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用磁控溅射法制备了Fe-N薄膜和Fe-N/TiN多层膜。结果表明,在常温下,使用较小的氮、氩比溅射,生成的Fe-N薄膜主要是含氮α-Fe固溶体,并且N原子进入α-Fe晶格是饱和磁化强度提高的一个原因。Fe-N/TiN多层膜的层间耦合作用以及减小每-Fe-N层厚度而引起的晶粒尺寸的减小可以有效地降低薄膜的矫顽力,从而获得更好的软磁性能。 相似文献
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磁控溅射Fe-N薄膜及Fe-N/TiN多层膜的结构和磁性 总被引:1,自引:0,他引:1
用磁控溅射法制备了Fe N薄膜和Fe N/TiN多层膜。结果表明 ,在常温下 ,使用较小的氮、氩比溅射 ,生成的Fe N薄膜主要是含氮α Fe固溶体 ,并且N原子进入α Fe晶格是饱和磁化强度提高的一个原因。Fe N/TiN多层膜的层间耦合作用以及减小每一Fe N层厚度而引起的晶粒尺寸的减小可以有效地降低薄膜的矫顽力 ,从而获得更好的软磁性能 相似文献
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