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1.
2.
为得到光学性能良好、稳定的TiO2薄膜,采用离子束溅射的方法,改变氧分压,在k9玻璃上制备出不同结晶取向不同光学常数的TiO2薄膜.采用椭圆偏振光谱仪测试、拟合得到薄膜的厚度、折射率和消光系数.薄膜通过400℃退火,利用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、结晶和取向进行分析.实验结果发现,随氧分压增加折射率减低,当氧分压达到1.0×10-2Pa时,折射率在2.43附近,变化趋于稳定.氧分压对薄膜的消光系数k影响较大,氧分压高于1.0×10-2Pa时在可见光和近红外区薄膜消光系数近似为0.随氧分压降低,薄膜从(101)向(200)转变.在此氧分压下,得到的薄膜折射率稳定,消光系数相对较小. 相似文献
3.
氮化铝薄膜具有高折射率,良好的化学稳定性,耐磨摩、高电阻等特性在微电子器件和光学薄膜中有着广泛地应用.本文研究了反应式磁控溅射方法利用Ar/N2混合气体镀制氮化铝薄膜的工艺过程,实验表明在高真空和高泵浦速率条件下,放电电压直接依赖于反应气体珠浓度.薄膜的折射率,消光系数和薄膜硬度都依赖于氮气浓度的比例.通过工艺研究,找到了氮气在不同浓度下对氮化铝薄膜的折射率,消光系数以及薄膜硬度的影响,找出了镀制氮化镀制氮化铝薄膜的最佳工艺参数.在Ar/N2工作气体中氮气含量保持在40%条件下,用反应式磁控溅射方法,可以精确镀制出良好的氮化铝薄膜,其中折射率范围在2.25~2.4之间,消光系数为10-3,薄膜显微硬度大于20GPa.该薄膜可以广泛应用于微电子器件和光电器件上. 相似文献
4.
本文通过对端部霍尔离子源特性的研究 ,采用自行研制的用于离子束辅助沉积的端部霍尔离子源成功镀制了类金刚石膜 ,并对采用该离子源制备类金刚石膜的工艺进行了研究和分析。实验结果表明 ,采用端部霍尔离子源镀制类金刚石膜不仅操作简单、可实现大面积沉积 ,而且类金刚石膜的沉积速率较大 ,最大可达 0 .8nm s,其折射率依不同工艺在 1.8~ 2 .2之间可调。并对不同工艺条件下制备的类金刚石膜的硬度进行了测试和分析。 相似文献
5.
6.
程序设计话言Algol扩充了两个变量类型: 1.expression——能够指派表达式的变量, 2.string——能够指派行的变量。 此外,引入了由行组成的元语言表达式。经过这些繁琐的修改后,算术的和形式的算法就能够很容易地作程序设计。用一个台劳展开的例子和一个经过计算的试例(哈密顿力学变形问题)说明了上述扩充的应用。程序设计语 相似文献
7.
随着人口增加,运输量需求的增大,我国公路事业日渐快速发展,道路质量的完善程度关系到交通运输程度以及经济发展效率甚至更多人的健康甚至生命。因此道路工程试验检测手段作为能够保障这些事业有序进行的管理型手段其水准和质量也应该得到提高,进入专业化现代化的检测管理手段。 相似文献
8.
9.
基于离子束辅助镀膜技术,自主研制了一款新型霍尔无栅离子源,利用该离子源,采取离子束辅助沉积方法,在玻璃基底上镀制了多种光学薄膜,并对所镀制光学薄膜的性能进行了测试。测试结果表明:所研制的霍尔无栅离子源制备的各种光学薄膜,其膜层强度、附着性、耐腐蚀性以及光学性质都比常规热蒸发工艺所制得的薄膜有明显改善。 相似文献
10.