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一种新型的激光—等离子体辅助化学气相沉积装置的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为探索用激光离子体共同辅助化学气相沉积过程以实现室温沉积的可能性,设计并制造了一种新型的CVD装置,实际了SiH4-NH3-N2体系制取Si3N4膜的试验。结果表明,激光和等离子体是可以相互促进,共同辅助CVD过程的,且两者均处于较代的能量水平。 相似文献
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RP技术是近年来发展相当迅速的一项综合应用技术。就RP制造工艺、RP材料、RP系统软件、RP集成技术以及RP技术的应用等一些热点问题进行了综述。 相似文献
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当前快速成型技术研究和应用的热点问题 总被引:7,自引:0,他引:7
RP技术是这年来发展相当迅速的一项综合应用技术,就RP制造工艺RP材料,RP系统软件,RP集成技术以及RP技术的应用等一些热点问题进行了综述。 相似文献
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激光—等离子体辅助化学气相沉积工艺参数对氮化硅膜显微硬度的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
采用一种新的方法-激光-等离子体辅助气相沉积法,在自行研制的LPCVD装置上进行了Sih4-NH3-N2体系沉积Si3N4膜的工艺试验;采用正交试验法选择工艺参数,根据显微硬度评价膜层性能,并找出最佳工艺参数;激光功率密度为328W/cm^2,RF电源功率为50W,氮硅流量比为10。结果表明,激光功率密度对膜层显微硬度的影响最大,RF电源功率的影响次之,氮硅流量比的影响最弱。 相似文献
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