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为了进一步提高水质处理效果,采用强化混凝超滤的组合工艺对湖水进行处理,考察该组合工艺对有机物的去除效能,及影响有机物去除效能的因素。试验结果表明:①强化混凝超滤组合工艺对原水浊度的去除效果较好,对TOC和UV254的去除效果也明显优于传统水处理工艺;②原水中UV254含量的波动,对UV254的去除率和滤后水UV254含量影响并不大。原水中TOC含量的波动,对TOC的去除率有很大的影响,对滤后水TOC含量的影响并不大。TOC的去除率普遍高于UV254的去除率;③根据原水和滤后水SUVA值的变化发现,强化混凝超滤组合工艺对亲水性有机物的去除率大于该工艺对疏水性有机物的去除率。在一定范围内,pH的变化对TOC和UV254去除率变化趋势相反。 相似文献
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粉末活性炭吸附去除松花江原水中有机物的研究 总被引:5,自引:1,他引:5
以松花江水为原水,通过小试和生产性试验研究了粉末活性炭吸附、混凝沉淀、过滤工艺对硝基苯及有机污染物的去除情况。结果表明:投加粉末活性炭很好地控制了有机物的总含量,混凝沉淀、过滤工艺主要使有机物的种类明显减少;投加粉末活性炭是去除环境优先控制有机物的关键措施;松花江水中的硝基苯投加量与检出量虽然存在一定的差异,但两者仍具有良好的线性关系;采用助凝措施强化粉末活性炭吸附去除水中硝基苯的效果不明显,说明硝基苯的去除主要是依靠粉末活性炭的吸附作用。 相似文献
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以河水为原水,在选择适宜水力条件的基础上,考察了混凝剂为硫酸铝(AS)、氯化铁(FeCl3),投加粉末活性炭(PAC)和高锰酸钾(KMnO4)强化常规处理工艺时絮体粒径的变化规律。试验中采用激光粒度仪在线多次测量絮体平均粒径,然后利用软件对数据进行处理,考察了不同药剂投量工况组合时浊度、UV254的变化情况。试验结果表明,投加不同量的PAC后,原水的粒径变化不大,但在PAC投量不同的条件下投加相同量混凝剂后,形成的絮体粒径差异明显;在PAC投量与混凝剂投量不变的条件下,投加不同量的KMnO4对絮体粒径的影响也较大;相同条件下,使用50 mg·L-1 FeCl3形成的絮体比60 mg·L-1 AS的大、絮体增长达到稳定所需的时间更短。 相似文献
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强化混凝/超滤组合工艺膜清洗技术的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
强化混凝/超滤技术在去除浊度及有机物等方面具有一定优势,但膜污染造成的性能下降阻碍了其进一步发展。膜清洗能够在一定程度上缓解膜污染、提高膜通量、恢复膜的过滤性能。以湖水为原水,进行强化混凝/超滤试验,考察了物理清洗和化学清洗对膜污染的去除效果。物理清洗以清洗时间为变量,采用先气冲、后水冲的方式;化学清洗以草酸和NaOH为清洗剂,比较不同的组合及清洗条件下的清洗效果。试验结果表明:水力清洗能在一定程度上改善及维持膜通量,清洗后通量上升的比例为50.6%;延长水力清洗时间及在过滤和清洗过程中增加曝气,均有助于通量的恢复。化学清洗后扫描电镜(SEM)的分析结果表明,当以三氯化铁为混凝剂时,采用2%的草酸溶液浸泡40 min后,对膜表面污染的去除效果较好,而先采用2%的草酸溶液浸泡40 m in,再用2%的NaOH溶液反冲30 min,对膜孔内污染的清洗效果相对较好。 相似文献
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平流式沉淀池二维数值模拟——数学模型及计算方法的验证 总被引:2,自引:0,他引:2
建立描述沉淀池内的水流流动、混合与沉淀特性的k-ε双层模型及传质沉降模型,速度与压力解耦时使用了SIMPLE算法,采用交错网格技术布置变量,利用混合有限分析格式来离散求解所建立的数学模型.结合文献中经典的实验结果进行数学模型及计算方法的验证:首先检验了不同雷诺数范围内水流由池底进入时模型的预测能力,与Imam等的速度场 (Re=10900) 及挡板后方回流涡长度 (雷诺数从2500~25000) 进行了比较,验证了模型的有效性;与Imam等的实验及计算所得过流曲线进行了比较,结果表明本文预测的结果精度更高;低浓度污染物<150~200 mg/L时,固相对液相的影响可以忽略,所建立的沉降模型可以预测沉淀池内污染物的去除率,计算结果与其它文献值吻合良好;水流入口从池子中部进入时流场发生了变化,入口处出现了两个旋涡,预测结果也得到了验证.因此作者所建立的数学模型及求解方法可以用来预测沉淀池内低悬浮物固体浓度污水的流场,传质与沉降特性. 相似文献
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高级氧化技术降解微囊藻毒素的研究进展 总被引:1,自引:0,他引:1
饮用水源中微囊藻毒素(MC)的问题已经引起人们的广泛关注,而一些常规的MC处理方法都各有其局限性.高级氧化技术是一类高效降解MC的方法,且降解产物没有生物毒性.本文全面阐述了TiO_2紫外光催化氧化、TiO_2/UV/H_2O_2、TiO_2/UV/高铁酸盐联用工艺、可见光催化氧化、Fenton法、光助Fenton法、O_3/H_2O_2及O_3/Fe~(2+)这些高级氧化技术降解MC的研究进展.并根据现有高级氧化技术降解MC研究中的一些不足之处,提出了MC高级氧化处理领域今后研究的主要方向和需解决的问题. 相似文献
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