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1.
Zhaokuan Lu Aishwarya Rath Seyed Hassan Amini Aaron Noble Shima Shahab 《矿业科学技术学报(英文版)》2022,32(3):525-537
This work proposes a vibrating mesh screen as an alternative to the static mesh screen currently used in conventional flooded-bed dust scrubbers for removing airborne coal mine dust in the continuous mining environment. Fundamental assessments suggest that a vibrating screen may improve the dust collection efficiency of scrubber systems and mitigate the clogging issues associated with the conventional design.To evaluate this hypothesis, computational fluid dynamics(CFD) simulations were carried ... 相似文献
2.
Aaron Hand 《集成电路应用》2006,(Z1)
浸没式光刻要实现32纳米技术乃至进一步向下延伸,在高折射率液体,光学镜头以及光刻胶等关键技术领域需要不断取得突破性的进展。为了得到更高的分辨率,超高数值孔径浸没式光刻技术势在必行,由此而产生的光学偏振问题会日益突出,现在光刻领域的专家已经开始着手解决这个问题。 相似文献
3.
4.
Aaron Hand 《集成电路应用》2007,(6):32-32
虽然应用材料公司(Applied Materials)并不以光刻而闻名,但它还是想提醒大家:光刻不是只有印制(printing)。正如应用材料公司的薄膜事业群总经理Farhad Moghadam在SPIE的先进光刻会议的新闻发布午宴 相似文献
5.
Aaron Hand 《集成电路应用》2006,(Z1)
纳米压印光刻经学术和行业团体近十年的研究之后,已逐渐开始对半导体行业产生引导作用。简单地讲,纳米压印是把一个1×的模板压进一个柔性层,从而在衬底上制作图形。斯坦福大学的电子工程教授 相似文献
6.
Aaron Hand 《集成电路应用》2006,(10):30-30,32
ASML和Nikon最新一代的浸没式光刻设备其数值孔径(NA)已经接近了使用水作为浸没液体所能达到的光学理论极限了。在SEMICON West大会上,Nikon发布了它的最新一代浸没式光刻设备NSR-S610C,其数值孔径达到了1.3;而 相似文献
7.
Aaron Hand 《集成电路应用》2007,(4):26-29
随着高折射率浸没式光刻看起来并不比其他光刻方案更有希望,业界现在开始热烈地讨论双重图形,想以此作为拓展水浸式光学光刻强有力的方法 相似文献
8.
初识毛瑟光绪三年(1877年),李鸿章提出各地清军用枪五花八门,各种不同的枪械和弹药种类给后勤补给造成了很大困难,有必要统一武器制式.此时,清军正处于前膛步枪与后膛步枪混用状态.晚清军队使用的单发后膛步枪早先以施耐德(Snider)、雷明顿(Remington)、温彻斯特(Winchester)为主,1870年代开始... 相似文献
9.
基于C8051F124的高稳定性脉冲幅度分析电路的设计 总被引:1,自引:1,他引:0
脉冲幅度分析技术在核辐射测量中是-个关键问题.文章介绍一种基于C8051F124单片机的高稳定性脉冲幅度分析电路的设计,主要包括线性脉冲放大器、甄别控制电路、MCU系统和USB(U-niversal Serial Bus)接口电路.选用USB接口,使得系统安装简单,便捷易用. 相似文献
10.