光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术

介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术，包括：(1）光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术；(2）投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术；(3）接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术；(4）大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术；(5）电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术. 该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作，实现了20nm线条曝光，研制成功了27nm CMOS器件；进行了50nm单电子器件的演试；并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造.     

固碱法制备二缩水甘油醚的合成工艺研究

研究聚丙二醇二端引入环氧基团制备聚丙二醇二缩水甘油醚的合成工艺，对合成工艺参数和产品性能进行了探讨，合适的工艺条件为：催化剂存在，反应温度35－40℃，原料用一定的配比，反应时间为5小时。     

甲基四氢苯酐合成工艺改进及性能的研究

综述国产甲基四氢苯酐合成了工艺改进的产品,产品粘度与异构化反应条件的关系,以及ＭｅＴＨＰＡ对促进剂ＤＭＰ－３０变色试验的探讨。同时对ＭｅＴＨＰＡ（ＨＫ０２３８）的理化性能进行了分析。     

基于Linux的无线视频监控系统

阐述一种基于嵌入式Linux的无线视频监控系统的设计和实现方法。该系统主要由视频采集终端和PC上位机组成。其中,视频采集终端主要由摄像头视频采集模块、ARM模块、Wi Fi模块组成,PC上位机可进行实时监控。系统软件采用嵌入式Linux,可编程实现图像数据采集、压缩和Wi Fi模块的网络连接与传输。实验结果表明监控系统性能稳定、实时性较好,在实际中具有一定应用前景。     

甲基四氢苯酐对促进剂DMP—30变色原因及其合成工艺改进的研究

以红外光谱这一表征手段探析了促进剂ＤＭＰ—３０使环氧树脂固化剂甲基四氢苯酐［ＭｅＴＨＰＡ（ＨＫ０２１）］变色的原因，通过合成工艺改进，制得了性能较为优良的ＭｅＴＨＰＡ（ＨＫ０２３８）。     

Monte Carlo方法模拟低能电子束曝光电子散射轨迹

建立了一个适用于描述低能电子散射的物理模型 ,利用 Monte Carlo方法对低能电子在多元多层介质中的散射过程进行模拟 .低能电子弹性散射采用较严格的 Mott截面描述 ,为了节约机时 ,利用查表与线性插值方法获得 Mott截面值 ;低能电子非弹性散射能量损失采用 Joy修正的 Bethe公式计算 ,并对其加以改进 ,引入多元介质平均电离电位、平均原子序数、平均原子量概念 ,利用线性插值方法给出光刻胶 PMMA对应的 k值 .对电子穿越多层介质提出一种新的边界处理方法 .在此基础上运用 Monte Carlo方法模拟高斯分布低能电子束在 PMMA-衬底中的复杂散射过程 .     

基于LABVIEW的无阀滤池计算机辅助设计

运用LABVIEW对无阀滤池进行了计算机辅助设计,缩短了计算过程,可比传统的编程语言节省80%的程序开发时间,采用人机界面模式使程序具有很强的直观性.程序完成后可对设计参数进行调整,提高了设计的可靠性及智能化.     

基于数据驱动的复杂多阶段产品质量预测研究

针对复杂多阶段(多质量属性)产品在最终制造阶段进行质量预测时,难以对造成质量异常的潜在工艺参数进行在线溯源及实时优化导致质量预测精度较低的问题.提出数据驱动的复杂多阶段产品质量预测模型.首先,通过对历史工艺参数和质量数据应用基于规则的深度置信网络(RBDBN)形成各阶段质量分类规则及应用动态自适应模型对制造过程中异常工...     

甲基四氯苯酐合成工艺改进及性能的研究

综述国产甲基四氢苯酐（MeTHPA）合成。艺改进的研究：产品粘度与异构化反应条件的关系,以及MeTHPA对促进剂DMP－30变色试验的探讨。同时对MeTHPA（HK0238）的理化性能进行了分析。     

浅谈食品乳化剂斯潘和吐温的应用

本文阐述了斯潘，吐温的性能，国内外质量标准，毒性试验和国际上被允许食用的状况，并介绍了斯潘和吐温在国内外的应用。