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五.离子镀的发展。离子镀技术兴起30多年来取得了巨大的进步,在我国研究开发应用离子镀技术也有近20年历程,现今已形成相当规模的产业。目前,在装饰镀膜行业中以磁控溅射离子镀和阴极电弧镀为主:在工具超硬膜行业中,以阴极电弧镀为主力,空心阴极离子镀和热丝弧离子镀也有采用,但不盛行,并且渐退出:在光学膜行业,则以活性反应蒸镀和磁控溅射为主。近年来,以全新的理论为基础开发的新的离子镀方法似乎尚未出现,但对已有的方法进行了大量的改进、革新.完善工作。 相似文献
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多弧离子镀膜机Bulat-6的技术特性 总被引:3,自引:0,他引:3
利用多弧离子镀技术制备的TiN等各种硬质膜已经广泛应用于各种工模具表面强化[1 ] 。硬质膜质量的提高主要依赖于多弧离子镀膜机的技术进步。这种技术进步的实质在于更好地消除靶材液滴飞溅 ,提高靶材蒸发粒子的离化率[2 ] ,扩大真空室内等离子体均匀区范围 ,实现大束流离子束辅助增强沉积[3] 。从俄罗斯引进的Bulat 6多弧离子镀膜机 ,结构独特 ,沉积速率快 ,绕镀性好 ,可实现大束流离子束增强沉积 ,膜 /基结合力高 ,可对大尺寸模具镀制TiN等硬质膜。1 Bulat 6多弧离子镀膜机的组成Bulat 6多弧离子镀膜机结构示意图见… 相似文献
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离子镀技术是真空物理蒸镀法的一种。特别是用作镀覆化合物的反应性离子镀技术,便于在较低的温度下作 TiN、TiC 等超硬物质的镀覆。因而,对滚刀、小齿轮铣刀等高速钢切削工具的耐磨镀覆也具有广泛的实用价值。 相似文献
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表面纳米化对304不锈钢/CrN薄膜力学性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
表面纳米化可以显著改善金属材料的表面力学性能,并促进氮、铬等原子的热扩散,文中尝试采用表面纳米化技术改善金属基体/硬质薄膜的力学性能.对304不锈钢采用表面机械研磨处理获得纳米晶粒表层,采用多弧离子镀镀方法在表面纳米化和粗晶粒的304不锈钢基体上沉积CrN薄膜.对两种膜基体系采用X射线衍射、显微硬度测试、压入法和划痕法膜基结合性能评价.结果表明,表面纳米化影响了CrN膜层的组织结构,明显提高了膜基体系的硬度和承载能力,还改善了膜层的韧性,膜基结合性能也得到提高. 相似文献
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表面覆层硬化技术可显著提高模具零件的表面硬度和耐磨性,因而近年来获得了较大的进展。表面覆层法有热喷涂、堆焊、PVD 法和 CVD 法等。在 PVD 法中常用的有真空蒸镀、真空溅射镀和离子镀法等。其中离子镀层具有附着力强、浇镀性好、沉积速度快、无公害等优点。用离子镀工艺在模具表面镀上 TiC、TiN 层后,其使用寿命可延长几倍至几十倍。因此,离子镀在模具上的应用将越来越广泛。 相似文献
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前言目前世界各国都在研究和应用离子镀渗新技术。离子镀渗是将元素以离子状态渗入金属材料(或非金属材料)表面,如镀渗二硫化钼、超硬物质TiN、TiC、ZrC、VC、NbC等,以几倍到几十倍地提高磨损件的寿命。不仅如此,还可镀渗高温合金、铝、镍、氧化锆等,形成耐热、耐蚀层。在钛合 相似文献
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1.前言首先对本文使用的“超硬膜”的定义说明一下。笔者在这里考虑的超硬质膜是比现在广泛用于涂覆刀具的 TiN 硬质膜(TiN 的硬度是 HV1950左右)还要硬的薄膜。具体的说就是硬质金刚石膜(硬度难以计测在 HV10,000以上),CBN(立方氮化硼,HV5,000~6,000)和 DLC(类金刚石的碳 Diamond Like Carbon,HVmax 4,000~5,000)的膜。现在,这些超硬膜中的金刚石膜、DLC 膜已达到成膜不甚困难的水平。但 CBN 膜只能勉强成膜。 相似文献
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对单面氧化弯曲法计算氧化膜应力公式的修正 总被引:1,自引:0,他引:1
