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Gallium-titanium-zinc oxide(GTZO) transparent conducting oxide(TCO) thin films were deposited on glass substrates by radio frequency magnetron sputtering. The dependences of the microstructure and optoelectronic properties of GTZO thin films on Ar gas pressure were observed. The X-ray diffraction(XRD) and scanning electron microscopy(SEM) results show that all the deposited films are polycrystalline with a hexagonal structure and have a preferred orientation along the c-axis perpendicular to the substrate. With the increment of Ar gas pressure, the microstructure and optoelectronic properties of GTZO thin films will be changed. When Ar gas pressure is 0.4 Pa, the deposited films possess the best crystal quality and optoelectronic properties. 相似文献
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在研究传统语音录放电路的基础上,提出了一种基于AT89S52的音频信号采集、存储与处理系统.该系统以单片机AT89S52为控制器,采用键盘和LCD作为人机界面,ADC0809采集音频信号,扩展8 MB闪速存储器K9F6408U0A作为数字化音频信号的存储器,通过软件滤波滤除噪音;采用PWM产生声音的原理,使存储在Flash中的音频数据控制PWM每个波形的占空比,通过低通滤波器将声音从PWM的脉冲中分离,并驱动扬声器.实验表明:8 kHz采样频率和8位采样位数可获得清晰的语音以及较好的音乐声,语音存储时间达15 min. 相似文献
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器件结构是影响有机发光器件(OLED)性能的重要因素之一.采用8-hydroxyquinoline-aluminum(AlQ)作为发光层(EML)和电子传输层(ETL),polyvinylcarbazole (PVK)作为空穴传输层(HTL),制备了具有有机小分子/聚合物异质结结构的OLED器件,通过其电压-电流-发光亮度(V-J-B)特性测试,研究了HTL的引入及其膜厚对器件性能的影响.实验结果表明,HTL的引入有效地改善了OLED的光电性能,同时HTL膜厚对器件性能具有显著影响,当HTL膜厚为20 nm时,所制备的OLED器件具有最小的驱动电压和启亮电压、最大的发光亮度和发光效率.Abstract: The device construction plays an important role in improving the optoelectronic performance of organic electroluminescence devices (OLEDs). Heterojunction OLEDs with a configuration of glass/ITO/PVK/AlQ/Mg/Al were fabricated by using 8-hydroxyquinoline-aluminum (AlQ) as the emission layer (EML) and electron transport layer (ETL) and polyvinylcarbazole (PVK) as the hole transport layer (HTL). The effect of the HTL thickness on the performance of OLEDs was investigated with respect to the driving voltage, turn-on voltage, electroluminescence brightness and efficiency of the devices. Experimental results demonstrate that the optical and electrical properies of OLEDs are closely related to the HTL thickness. The device fabricated with the HTL thickness of 20 nm possesses the best photoelectric properties such as the minimum driving voltage and turn-on voltage, and the maximum electroluminescence brightness and efficiency. 相似文献
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