ALD反应室流场分析及优化研究

为解决用于钙钛矿SnO₂电子传输层镀膜工艺的原子层沉积(ALD)设备存在的镀膜均匀性问题,基于计算流体力学(CFD)仿真软件Fluent,从流场的角度对设备反应腔体进行了分析。根据流场分析的结果,进行了反应室结构优化设计。并通过工艺试验,验证了流场的改善对镀膜均匀性有明显帮助作用;对ALD设备流场分析及相关设备的设计优化具有一定参考意义。     

基于80C196KC的单晶炉等径控制系统设计

等径生长控制系统是单晶炉上的重要组成部分,其性能对于单晶的生长至关重要。以80C196KC单片机作为控制系统的核心部件,采用PID算法以及其他的软硬件设计,实现了一整套单晶炉生长控制的设计方案。     

基于大产能的管式PECVD设备推舟机构的结构优化与仿真研究

对管式PECVD设备推舟机构的现有结构进行优化设计,利用ANSYS软件对优化后的结构进行仿真分析,从而获取大产能条件下各组成部件形变最小时的推舟机构结构.首先,对固定座组件结构进行优化;然后,在固定座组件优化后的基础上,对碳化硅杆结构进行优化;最后,在采用优化后的固定座组件及碳化硅杆结构基础上,通过对光轴直径、碳化硅杆...