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光源和照明中的测量问题 总被引:1,自引:0,他引:1
该文阐述了由于光源品种和应用范围不断拓展及经济国际化发展趋势的需要,而引发光源及照明性能测量中的新问题。 相似文献
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利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用,利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制,从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高,光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚,相干等特性进行了研究,取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。 相似文献
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本文介绍了一种NLiNbO3电光晶件作调制器,高稳定性硅光电二级管作监测器并有高质量光反馈电子元件的高稳定度激光功率稳定仪。只要输出功率大于1mW、稳定度优于5%/小时,使用本稳功率性后,功率稳定度可忧于0.05%小时。激光功率稳定范围在三个量稳内可调。 相似文献
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通过分析52Cr原子光刻对激光系统的技术要求,详细介绍了一种基于原子束激光感生荧光(LIF)光 谱技术的稳频方法。 相似文献
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基于原子力显微镜(AFM)探针的纳米机械刻蚀技术以其成本低、分辨率高的优势被广泛应用于各种纳米元器件的制造中.为了得到最优的光栅结构,首先通过单次刻蚀实验定量分析了刻蚀方向、加载力和刻蚀速率等3个主要加工参数对所得纳米沟槽形貌和尺寸的影响,给出了普通氮化硅探针对聚碳酸酯(PC)的加工特性及加工效率.然后通过改变沟槽间距(100~500 nm)得到了不同周期的纳米光栅结构,并确定了这种探针与样品的组合对间距的要求及最佳加工参数:沿垂直于微悬臂长轴向右刻蚀,加载力2.3μN,刻蚀速率2.6μm/s.最后利用该技术对实验室已有原子光刻技术所得周期为213 nm的一维Cr原子光栅结构进行了复制加工,得到了均匀的213 nm一维光栅,证明这种基于AFM探针的纳米机械刻蚀技术可被广泛应用于纳米加工. 相似文献
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国际计量技术联合会(IMEKO)第十届光子探测器学术讨论会于1982年9月20~22日在西柏林举行,来自20个国家的一百多位科学家参加了会议。 会上宣读了40篇论文,涉及到光子探测器的物理性能及其在各方面的应用。大致有:雪崩二极管在单光子计数方面的应用,GaAs、CdSe、Ge光子探测器性能的研究,硅在紫外区的量子产额,光电倍增管、硅光二极管、成象光子计数系统的直线性研究,集成电路中的光子探测器,硅光二极管的自校准技术,基于 相似文献
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纳米计量与传递标准 总被引:12,自引:0,他引:12
纳米计量不仅提供测量和表征纳米材料及器件基础,同时在纳米生产工艺控制和质量管理领域也扮演重要角色。纳米技术就某种意殳上讲就是实现原子或分子操作的超精细加工技术。纳米科技的各个领域都涉厦对纳米尺度物质的形态、成分、结构及其物理/化学性能(功能)的测量、表征。纳米测量在纳米科技中起着信息采集和分析的不可替代的重要作用。纳米测量技术包括:纳米级精度的尺寸和位移的测量,纳米级表面形貌的测量以及纳米级物理与化学特性测量。目前迫切需要解决的问题有微电子、超精密加工中线竞、台阶、膜厚等测量问题、纳米材料中的粒子特征测量问题和作为纳米科技主要测量和操作工具的扫描探针显微镜(SPM)、扫描电子显微镜(SEM)等的特性表征和测量准确度评定,文章重点评述了国际上为建立可溯源于国际基本单位制(SI)的纳米计量体系努力。包括:纳米尺度测量(台阶、节距)的国际比对,传递标准在纳米计量体系中的特殊作用,用于校准扫描探针显徽镜(SPM)、扫描电子显微镜(SEM)等的传递标准研制概况。 相似文献
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测试对于自然界的认识和科学的发展有着重大的意义。从科技发展史可知,科学技术上的一些突破,常常是以测试技术为基础的。当今,各门学科为了有所进步,总是把不断革新自己的测试手段放在重要位置上。所以,测试技术在相当程度上影响着科学技术的发展速度和深度。在当代,任何生产过程都可以看作是物质流、能源流、信息流的组合,而信息流是管理和控制物质流、能源流的依据。测试就是在生产过程中、对信息流进行检出、变换、显示、存储等一系列的综合处理过程,是确保设备正常运行、检查产品质量、提高生产效率、合理使用能源和环境安全防… 相似文献