基于Linux的TCP/IP网络通信编程

介绍了Linux环境下的TCP／IP网络通信编程方法，包括：TCP／IP协议、BSD套接字接口和Socket编程。     

（Pb1-xSrx）TiO3系薄膜铁电性能的工艺因素研究

钛酸锶铅((Pb1-xSrx)TiO3)薄膜是一种重要的铁电薄膜,应用潜力很大,是高新技术研究的前沿和热点之一.通过磁控溅射的方法制备了PST薄膜,详细研究了不同工艺因素对PST薄膜铁电性能的影响.结果表明,选择合适的工艺条件可以制备铁电性能优良的钙钛矿相PST薄膜.     

清洁技术是推动化学工业清洁生产的关键

清洁生产是实现经济环境协调发展的战略。本文从化工原料、化学反应、反应介质和化工产品等几个方面,介绍了实现清洁生产的途径,指出清洁技术或绿色工艺是促进化工清洁生产的关键,也是化学工业今后的发展方向。     

Er对A356.2铝合金微观组织和力学性能的影响

通过金相组织观察和拉伸试验研究了Er对A356.2铝合金微观组织和力学性能的影响。结果表明,Er是一种对A356.2铝合金组织细化的优良变质剂。当添加0.4%的Er时,合金变质效果最好,此时共晶Si为细小的珊瑚状,α-Al相的二次枝晶臂间距显著减小;合金的抗拉强度提高21.6%,伸长率提高近一倍;合金拉伸断口形貌呈韧性断裂特征,韧窝细小且分布均匀,呈等轴状。     

激光测距系统中光学屏蔽膜系的研究

针对激光测距系统中光咱成像受电磁波干扰影响测量质量的问题，本文分析了比较了金属光学薄膜与ITO薄膜的光学屏蔽特性。采用磁控反应溅射的方法在关键光学零件表面制备了ITO膜，经过性能测试表明：ITO膜可以满足现代激光测距的光路屏蔽要求。     

半绝缘多晶硅薄膜的钝化与性能研究

通过LPCVD的方法,在Si基体表面制备了掺氧半绝缘多晶硅薄膜(SIPOS),分析了钝化机理,讨论了不同流量比与沉积速率、含氧量的关系以及SIPOS膜的含氧量对膜系结构、电阻率、折射率的性能影响,获得了最佳钝化条件,测试结果表明SIPOS薄膜晶体管击穿电压高、可靠性好、性能更稳定,可以满足现代生产的需要.     

波导薄膜厚度测量原理的理论分析

运用电磁场理论对金属波导膜厚测量的原理进行了详细分析,并且研制了一台膜厚测量仪,理论和实践表明:可以通过测量复合金属波导膜系励磁电流的脉冲波形来控制薄膜的生长厚度.     

高速切削高碳当量合金灰铸铁制动盘的PCBN刀具磨损分析与工艺改进

采用PCBN刀具对高碳当量合金灰铸铁进行高速切削实验,通过IM3000光学显微镜、LSM700 3D测量激光显微镜、S-4800Ⅱ场发射扫描电镜对产生崩裂破损的刀具进行观察与分析。结果表明：高速切削后PCBN刀具表面同时存在磨粒磨损、黏结磨损和氧化磨损三种磨损形式;高速切削加工含有过多高塑、韧性游离铁素体的制动盘时,刀具前、后刀面黏结物均有增多,导致刀具表面出现严重的黏结磨损,并且伴有大面积切削刃崩刃;恶化的切削条件使得刀具表面过早出现磨损与裂纹,从而在切削时引起刀具振动,最终导致PCBN刀具崩裂破损。为了改善切削加工条件,通过改进刹车盘的铸造工艺减少铁素体数量,改进后的制动盘铸态组织以珠光体为主,有效减少了刀具的崩刃概率,提高了生产效率。     

纳米氮化钛薄膜对高频陶瓷窗片二次电子发射率的影响研究北大核心CSCD

纳米TiN薄膜可用来抑制高频陶瓷窗片的二次电子倍增,缩短器件高功率老炼时间,提高微波发射性能。文章通过专用真空镀膜设备,采用同轴圆柱靶和平面靶的直流磁控反应溅射方法,通过优化制备工艺参数,在陶瓷窗片的表面成功制备了纳米氮化钛(TiN)薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)等现代分析手段进行了测试分析,结果表明:纳米TiN薄膜表面晶粒细小,致密度较好;晶面(111)和(200)特征衍射峰峰型规整,峰宽细窄;Ti/N原子计量比接近于1∶1。随着薄膜沉积时间增加,二次电子发射系数(SEY)逐渐增大,溅射时间8.4 s时,SEY为1.72;随着基体偏压的增加,电离效率增加,SEY不断降低,当偏压为350 V时,SEY为1.89;随着N2流量增加,SEY发生变化,当N2流量为38 mL/min时,SEY为1.83。     

可翻转轮式移动机器人特殊运行姿态动力学分析

以轮式移动机器人为研究目标,以适应越野路面及爬坡、翻身等特殊功能需要.给出了可翻转轮式移动机器人的系统构成与设计,重点对爬坡能力及翻转状态动力学进行了分析,给出了影响机器人最大爬坡角的相关因素,根据达朗伯原理,推导出机器人翻转动力学模型,并结合动力驱动能力进行参数对比分析,得出了机器人的倾翻复位条件.通过分析为轮式移动机器人在复杂地理环境下顺利运行,提高机器人适应性提供了理论设计依据.