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本文提出了一种非晶-晶化法制备微晶铜铬触头材料的新工艺。该工艺制备的铜铬触头材料,其组织中散着几个微米大小的铬细晶颗粒。由于经过电弧熔炼过程,消除了熔渗法和烧结法制造的触头中存在的大颗粒夹杂现象。可提高触头质量及在真空开关中运行的可靠性。另外,该工艺对原料铜和铬的要求可以降低,工艺相对简单,适用于各种铬含量铜铬头触头的材料的制造,是一种高质量,低成本,便于大规模生产铜铬触头材料的新的制造工艺。 相似文献
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一、前言用作真空接触器的铜钨触头材料在使用过程中,会释放出材料中的气体元素。这样会导致真空度的破坏而造成接触器的损坏。目前尽管已有人对用于大电流的真空触头材料含气量的要求进行了理论估算,但实际对电触头材料的容许含气量(类型与数量恻至今尚未确定,由于原材料、工艺条件等原因想把电触头材料中气体含量降到接近于理论估算值目前是不可能的。一般总希望真空电触头材料含气量越低越好。目前生产的铜钨电触头材料其含氮量较高。为了分析材料中的含氮量和寻找氮含量的来源,需要建立一个快速、准确测定铜钨电触头材料中含氮量的… 相似文献
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Cu20Cr5Ta真空开关触头材料特性的对比研究 总被引:1,自引:0,他引:1
铜铬广泛用于真空开关,作为真空断路器的触头材料。为了提高铜铬触头材料的分断能力,在其中添加了高熔点金属钽。研究了Cu20Cr5Ta触头材料的截流水平及分断能力,并与常用的Cu50Cr,Cu25Cr进行了对比,发现在触头尺寸相同,采取同样触头结构的情况下,Cu20Cr5Ta的电流极限分断能力比Cu50Cr,Cu25Cr强,而且Cu20Cr5Ta具有更低的截液水平,因此Cu20Cr5Ta是一种适用于真空开关的优良的触头材料。 相似文献
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CuCr真空触头材料电特性的改善 总被引:4,自引:0,他引:4
对深冷处理引起的铜铬真空触头材料的组织变化进行了研究。深冷处理使铜铬触头材料组织细化,尤其是合金材料中铬相细化明显,结晶的合金组织有助于改善铜铬触头材料的电性能。 相似文献
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本文简单介绍了热等离子技术的原理及真空开关用铜铬触头材料制造工艺现阶段的研究发展状况,对热等离子体技术在铜铬材料制备中的应用作了评述。 相似文献
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我们研究了铜铬触头材料中铬含量从12.5% ̄75%(重量比)的范围内变化对电流开断能力以及电弧形态,阳极熔化时间和电流开断后的触头侵蚀的影响。结果表明,在上述的铬含量变化范围内,铬含量越低,电流开断能力越高。当铬含量减少后,电弧聚集时间和电流开断后的阳极熔化时间都缩短,但是铜铬触头的侵蚀量变化,根据这一结果,可以看出真空断路器中铜铬触头材料中存在一个铬的最优含量。 相似文献
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电触头材料的制造,应用与研究进展 总被引:15,自引:0,他引:15
针对电触头材料制造工艺技术的发展和近年来发展较快,用量较大的几类电触头材料的应用状况及研究进展进行了综合评述,并展望了电触头材料今后的发展趋势与前景。 相似文献
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提高灭弧室技术要求:触头是真空灭弧室的关键部件,触头材料的构成成分,纯度,表面光洁度,装配工艺都直接影响真空开关的截流水平。触头材料主要用铜铬合金,铜铋合金和铜钨合金,国外有使用高纯度铜和高纯度钢材料的。 相似文献
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银基电触头材料是我国乃至全世界低压电器开关公认关键性基础性功能材料。其影响之大可以概括为没有性能优越的电触头材料就没有性能优越的电器开关。 相似文献