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以氢气还原氯化钨沉积纯钨薄膜为例,简述了化学气相沉积法反应的主要原理,叙述了在反应过程中各参数对沉积速率的影响,及各参数对晶体结构的影响。 相似文献
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钼基体上真空等离子体喷涂钨涂层的研究 总被引:5,自引:0,他引:5
采用真空等离子体喷涂(VPS)技术制备出厚度超过0.8 mm的金属钨涂层,并对涂层进行了高温热处理.结果显示:金属钨涂层主要呈层状结构,其密度可达到理论密度的98%以上;工艺参数对喷涂涂层性能有较大影响,特别是对涂层密度、结合强度有影响;高温热处理引起界面结构变化,形成钨钼混合层,且再结晶形成细小的晶粒;和CVD方法以及常压等离子体喷涂方法制备的钨涂层相比,低压等离子体喷涂具有明显的优势. 相似文献
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研究了真空热处理对陶瓷涂层性能的影响以及起主要作用的工艺参数。提高热处理温度可提高涂层强度;经过真空热处理后,改善了涂层表面质量;在1000℃以下时,热处理升温速度不可以过快。 相似文献
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