利用合适的相干因子提高光刻仿真准确性(英文)

利用光刻仿真软件PROLITH,进行了掩模版空间成像的焦深(DOF)和光学临近效应的 仿真。理论上分析了照明光瞳相干因子定义法:10％能量法和10％-90％积分能量法,并发展了因 子矫正法。仿真中分别代入了这三种定义法得到的照明光瞳相干因子,通过比较这三种情况与代 入真实光瞳的仿真结果,发现利用因子矫正法定义真实照明光瞳的相干因子,比其它两种定义法 得到的仿真结果与真实结果最接近,从而提高了仿真的准确性。