<正> 一、引言 早在二十年代,人们就发现伴随金属表面氧化膜的形成,膜内同时产生应力。氧化膜应力对膜的抗剥落性能的影响是近年来高温氧化领域一个引人注目的研究课题。目前,对于氧化膜应力可以进行定量测量,测量方法主要有单面氧化弯曲法和X-光衍射法。其中因单面氧化弯曲法较简单并能进行原位连续测试而应用较为广泛。并且,用此法还能测量由电镀、离子镀和气相沉积等技术制备的表面涂层的内应力。 但是,单面氧化弯曲法也存在某些不足之处。条状试样须单面镀保护膜,受此影响,初始氧化膜生长应力的测量误差就可能较大。特别是,单面氧化弯曲法是采用stoney公式进行应 相似文献
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PVD涂层技术在冲压/成型模具中的应用及实例 总被引:1,自引:0,他引:1
PVD涂层技术是最新、最先进的表面工程技术之一,它是把弧光放电作为金属蒸发源的表面涂层技术。由于离子镀技术具有镀膜速度高,膜层致密,膜的附着力好等特点,使多弧离子镀镀层在模具的超硬镀膜领域的应用越来越广泛,并将占据越来越重要的地位。介绍了离子镀技术的原理、特点,并在总结和归纳了国内外文献的基础上,重点介绍了离子镀技术在冲压/成型模具中的应用及实例,为今后离子镀技术的研究与应用提供了有益的借鉴。 相似文献
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在U表面循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Al层 总被引:10,自引:0,他引:10
用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)法在U表面 上镀Al,并采用俄歇电子能谱仪(SAM)、扫描电镜(SEM)、电化学实验和湿热腐蚀加速实验, 研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能,以及U基和Al镀层界面.结果表明:U上循环Ar+轰 击-磁控溅射离子镀Al界面存在较宽的原子共混区,且耐蚀性能明显优于常规磁控溅射离子 镀Al. 相似文献
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《硬质合金》2016,(1):1-7
采用先进等离子辅助电弧(APA-Arc)技术在YG6硬质合金上制备了成分梯度的Ti CN硬质膜,借助X射线衍射仪、扫描电镜、3-D形貌仪、压痕试验法、显微硬度计等检测手段对硬质膜和基体的微观组织和力学性能进行了表征分析。结果表明,Ti CN硬质膜厚度约3μm,组织均匀致密,膜层中C和N元素的含量从膜基结合部位到膜表面呈梯度变化,心部区富氮,表层富碳;氩离子对基体表面产生了显著的刻蚀作用,硬质膜结合强度HF1级;硬质膜呈较强的(111)晶面择优取向;Ti CN硬质膜的显微硬度3 110 HV0.05,比基体硬度(1 624 HV0.05)提高1.9倍;硬质膜表面粗糙度Ra值0.19μm,比基体的表面粗糙度略有降低。 相似文献
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以Be为基体 ,采用磁控溅射离子镀在其上镀制Al膜 ,研究了离子轰击对膜基界面和Al膜微结构的影响。研究表明 ,在薄膜沉积初期 ,施加高能量离子轰击和采取循环轰击镀能增加界面形成的Be、Al共混区宽度。不同能量的离子轰击对Al膜微结构有较大影响 ,不施加离子轰击 ,Al膜在 (111)面择优生长 ;随着轰击能量升高Al膜在(111)面择优生长趋势减弱 ,Al膜在 (2 0 0 )面生长趋势加强 ;当轰击能量超过一定值后 ,Al膜在 (111)面择优生长的趋势又得到加强。晶粒在低能量离子轰击时随轰击能量增加而细化 ,当较高能量离子轰击引起基体温度升高时 ,此时晶粒又变大了。 相似文献
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采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀(CFUMSIP)技术和离子渗氮技术在M2工具钢表面沉积CrMoN渗/镀复合涂层。利用SEM、EDS、XRD、纳米压痕仪、划痕仪和销盘摩擦磨损试验仪研究了该涂层的组织、成分、相结构、硬度、膜/基结合强度和摩擦磨损性能。结果表明,该涂层的表面和截面致密,涂层呈柱状晶生长,为fcc结构,同时图谱中出现了γ-Fe_4N和α-Fe的衍射峰。CrMoN渗/镀复合涂层的膜/基结合强度和摩擦磨损性能明显优于单一制备的CrMoN涂层。 相似文献