真空蒸镀预熔→蒸发过渡电流变化率对光控膜物理特性的影响

通过研究真空蒸镀工艺中预熔→蒸发过渡电流变化率对光控膜物理特性（ 附着力和耐磨性） 的影响，得出过渡电流变化率是影响蒸镀膜层物理特性的关键因素之一，并对其机理作了讨论．实验确定出蒸镀阳光控制膜（Ｎｉ／Ｃｒ） 时过渡电流变化率不得小于３０ Ａ／ｓ．     

真空蒸镀热反射玻璃电清洗工艺研究

分析了蒸镀反射膜时电清洗玻璃的必要性,提出了在真空室体中设置栅极并加以负高压,采用氨气产生等离子场并用其轰击清洗玻璃表面的方法。实验确定了蒸镀热反射膜（ｎｉ／ｃｒ）时的最佳轰击清洗时间。     

不同基体真空蒸镀铝膜的附着力研究

采用电阻加热式真空蒸镀法在玻璃、H13钢、塑料和纯铜基体上镀制铝膜,并对其附着力进行了测试和分析.结果表明:铝膜对基体的附着力随蒸镀时间的延长而增加,二者基本上呈线性关系;在相同镀制工艺条件下,铝膜对玻璃、H13钢、纯铜和塑料基体的附着力依次增强;在50~350℃之间退火后,铝膜对纯铜基体的附着力高于退火前,且随退火温度的升高而增大.     

阴极蒸镀和隔离层对有机发光二极管性能的影响

制备了简单结构的有机发光二极管(OLED)ITO/NPB/Alq3/Al/Ag。实验结果表明,快速蒸镀法制备的Ag阴极越厚,器件性能越差,而慢速蒸镀200nmAg阴极时器件性能也较差。在Alq3与Al阴极之间插入BCP/C60/LiF隔离层后,即使快速蒸镀法制备的Ag厚达280nm,器件的最大电流密度、最大亮度和最大电流效率仍分别高达248.6mA/cm2、5380.7cd/m2和3.52cd/A。隔离层不仅保护NPB和Alq3基本不被玻璃化,还很好地与Alq3和Al阴极匹配,大大提高了器件性能。     

微型磁通门工艺的研究

为了制备体积小重量轻的可用于航天方面的微型磁传感器,用微机械加工方法制备了微型磁通门芯片.重点研究用蒸镀和掩膜电铸两种途径制备微型磁通门磁芯的工艺,研究了不同电铸工艺参数(镀液中c(Fe~(2+))/c(Ni~(2+))比、电流密度、pH 值)对镀层组份的影响并获得较为理想的成分比.利用振动样品磁强计测得磁芯材料的磁滞回线表明电镀的磁芯性能优于蒸镀的.     

微型磁通门工艺的研究

为了制备体积小重量轻的可用于航天方面的微型磁传感器，用微机械加工方法制备了微型磁通门芯片。重点研究用蒸镀和掩膜电铸两种途径制备微型磁门磁芯的工艺，研究了不同电铸工艺参数（镀液中cFe^2 ）／c（Ni^2＋）比、电流密度、pH值）对镀层组份的影响并获得较为理想的成分比。利用振动样品磁强计测得磁芯材料的磁滞回线表明电镀的磁芯性能优于蒸镀的。     

玻璃基底上NiTi薄膜制备及特性

研究了真空蒸镀制备的玻璃基底上的ＮｉＴｉ薄膜的特性，并进行了成分分析、Ｘ射线衍射分析、电阻经时变化及电阻－温度特性测定。结果表明：真空蒸镀所得的ＮｉＴｉ膜中Ｔｉ的物质的量分数比蒸发源镀材降低约０．０７；基底温度低于３５０℃时，ＮｉＴｉ膜的电阻－温度曲线呈线性变化；采用镀后热处理，可使ＮｉＴｉ膜晶化，且出现Ｒ相变。同时，ＮｉＴｉ膜相变温度、相变量，电阻经时变化特性与基底温度及热处理工艺有关。     

斜角蒸镀光学薄膜工艺的研究

斜角蒸镀方法是制备光学薄膜的常用方法之一.试验证明,采用斜角蒸镀方法沉积薄膜,能改变薄膜晶体结构,从而使薄膜性能得到改变.在蒸发过程中,蒸发材料在基底上形成了倾斜的柱状结构薄膜,而且随着蒸镀过程入射角度的增加,薄膜柱状结构也发生了明显改变,本文结合试验结果对这些影响因素加以分析.通过控制薄膜生长的条件,包括沉积的材料和其它条件,能够将薄膜结构控制精确到10nm级别.在薄膜生长过称中,动量守恒和表面扩散作用是形成这种独特的柱状结构的主要原因.因此,如果能够采用工艺手段改变材料的结构来改变它的折射率,就能使光学薄膜的选材更加广泛,也能扩大光学薄膜应用范围.     

