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在尿素-NaBr-KBr-甲酰胺体系中电沉积制备稀土-铁系金属(Sm-Co)合金,研究沉积液中主盐浓度配比、电流密度等工艺参数对沉积膜的形貌及合金含量的影响。用扫描电镜(SEM)观察金属Sm-Co合金沉积膜表面形貌,结果表明,金属Sm-Co合金沉积膜较平整均匀,呈现银灰色;X射线衍射(XRD)分析表明稀土金属Sm-Co合金为SmCo5六方晶体;特征X射线谱(EDS)证明沉积膜由金属Sm、金属Co和极少量的O、C组成,单质Sm的含量(质量分数)为29.07%,单质Co含量为63.51%;Sm与Co的摩尔比约为1:5;经Ar离子对样品表面层溅射后,X射线光电子能谱(XPS)测定结果进一步证明,沉积层为单质Sm和单质Co。并研究了Sm-Co合金的磁学性能,如矫顽力、磁矩及最大磁能积。用聚乙烯醇保护膜涂附可以防止稀土合金氧化。 相似文献
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研究室温下在熔盐体系中用电沉积方法于铜基体上沉积单一金属钆,分析了沉积液中主盐的含量、电流密度、电沉积时间及沉积液的pH值选择等工艺参数对沉积薄膜的形貌和金属Gd含量的影响.经X射线能谱仪(EDS)测定,其中Gd的质量分数为93.56%;经扫描电子显微镜(SEM)观察所得沉积薄膜为均匀、光滑、致密的银白色沉积膜;经X射线衍射仪(XRD)分析,所得沉积薄膜的晶体结构为立方晶;通过X射线光电子能谱仪(XPS)对沉积薄膜表面价态分析,证明所得沉积薄膜为单一稀土金属钆.用聚乙烯醇保护膜涂覆可以使稀土沉积薄膜免于氧化. 相似文献
3.
采用机械化学法,以SnCl2、Na2CO3为反应物,以NaCl为稀释剂合成SnO2纳米晶,采用TEM、XRD等方法对制备的SnO2纳米晶进行表征,并分析了球磨时间、稀释剂的用量及热处理温度对SnO2纳米晶晶粒尺寸的影响.研究结果表明增加球磨时间和稀释剂的用量可以有效降低SnO2纳米晶的晶粒尺寸,利用该法制备的SnO2纳米晶粒径均匀,较优条件下晶粒尺寸可达7 nm. 相似文献
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微波辐射在联氨还原法制备金属Co纳米微粒中的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
采用次亚磷酸钠为辅助还原剂,联氨为主还原剂,在微波辐射下还原钴盐制备六方结构o纳米粒子.采用透射电子显微镜和激光散射仪观察并测定纳米Co粒子的形貌、粒径大小及分布,确认Co纳米粒子为类球形,粒径为10~15nm.在正己烷中存在软团聚,团聚体平均尺寸约30nm.采用XPS考察产物的表面价态,证明金属Co纳米晶是以零价态存在的. 相似文献
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基于文献报道的相平衡和热化学实验数据,利用相图计算(Calphad)方法对Ni-Yb二元系进行热力学评估。考虑到液相混合焓在25%Yb(摩尔分数)附近有急剧变化,液相采用缔合物模型,组份为Ni、Yb Ni3和Yb;端际固溶体相包括FCC_A1(Ni)、FCC_A1(Yb)和BCC_A2(Yb),均采用亚规则溶体模型,并按照Redlich-Kister多项式进行描述;中间化合物Yb_2Ni_(17)、YbNi_5、YbNi_3、YbNi_2、α-YbNi和β-YbNi都没有明显的固溶度实验数据,均按严格计量比处理。优化得到的Ni-Yb二元系热力学参数自洽合理,能够很好地再现该体系的热化学性质和相图数据。 相似文献
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镍、磷和空心微珠复合镀层摩擦磨损性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
运用化学镀方法,把空心微珠作为第二相加入化学镀镍和磷镀液中,制得以镍、磷和空心微珠为主的复合镀层.X射线分析显示,复合镀层经过热处理后由非晶态变成晶态.复合镀层经过热处理后显微硬度及摩擦学性能提高.复合镀层耐磨性比纯镍和磷镀层提高约30%,抗腐蚀性提高77%.运用SEM和XPS等对复合镀层性能和结构进行分析. 相似文献
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采用熔炼-淬火-高能球磨-放电等离子体烧结工艺,制备GeTe-PbTe合金Ge0.75Pb0.25Te及Se替代合金Ge0.75Pb0.25Te0.5Se0.5,研究和比较它们的物相、微结构及热电性能.结果表明:母合金Ge0.75Pb0.25Te由分别以GeTe和PbTe为基的两相组成,具有调幅分解组织,而Se替代合金Ge0.75Pb0.25Te中50%Te的合金变成以GeTe为基的单一固溶体,且存在大量的较小孪晶组织,两种合金都表现为p型半导体导电特性,固溶的Pb和Se原子改善了化合物的载流子浓度及能带结构,导致合金的Seebeck系数大幅度增加,固溶的Se及Pb原子、孪晶组织和晶界形成多尺度的声子散射中心,导致合金具有极低的热导率,热电优值ZT大幅度提高,673 K下,从Ge0.75Pb0.25Te的0.45提高到Ge0.75Pb0.25Te0.5Se0.5的1.6. 相似文献
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Hf掺杂BiSbTe3结构与热电性能研究 总被引:1,自引:1,他引:0
以高纯Hf、Bi、Sb和Te为原料,在1 000℃下,经10 h氩气保护熔融状态下反应,冷却球磨制粉,再在氮气保护下进行热压(450℃,20 MPa),成功制备出一系列不同Hf掺杂量的Hf2x(Bi,Sb)2-2xTe3化合物.X射线粉末衍射Rietveld分析说明,Hf在结构中占据6c晶位,以替代(Bi,Sb)的形式进入晶格.Hf掺杂引起BiSbTe3的Seebeck系数增大,电导率降低.功率因子在375 K时达最大值526 μW/mK2. 相似文献
10.
非水体系中电沉积方法制备稀土金属La沉积膜 总被引:3,自引:0,他引:3
使用尿素-NaBr-KBr-甲酰胺镀液用电沉积方法在硅基体上沉积出含有金属镧的沉积膜,研究了沉积液中甲酰胺的含量和电流密度等工艺参数对沉积膜的形貌和金属La含量的影响.结果表明,在适当的沉积条件下,沉积膜由金属镧及少量氧化镧组成,呈白灰色、均匀、致密、光滑,La的含量(质量分数)达到91.35%;电流密度过低或过高都使沉积膜的表面形态呈现灰黑色、疏松和粗糙.沉积膜中金属镧的含量先随着电流密度的增大而提高,后又降低.镀液中适当含量的甲酰胺使其呈现较好的流动状态,有利于制备高质量的沉积膜.用聚乙烯醇保护膜可以使沉积膜免于氧化. 相似文献