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去乙酰酶抑制剂N-(2-氨苯基)-4-[N-(吡啶-3-甲氧羰基)氨甲基]苯甲酰胺的合成 总被引:1,自引:0,他引:1
以3 羟甲基吡啶为起始原料,采用碳酰二咪唑(CDI)法在0~10℃下搅拌反应,合成中间体4 [N (吡啶 3 甲氧羰基)氨甲基]苯甲酸(Ⅰ),收率为83 9%;然后与氯甲酸乙酯及三乙胺在0~10℃下搅拌反应,制得酸酐活性中间体(Ⅱ);它不经分离直接与邻苯二胺在室温条件下反应10h即得目标产物:N (2 氨苯基) 4 [N (吡啶 3 甲氧羰基)氨甲基]苯甲酰胺,经硅胶柱层析提纯后,收率为45 0%,总收率为37 8%,合成具有一定绿色化学特性;经质谱、核磁和红外等谱学方法鉴定了目标分子结构。 相似文献
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介绍了一步法合成N 对羟基苯乙基 4 氯苯甲酰胺的方法,并通过正交试验找出了该工艺的优惠条件,和原工艺相比较,大大降低了原料消耗和生产中的毒性,更有利于工业化大生产。 相似文献
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报道了一种合成N[1-(4-甲氧基)环己基]哌啶的新方法,与原来的工艺相比较,避免了剧毒物NaCN的使用,操作更简洁,总收率由33%提高至53.3%。 相似文献
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Yoo-Jin Choi Seung-Muk Bae Jae-Hwan Kim Eui-Hyun Kim Hee-Soo Hwang Jeong-Woo Park Heesun Yang Eunsoo Choi Jin-Ha Hwang 《Ceramics International》2018,44(2):1556-1565
DIPAS (di-isopropylamino silane, H3Si[N(C3H7)2]) and O2 plasma were employed, using plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD), to deposit silicon oxide to function as the gate dielectric at low temperature, i.e., below 200 °C. The superior amorphous SiO2 thin films were deposited through the self-limiting reactions of atomic layer deposition with a deposition rate of 0.135 nm/cycle between 125 and 200 °C. PEALD-based SiO2 thin layer films were applied to amorphous oxide thin film transistors constructed from amorphous In-Ga-Zn-O (IGZO) oxide layers, which functioned as channel layers in the bottom-gated thin film transistor (TFT) structure, with the aim of fabricating transparent electronics. The SiO2 gate dielectric exhibited the highest TFT performance through the fabrication of heavily doped n-type Si substrates, with a saturation mobility of 16.42 cm2/V·s, threshold voltage of 2.95 V and large on/off current ratio of 3.69 × 108. Ultimately, the highly doped Si was combined with the ALD-based SiO2 gate dielectric layers, leading to a saturation mobility of 16.42 cm2/V·s, threshold voltage of 2.95 V, S-slope of 0.1944, and on/off current ratio of 3.69 × 108. Semi-transparent and transparent TFTs were fabricated and provided saturation mobilities of 22.18 and 24.29 cm2/V·s, threshold voltages of 4.18 and 2.17 V, S-slopes of 0.1944 and 0.1945, and on/off current ratios of 9.63 × 108 and 1.03 × 107, respectively. 相似文献
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应用水溶性4,9一二[N-(2一二甲氨基)乙基]-9-吖啶胺-4-甲酞胺(DNAF)探针,研究了DNAF与牛血清白蛋白(BSA)的相互结合作用机理.计算出相应的热力学参数△H,△G以及△S;通过荧光猝灭方法研究结合作用,测定出结合位点数n和表观结合常数KA;根据荧光共振能童转移理论求得供体BSA和受体DNAF的距离r;... 相似文献
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在无水碳酸钾存在下,N,N-二甲基甲酰胺为溶剂,由2-氯乙酰甲胺和4-苯氧基苯酚反应,制备了N-甲基-2-(4-苯氧基苯氧基)乙酰胺。而后,以乙腈和四氯化碳为混合溶剂,磺酰氯和N-甲基-2-(4-苯氧基苯氧基)乙酰胺反应,得到目的产物。着重考察了反应温度、反应时间、物料摩尔比对目的产物收率的影响。从而确定了产物的合成工艺条件为:反应温度40℃,反应时间5 h,n[N-甲基-2-(4-苯氧基苯氧基)乙酰胺]∶n(磺酰氯)=1∶1.4;在此条件下,产物的收率达80%以上。经IR、MS1、H NMR确定为N-甲基-2-[4-(4-氯苯氧基)苯氧基]乙酰胺。 相似文献
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标题化合物(SYP-300)是沈阳化工研究院的试验除草剂。由丙基异硫氰酸酯与6-氨基-7-氟-4-炔丙基-1,4-苯并噁嗪-3-酮经两步反应制得。其结构经核磁共振谱、红外光谱和元素分析确证。SYP-300在温室条件下100ga.i./hm^2可防除多种阔叶杂草,在200ga.i./hm^2对小麦和水稻安全。 相似文献
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研究优化了合成烯草酮、烯禾定以及cloproxydim等环己烯酮类除草剂的重要中间体5-[2-(乙硫基)丙基]-1,3-环己二酮的合成方法.首先,巴豆醛与乙硫醇在三乙胺中高收率制得3-乙硫基丁醛,然后以乙酰乙酸甲酯为原料,通过碱水解、与3-乙硫基丁醛缩和、脱水三步反应合成6-乙硫基庚烷-3-烯-2-酮,接着6-乙硫基庚烷-3-烯-2-酮与丙二酸二甲酯经Michael加成和Claisen缩合,再通过皂化和脱羧反应生成目标化合物5-[2-(乙硫基)丙基]-1,3-环己二酮,主要中间产物以及目标产品均与标准品对照,经液质联用确认. 相似文献
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以2-偕二硝甲基-5-硝基四唑钾盐(KDNMNT)为原料,在硫酸-水介质中经KDNMNT与乌洛托品(HMTA)的缩合反应制备出双[2-(5-硝基-2 H-四唑基)-2,2-二硝乙基]胺(BNTDNEA),BNTDNEA在H2NO3介质中经硝化反应制备出双[2-(5-硝基-2 H-四唑基)-2,2-二硝乙基]硝胺(NTEA),总收率为30.20%。用红外光谱、核磁和元素分析对BNTDNEA和NTEA的结构进行了表征。用量子化学方法对NTEA的密度(ρ)、生成焓[ΔfHm(s)]、爆速(D)和爆压(p)进行了理论计算。结果表明,合成BNTDNEA的最佳反应条件为:n(KDNMNT)∶n(HMTA)=2.5∶1.0,反应温度40℃;合成NTEA的最佳条件为:硝化体系为98%的硝酸,硝化反应温度为5℃。NTEA的ρ、ΔfHm、D和p值分别为1.97g/cm3、416.02kJ/mol、9.336km/s和41.53GPa,其能量水平与CL-20相当。 相似文献
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以间三氟甲基苯胺为起始原料,经重氮化反应和改进的Meerwein芳基化反应,制得1-[3-(三氟甲基)苯基]-2-丙酮。对反应条件进行了优化,在优化条件下的总收率可达90%。 相似文献