铸铁散热器表面对散热能力影响的研究

我国铸铁散热器一直沿用银粉漆为表面涂料,为改善铸铁散热器的热工品质,节约能耗,我们开展了对各种不同涂料表面铸铁散热器的标准散热量的研究。通过对样片的实验分析可知,表面辐射放热约占表面总放热量的四分之一,而且,非金属涂料表面的辐射放热能力比银粉漆表面提高一倍以上。基础研究表明,热辐射是红外辐射,其辐射能力取决于表面法向黑度的大小,而银粉漆表面法向黑度最小,铸铁自然表面次之,而非金属涂料表面的法向黑度最大。     

Spin Dependent Hopping in Ti Doped La0.67 Ca0.33 MnO3

A systematic investigation of the magnetic and transport properties of Ti doped La0.67Ca0.33MnO3 was reported. The Ti substitution for Mn ions results in a reduction in ferromagnetism and conductivity. The metal-insulator transition temperature is close to Curie temperature which decreases from 274 to 82 K as x increases from 0 to 0.17. The most important effect of Ti doping is to introduce spin clusters in the samples due to the distortion of local lattice and the inhomogeneous magnetic structure induced primarily by the random distribution of Mn ions. A maximum magnetoresistance ratio as large as 90% in 1 T at 122 K was obtained for the sample with x =0. 055, which is four times larger than that obtained for LCMO sample at 272 K. There is a remarkable field-history dependent MR in the cooling process for the doped samples while such phenomenon disappears in the warming run. The resistivity follows well the variable range hopping behavior in paramagnetic state. Both the size effect and spin dependent hopping of carriers between the spin clusters should be considered in this system.     

纳米技术的研究现状与将来

纳米科学技术将成为２１世纪最重要的高技术之一。纳米技术的最终目标是直接操纵单个原子和分子，制造量子功能器件，从而开拓人类崭新的生产生活模式。文章评述利用电子束、离子束的精细技术和ＳＴＭ原子操纵技术的研究现状，介绍原子层蚀刻，单层抗蚀剂自形成蚀刻，纳米自然蚀刻和电子束全息纳米蚀刻等高技术前沿动态，展望纳米技术的发展前景。     

中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀

多数ITO透明导电玻璃生产线在实现SiO2膜与ITO膜在线联镀时，应用SiO2靶射频溅射沉积SiO2膜工艺和ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺，如果SiO2膜应用硅靶反应磁控溅射工艺，存在这种工艺是否可以与ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工，做了大量实验、质谱分析和多项测试研究，成功地实现反应溅射SiO2膜与ITO膜在线联镀，做到SiO2镀膜室的工作状态的变化基本上不影响ITO镀膜室的工艺条件。     

流动微量量热法研究阴离子表面活性剂在油砂表面的吸附

用流动微量量热法研究了十二烷基硫酸钠(SDDS)和十二碳羧酸钠(SL)在克拉玛依油田九区和乌尔禾区油砂上的吸附,简要地计论了吸附机理。所得实验结果表明,SL 在油砂上的吸附强度比 SDDS 的要大,在相当低的浓度下即可迟到饱和吸附。     

纳米蚀刻技术及其在20GHz频段SAW器件中的应用

纳米蚀刻技术及其在２０ＧＨｚ频段ＳＡＷ器件中的应用阎永志利用纳米蚀刻技术可将图形做得非常精细（ｕｍ级），将在ＵＬＳＩ、高速ＦＥＴ、分布反馈式激光器和ＧＨｚ频段ＳＡＷ器件等领域获得应用。常规蚀刻过程中，抗蚀膜层必须有一定厚度，但较厚的抗蚀膜无法获得纳米...