纳米柱状晶,最终形成具有结合强度高、超细晶粒、硬度高、耐疲劳性和耐磨性好等特点的镀铁层。     

化学复合镀工艺研究

化学复合镀层具有优良的性能，在工业尤其是航天航空工业中有广泛的应用前景。本文以化学复合镀Ｎｉ－Ｐ／ＳｉＣ为例，研究了镀液成份及工艺参数对镀层厚度，ＳｉＣ颗粒的复合量及镀层耐磨性的影响，探讨了化学复合镀的机理，为更好地控制化学复合镀提供了实验基础。     

碱性焦磷酸盐镀液电镀Sn-Ag无Pb钎料的研究

电子封装无PB化进程中,对无PB钎料可焊性镀层技术的发展和应用提出了要求．本文给出一种碱性焦磷酸盐镀液及其电沉积工艺,以获得Sn-Ag无Pb焊料的可焊性镀层．研究了镀液中的主盐浓度、电流密度、镀液温度及搅拌等工艺条件对镀层中Ag含量及镀层表面形貌的影响．     

直流辉光氧等离子体刻蚀金刚石膜的研究

在直流辉光放电等离子体装置上，利用不同直流功充和工作气压下产生的氧等离子体对CVD金刚石厚膜的表面进行了刻蚀。利用扫描电子显微镜、Raman光谱和电子微量分析天平，分别对刻蚀前后金刚石膜表面的形貌、结构和刻蚀速率进行了观测。结果发现：在工作气压一定时，刻蚀速率随着直流功率的增加而增大，并且刻蚀由各向同性转变为各向异性。但过高的直流功率会导致金刚石膜表面沉积出无定形碳。基于实验研究结果和相关基本理论建立了刻蚀模型，并根据模型得到了影响刻蚀的主要原因在于等离子体中的电子温度和金刚石膜的悬浮鞘电位。     

复合镀层电刷镀工艺的研究

在电刷镀溶液中加入一定量的一种或几种不溶性的固体非金属颗粒,通过电刷镀工艺的沉积而获得硬度较高,耐磨,耐蚀,自润滑的复合镀层,在天龙４＾＃－４快速镍刷镀液及天龙６＾＃－６非晶态镍磷合金镀液的基础上,就其镀液组成,添加剂等条件进行试验,选择,并对加入的固体颗粒的分散数量,颗粒径的大小进行试验,确定工艺参数,形成完善可行工艺。     

乙酸钠加速化学镀镍的研究

测定了乙酸钠对镍的沉积速度，氢的析出量和化学镀镍反应活化能的影响。并借助电化学方法研究了乙酸钠对化学镀镍过程的阴阳极化曲线和稳定电位的影响。在此基础上，系统阐明了乙酸钠对化学镀镍过程的加速作用。     

Ni—Fe／SiC复合镀工艺研究

实验室研究表明:在硫酸亚铁铵为铁原料的Ni-Fe合金基上,可获得稳定性良好的镀层。以SiC颗粒为第二相粒子可镀出Ni-Fe/SiC复合镀层。镀层的质量受温度和电流密度等因素的影响。     

无氰碱性锌酸盐镀锌光亮剂的研究

回顾我国无氰碱性锌酸盐镀锌光亮剂20年来的发展状况;介绍一种能在无氰碱性锌酸盐镀锌体系中产生镜面似的高光亮镀锌层的光亮剂——WD90A。通过电化学方法的测试,结果表明该光亮剂的作用机理符合电镀添加剂的经典理论。     

铝及铝铜复合散热器化学刻蚀的局部电镀、化学镀工艺

该发明涉及铝及铝铜复合散热器的电镀、化学镀工艺技术领域,特指一种铝及铝铜复合散热器化学刻蚀的局部电镀、化学镀工艺,该发髓是在对散热器进行浸锌工艺之前对散热器进行化学氧化、封闭和局部化学刻蚀,即仅在铝及铝铜复合散热器与主机相连的部位镀上一层具有可焊性的镍磷合金,该工艺由于仅在欲施镀的铝散热器或铝铜复合散热器的部位施镀,因此称为局部镀。该工艺可应用于铝散热器或铝铜复合散热器的局部镀,工艺简单、易于实现,节省镍资源,降低产品成本。     

Ni—P—Al2O3化学复合镀工艺研究

简要叙述化学复合镀的机理和特点,并就新近研究成功的Ni-P-Al_2O_3化学复合镀的施镀工艺、镀液的调整与控制进行详尽的阐述,介绍实行该工艺所获得的镀层的优异性能。     

低压射流辅助激光刻蚀加工工艺参数的数值仿真预测研究

低压射流辅助激光刻蚀加工过程中涉及到的加工参数较多,合理选取参数对加工效果的影响至关重要。针对低压射流辅助激光刻蚀加工的实际情况,建立了该加工工艺的热传导方程及有限元数值仿真模型。以碳化硅陶瓷的复合刻蚀加工为例,通过数值计算与实验结果的对比验证了数值仿真方法的可行性。在此基础上,介绍了采用数值仿真方法进行工艺参数对刻蚀截面形状影响预测研究的思路。为研究各参数对加工效果的影响或选择合适的加工工艺参数提供了一种快捷准确的方法。     

MnO2对金刚石单晶的刻蚀研究

在不同温度下,将金刚石在空气中单独刻蚀或与MnO₂混在一起刻蚀,用表面形貌、刻蚀面积和单颗粒抗压强度来表征单晶表面刻蚀程度。结果表明:MnO₂和空气都能刻蚀人造金刚石单晶表面,且随刻蚀温度升高刻蚀加剧。在相同刻蚀温度下,用MnO₂刻蚀时,单晶的{111}面比{100}面刻蚀严重;而在空气中,其{100}面比{111}面刻蚀严重。金刚石单晶刻蚀后其{100}面易形成四边形坑,{111}面易形成金字塔形刻蚀坑。且MnO₂刻蚀剂能够对金刚石表面刻蚀起促进作用,使刻蚀面积增大和最大刻蚀速率对应的温度降低,导致金刚石单颗粒抗压强度大幅下降。      

镀液除杂剂的选择与净化工艺的改进

镀液的科学管理和维护是电镀生产中重要的环节,维护的关键在于除杂剂和净化工艺的选择。本文介绍的几种新颖除杂剂和净化工艺对改进几种常见镀液有实用性。     

全光亮镀铑添加剂的研究

为了适应饰品加工市场对高光亮镀铑添加剂国产替代进口的需要,在传统镀铑液配方及工艺的基础上,依据电化学原理,设计了全光亮镀铑添加剂的配方组合及工艺流程,并通过正交试验法对所获镀层的表观进行了评定,初步获得了一种新型全光亮镀铑添加剂.阐述了镀铑添加剂的作用机理,探索了最佳工艺用量.结果表明,采用本添加剂所得工艺配方简单,成本适中,操作方便,无毒无害,便于维护.在一定温度和电流密度条件下,所得镀铑层平整光亮,酷似白金,可作为仿白金装饰性镀层的理想工艺.     

镀Cr层对低碳钢与CFRP接头力学性能的影响

以低碳钢与碳纤维增强树脂基复合材料CFRP激光连接接头为研究对象,采用表面电镀工艺在低碳钢表面镀Cr,分析了镀Cr层对低碳钢与CFRP接头剪切强度的影响。结果表明,镀Cr低碳钢与CFRP激光连接接头发生断裂的位置是CFRP内部,断裂后的CFRP依旧粘连着低碳钢基体,镀Cr层的存在明显提高了接头的剪切强度。