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镀制方式对高衰减镍铬合金膜中性度的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
对比了用不同镀制工艺方式镀制的Ni80Cr20膜中性密度滤光片的中性度特性,溅射工艺镀制的密度片中性度值3.7%,远好于电子枪蒸发和电阻蒸发镀制结果(15%)。采用相平衡理论,模拟计算了的热蒸发镀制的镍铬合金膜的蒸发速率,铬相比镍含量偏高2.8倍,导致了膜层中合金含量相对膜料出现较大差异,导致中性密度滤光片光谱中性度的下降。使用蔡司SUPRA35扫描电镜和牛津EDS能谱仪分别测试了溅射工艺和热蒸发工艺镀制的密度滤光片的镍铬含量,测试结果与模拟分析结论基本一致。 相似文献
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理论计算了Ni、Cr和Ni80Cr20三种材料的光学特性,确定了镍铬成份变化对Ni80Cr20的影响。在高低两个真空度条件下采用电子枪蒸发工艺进行了Ni80Cr20的镀膜实验,结果表明,低真空度时"薄"膜的中性度较好,而高真空度时"厚"膜中性度较好。采用X射线能谱分析发现"薄"膜铬含量高于膜料,而"厚"膜更高,高真空度薄膜略有氧化,而低真空度氧化更严重。从残余气体和蒸发方式方面分析了镍铬成份差异的原因,再结合氧化对薄膜特性的影响,确定了不同真空度薄膜中性度差异的原因。 相似文献
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为将现有的测试设备改造成自动测试设备,采用VB6设计了计算机测试系统和可编程控制器样品供给系统的协作控制程序.程序采用定时扫描的方式集中进行串行信号的输入与输出,避免了多点输出的互相干扰的问题.通过设置标志位的方式,实现了循环扫描时上升沿信号的判别以及数据信号的单次有效输出,确保了信息传输的可靠性. 相似文献
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金属材料薄膜的光学常数会随膜层厚度发生变化,从而导致薄膜的光谱特性也发生变化。在制备工艺中,不论是热蒸发工艺还是溅射工艺,Ni80Cr20(简称镍铬)薄膜在较“薄”和较“厚”的时候光谱中性度都较差,并且其光谱特性趋势相反。理论计算结果表明,增加镍铬合金中Cr(铬)的比份可以提高“薄”膜的中性度,而“厚”膜则需要提高Ni(镍)的比份。针对光谱特性相反的“薄”膜和“厚”膜,分别提出了“有意分馏”和增加镍的比例的方法来改善光谱的中性度。试验结果表明:为改善膜层的中性度,低密度时可采用“有意分馏”的热蒸发工艺来提高膜层中铬的含量;而高密度时则可以镀制纯镍。“有意分馏”的热蒸发工艺可将光谱中性度提升至1.8%;纯镍工艺可将OD4的光谱中性度提升至4.6%。所提出的改进的镀膜工艺是有效的,并为光谱检测、光纤通讯、摄影摄像等应用领域的衰减片制备工艺的改进提供了参考。 相似文献