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研究了Mn-Co-O体系通过掺入适量ZnO,采用最佳的烧结温度,可制备低阻高B型NTCR(负温度系数热敏电阻),并通过XRD、SEM研究了样品Mn1.14Co1.83Zn0.03O4在不同烧结温度下的微观结构和电学特性。结果表明:Mn-Co-Zn-O体系在T=1100~1200℃很宽的温度范围可只存在尖晶石结构,同时具有高的激活能。样品Mn1.14Co1.83Zn0.03O4在烧结温度T=1100℃时存在最小电阻率,而B仍保持在4046K左右。因此,由其制成的单层片式NTCR可替代某些具有内电极的叠层器件。 相似文献
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高补偿硅的阻–温特性 总被引:5,自引:2,他引:3
采用5Ω·cm的p型单晶硅,通过在高温下扩散金属锰的方法,可以得到高补偿硅.笔者选择没有光照下,室温电阻率为5.84×104Ω·cm的样品,进行测量电阻随温度的变化关系(温度从77 K上升到300 K).测试结果表明:在没有光照条件下测试时,电阻随温度的变化同普通的半导体;但在受到光照时,却出现极不相同的情况,这种不同,可能来自所掺杂的硅是一种光敏材料及掺入的杂质是一种深能级杂质. 相似文献
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高补偿硅的光敏感特性 总被引:2,自引:1,他引:1
对电阻率为5 ·cm的p型单晶硅,在高温条件下采用扩散金属锰的方法,得到高补偿硅。并在室温(25℃)和液氮温度(196℃)下,测试了这种高补偿硅材料对光强的敏感性。测试结果表明:这种材料是一种光敏感材料,其敏感性受外加的电压、样品的温度及补偿后样品的电阻率影响。 相似文献
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Silicon materials compensated by deep level impurities such as nickel and gold have negative temperature coefficient (NTC) characteristics. In this work, n-type silicon wafers are smeared by nickel chloride ethanol solution and gold chloric acid ethanol solution, and subsequently put in the opening environment to heat. The electrical resistance and B-value of the thermistors made by this silicon material are measured and analyzed. When the silicon surface concentration of gold atoms is 2 × 10-6 mol/cm2, the uniformity of the single-crystal silicon material is optimal. When the diffusion temperature is between 900 and 1000 ℃, a material with high B-value and low electrical resistivity is obtained. The B-T and R-T change laws calculated by the theory of semiconductor deep level energy are basically consistent with the experimental results. 相似文献
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一、前言厚壁钼管是用来制作电子管阳极底和引出杆的关键材料。过去,电子工业部十二所一直用钼棒加工成此零件。由于钼棒质量和其它原因,机械加工过程中常常出现裂纹或大块金属剥 相似文献
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