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现有成品率及关键面积估计模型中,假定缺陷轮廓为圆,而实际缺陷轮廓为非规则形状.本文提出了矩形缺陷轮廓的成品率模型,该模型与圆模型相比,考虑了缺陷的二维分布特性,接近真实缺陷形状及IC版图布线和成品率估计的特点.比较了新模型与真实缺陷及其圆模型引起的成品率损失,表明新模型在成品率估计方面更加精确,这对成品率精确估计与提高有重要意义. 相似文献
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IC缺陷轮廓的分形插值模型 总被引:1,自引:0,他引:1
现用于集成电路(IC)成品率预报及故障分析的缺陷模型均是用圆或正方形来代替真实缺陷的复杂轮廓进行近似建模的,从而在模型中引入了很大的误差。本文利用分形插值的思想直接对真实缺陷的轮廓进行模拟,从而提出了一种新的缺陷轮廓表征模型。实验结果表明:与传统的最大圆模型,最小圆模型及椭圆模型相比,新模型的建模精度有很大的提高。 相似文献
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集成电路局部缺陷模型及其相关的功能成品率分析 总被引:2,自引:0,他引:2
大规模集成电路(VLSI)使亚微米特征尺寸的大面积集成电路制造以及集成数百万个器件在一芯片上成为可能。然而,缺陷的存在致使电路版图的拓扑结构发生变化,产生IC电路连接错误,导致电路丧失功能,从而影响IC的成品率,特别是功能成品率。文章主要对缺陷的轮廓模型、空间分布模型和粒径分布模型作了介绍;对集成电路成品率的损失机理作了详细论述。最后,详细介绍了功能成品率的分析模型。 相似文献
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硅片缺陷粒径分布的分形特征及动力学模型 总被引:1,自引:1,他引:0
本文研究硅片上与光刻工艺相关的尘粒的粒径分布,分析缺陷粒径分布的分形特征,利用缺陷粒径的分布函数得到缺陷粒径体系的分维数,建立缺陷粒径分布的分形模型,同时给出此模型所得参数的物理意义。最后,本文对缺陷粒径变化过程给出了新的动力学模型,并对此进行分析和讨论。揭示光刻缺陷的粒径分布及其动力学成因,为集成电路可制造性设计及功能成品率的精细表征开辟了一条新径。 相似文献
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针对分数布朗运动模型在不同尺度上粗糙度相同的缺陷,提出一种将高阶分形特征作为分形维数补充的目标检测算法。该方法将Hurst指数和缝隙特征相结合,分析比较了海杂波和目标的特性。在此基础上,对IPIX雷达实测数据进行实验分析。结果表明,对海杂波背景下的小目标检测,提出的算法比仅基于分形维数的检测算法性能更优。 相似文献
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本文主要研究集成电路硅片上缺陷的空间分布,在详细考察缺陷空间成团效应的基础上,提出了一个新的描述缺陷空间分布的量-分数维,并建立了一个结构化的模型。用分数和维对缺陷的成团效应及其空间分布进行详细地分析和计算机模拟,并验证了结果的正确性。本文为实现集成电路可制造性设计中的功能成品率精确表征奠定了基础。 相似文献
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鉴于弱小目标检测所固有的难点及常用的检测方法不能准确、稳定地检测出目标,提出了运用分形曲面尺度斜率特征检测弱小目标的方法。通过实际数据分析可以得出:相比常用的分形维数和分形拟合误差等检测特征,分形曲面尺度斜率特征在表征人造目标与自然背景的差异上更加明显,在抗图像噪声干扰上也更为优异,有着更强的鲁棒性。该方法普遍适用于检测自然环境中的弱小目标,尤其在对空弱小目标方面,检测概率更高。无论背景、飞行姿态、目标类型发生怎样的变化,经本文算法运算后只需一步简易的分割就可以检测出微弱暗小目标。 相似文献
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低对比度前视红外坦克目标图像检测方法研究 总被引:1,自引:0,他引:1
将分形几何学用于低对比度前视红外图像的分割,分析研究了自然场景与人造物体的分形特性随尺度的不同变化,提出并构造一种新的多尺度分形特征矢量,通过K-均值算法在特征空间中对其进行类聚,从而实现了低对比度前视红外坦克目标图像的准确分割。 相似文献