非晶态Ni—P合金镀液和镀层的稳定性

通过对电沉积非晶态Ｎｉ－Ｐ合金镀组成和镀层性能的稳定性进行了研究,了解到对镀层质量影响最大的因素是镀液的ＰＨ值,其次是「Ｈ２ＰＯ３」;找出了稳定镀液组成和镀层质量的有效措施,即采用一定面积比例的ＤＳＡ和Ｎｉ混合阳极,调整好镀液的ＰＨ值,适当加入稳定剂和降低镀液的「Ｃｌ＾－」,定时定量持添加Ｈ３ＰＯ３。     

GaAs外延层蒸镀Cr和Au膜制作欧姆接触及分析

本文介绍了在GaAs激光器的P型GaAs外延层上蒸镀Cr和Au的工艺过程以及去除Cr的新工艺，代替原来的镀Zn和An工艺。这项工艺改善了镀Au层的延展性、耐腐蚀性和抗磨损性，大大地提高了膜层在外延层上的附着力，为进一步提高GaAs激光器性能提供了有利条件。     

复配的表面活性剂对热镀锌无铵助镀剂的影响

采用表面张力实验、接触角测量、助镀剂盐膜量计量和金相显微镜测试等检测手段,研究了十六烷基三甲基溴化铵、脂肪醇聚氧乙烯醚及两者复配的表面活性剂的添加对热镀锌无铵助镀剂性能的影响,考察了表面活性剂对新型助镀剂的湿润性能和盐膜量的作用,观察了盐膜的形貌变化。研究结果表明:一定浓度复配的表面活性剂可使助镀溶液对镀件的表面张力下降67.10%,使助镀溶液对镀件的接触角从71°减小到37°,使助镀剂盐膜量下降29.10%,均优于添加单一表面活性剂的;且金相显微镜图显示,加入复配表面活性剂的助镀溶液形成的盐膜更加均匀、致密。     

码盘、圆光栅真空镀铬工艺的研究

通过对码盘、圆光栅真空镀铬原理及膜层形成机理的分析,给出膜层厚度和影响其均匀性和致密性的主要因素之间的关系式以及安全成膜时被镀件的临界转速,为真空条件下获得厚度均匀、致密性好的铬膜提供了理论依据.     

直流磁过滤电弧源沉积氧化钛薄膜的光学特性

为了探索电弧源离子镀技术制备的氧化钛薄膜的透射率、消光系数和折射率,利用直流磁过滤电弧源在K9玻璃基底上制备了氧化钛薄膜,通过分光光度计和椭偏仪对薄膜的透射率、折射率和消光系数等光学特性和沉积速率进行分析研究.研究结果表明：波长在400～700nm之间,氧化钛薄膜的折射率为2.3389～2.1189;消光系数在10-3数量级上,消光系数小,薄膜吸收小,薄膜峰值透射率接近K9基底的透射率;沉积时间30min,薄膜的厚度是678.2nm,电弧源离子镀技术沉积氧化钛薄膜的平均速率为22.6nm/min.     

Improved Electrochemical Performance of Surface-Modified Metal Hydride Electrodes

A novel plating process was applied to the surface modification of the metal hydride (MH) electrode of the MH/Ni batteries. The electrode was plated with a thin nickel film about 0.1 μm thick by using multi-arc ion plating technique. The X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and scanning electron microscope (SEM) were used to analyze the electrodes. Influence of the surface modification on the performance of the MH/Ni batteries was studied. It is shown that the surface modification could enhance the electrode conductivity and decrease the batteries ohimic resistance by 28.2%. After surface modification, the discharge capacity of the batteries at 5C (8.5 A) is increased by 212 mA·h and discharge voltage is increased by 0.09 V. The surface modification also improves the cyclic durability of the batteries. The inner pressure of the batteries with modified electrode during overcharging is much lower than that with unmodified electrode. The experimental results demonstrate that this process is an effective way for the surface modification of the electrode of MH/Ni batteries.     

多弧离子镀在海洋船舶装备材料上的应用

离子镀膜技术作为一项正在发展的表面镀膜技术,具有良好的耐摩擦、磨损性能。多孤离子镀是最先进的镀膜技术之一,通过阐述分析多弧离子镀的原理、技术优点,研究其应用领域,探求多弧离子镀在海洋船舶材料中的应用,并对该技术进行展望。     

重载传动件厚镀层的刷镀工艺参数选择与控制

从重载传动件对镀层的性能要求出发，通过实验及ＳＥＭ分析，论证了刷镀工艺参数与镀层组织结构和机械性能的关系，提出了相应的刷镀工艺参数选择及控制原则。     

新型不锈钢基PbO2/PbO2-CeO2复合电极材料的研制

报道了在不锈钢基体上电沉积制备PbO2／PbO2-CeO2复合电极材料．研究了电沉积工艺参数对不锈钢表面沉积二氧化铅的影响．采用XRD、SEM对得到的电极进行了相结构和形貌分析，把该新型电极材料应用于电积锌过程并与传统的铅电极进行了对比，结果表明，采用不锈钢基PbO2／PbO2-CeO2复合电极材料，锌电积过程的槽电压降低，电流效率高．     

计量光栅盘真空镀铬机理与工艺研究

在计量光栅盘的制作过程中,真空镀铬是影响计量光栅盘精度和成品率的主要工序之一。为了提高计量光栅盘的精度及成品率,对计量光栅盘真空镀铬原理及膜层形成机理进行了分析,给出了影响铬层致密性及牢固度的主要因素与铬层均匀性和蒸发距离之间的关系式,并针对其原因对相关工艺进行了改进,实验证明改进后的工艺对改善铬膜的致密性和牢固度及均匀性起到了一定的作用,使计量光栅盘的成品率提高了10%,同时也为进一步改善后续工艺提供了理论依据。     

大口径半球形基底膜层均匀性的分析

针对半球面大口径球形光学元件的膜层均匀性进行了理论分析研究。通过建立半球形基底内表面的数学模型,运用膜厚理论公式表达出内表面的膜厚分布。推算了蒸发源不同位置对膜层均匀性的影响,同时对理想点源、小面源和实际蒸发特性对膜厚的影响进行了分析。该研究工作对大曲率半球膜层镀制工艺具有一定的指导意义,在改善此种表面膜层均匀性上提供了理论依据。     

镀膜玻璃真空夹具的研制

为使浸渍于溶液中的玻璃基片仅仅一面形成镀膜，研制了一种玻璃真空夹具。论述了这种夹具的总体结构、密封形式和影响玻璃密封的若干因素。