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制备一系列底膜为聚偏氟乙烯(PVDF)、m(SiO_2)∶m(PPMS)比不同的SiO_2/聚二甲基硅氧烷(PDMS)杂化膜。考察了m(SiO_2)∶m(PPMS)比、操作温度等因素对杂化膜透醇性能的影响,并对其微观形貌(SEM)、溶胀性质以及正电子湮没寿命谱(PALS)进行了表征。结果表明,在室温下,以PDMS为主体的m(SiO2)∶m(PPMS)比杂化膜的自由体积孔穴平均半径(0.39nm)介于水、乙醇的分子动力学半径之间,是造成此类膜材料渗透通量普遍偏小的原因。杂化膜的自由体积孔穴数量随着SiO_2填充的增加而下降。 相似文献
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目的防止4J29细引线框架在电镀Ni/Au或Ni/Pd/Au过程中镀件细线断裂及镀层局部出现开裂。方法采用对比的方法,通过200倍放大镜仔细观察电镀工艺改变或调整前后细引线镀层外观质量,再经过单片弯折实验,观察电镀后细线有无断裂或开裂现象,对有断裂或开裂等缺陷的产品进行统计,计算次品率。结果电镀前对工件进行热处理,基本可以消除工件电镀后框架细线断裂的问题。通过改变电镀镍工作液组成及工艺条件,能有效解决镀件局部出现开裂的问题。电镀前,原始片热处理的工况为:温度420~450℃,保温时间120 min,采用自然冷却的方式冷却到室温。电镀镍的工艺规范为:氨基磺酸镍250~350 g/L,硼酸25~35 g/L,润湿剂(K12)0.01 g/L,糖精0.3~0.4 g/L,pH值3~5,温度50~60℃,电流密度3.0~5.0 A/dm~2。结论开发了一种防止4J29引线框架电镀后细线断裂及电镀层开裂的新的电镀工艺方法。经过企业实际使用,并抽样进行每单片10次90°弯折实验,新的电镀工艺生产的产品,其次品率稳定控制在2%以下,其他性能检测也符合企业产品质量要求。 相似文献
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