感应加热在轴承装卸上的应用

提出用感应加热对轴承装卸，分析了不同频率感应加热与不同直径轴承装卸的关系，给了了实际设备参数的计算公式，该加热器节能；温度易控制和调节；升温快，具有广泛的应用前景。     

电子束投影曝光装置实验结果分析

主要介绍了电子束缩小投影曝光机的工作原理及其特点，针对在原理论证机上做的实验，着重分析讨论了聚光镜电流的大小对曝光结果的影响。     

缩小投影电子束曝光原理论证机

系统阐述了缩小投影（或纳米投影）电子束曝光技术的原理,以及如何将一台透射电镜改装为原理论证机的主要过程。内容包括机械结构的变动、电子光路的选择、调焦及曝光、成像系统的逐步演化、实验曝光结果与结论。     

轴承印字机的PLC全自动化控制

提出一种新型轴承印字方法。结合轴承印字流水线的具体要求，详细介绍了以OMRON PLC为主控制器的系统硬件配置、软件结构和实现过程。     

纳米级高压扫描电子束曝光技术

通过简单添加一些附件,将一台带有扫描附件的商用透射电子显微镜改造为一台高压扫描电子束曝光机,以研究高压下高分辨率、高深宽比抗蚀剂图形曝光及邻近效应的影响。重点介绍了如何获得一个高分辨率的电子光学系统,并利用此系统初步进行了曝光实验,在120nm厚的PMMA胶上获得了53nm线宽的抗蚀剂图形,表明此装置可用于纳米图形的制作。     

FIB/SEM双束系统在微纳米材料电学性能测试中的应用

电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点,采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸多因素。此外,选择适当的制样方法对后续的电学性能测试也很关键。本文以一台配备了电子束曝光功能附件的聚焦离子束( FIB)/扫描电子显微镜( SEM)双束系统为工具,结合光学光刻等其它加工技术,详细介绍了其针对不同类型微纳米材料进行电极制备的过程和方法。     

电子束缩小投影曝光系统的掩模研究

介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情况。     

缩小投影电子束曝光系统的成像反差

结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差，详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方法。     

高能电子束曝光技术研究

介绍了将商用透射电镜JEM—2000EX改造为高能电子束曝光系统的研制工作，在现阶段研制工作的基础上进行了曝光实验。结果表明，利用此高能电子束曝光系统可以制备出纳米线条，并且能够制备出具有高深宽比的微细结构，从而为微小器件的加工提供了新的方法。