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外延BiFeO3薄膜中丰富的结构与特殊的性能一直是近年来研究的热点.显微结构的研究不仅可以帮助人们进一步认识BiFeO3的结构信息,还可以帮助人们深入了解BiFeO3结构与性能间的关系,开拓新的应用领域.本文利用球差校正高分辨透射电子显微镜对外延在LaAlO3过渡层/Si基底上的BiFeO3薄膜进行研究.通过原子尺度的定量分析,在应力状态复杂区域观察到类菱方相、应力释放后恢复的菱方相以及拉应力状态下c/a值小于1的类菱方相,并在该区域观察到109°铁电畴,且畴间存在4.4°的畸变夹角.还观察到比较大的c/a比. 相似文献
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金属W是核聚变反应堆中面向等离子体部件的主要候选材料。服役期间,钨部件需要承受高温、高通量聚变反应中子轰击带来的辐照级联损伤。这些损伤主要表现为高浓度的点缺陷及团簇。它们与氢氦等离子体、嬗变反应的多种产物相互作用,导致辐照硬化、韧脆转变温度升高、导热能力下降等问题。本文围绕金属W的辐照级联损伤,基于显微缺陷实验表征与材料多尺度模拟计算,系统总结了辐照缺陷的产生、演化与热回复行为及作用机制。这些信息反映了材料中辐照缺陷特征的统计规律,构成定量描述微观损伤组织随时间尺度与空间尺度变化的依据,有利于钨部件性能的预测、服役可靠性评价以及未来新型材料部件的研发。 相似文献
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25Cr35Ni耐热合金表面结焦机制 总被引:5,自引:0,他引:5
分析了25Cr35Ni耐热合金表面的沉积焦炭,探讨了灰的形成机理。结果表明,遄分为三种类型,即丝状焦炭、层片状炭和颗粒状焦崦;局域丝状焦崦的沉积与材料表面化学成分必切相关,其变形成和生长本质上不受材料成分的影响;丝状焦 生长促进材料表面继续结焦和渗碳,而非焦炭的沉积一定程度地抑制催化灰的继续形成和发展,进而减轻材料的碳侵蚀程度。 相似文献
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为提高AlN涂层的稳定性和阻氚性能,提出“Ti-AlN”复合结构涂层。采用磁控溅射法在316L不锈钢基体表面制备了结构致密、总厚度约500 nm的Ti/AlN/Ti/AlN复合涂层。对涂层样品进行不同的真空热处理后,采用SEM、XRD、AES等手段分析涂层样品在热处理前后的微观形貌和结构变化,并对样品在200-600 ℃的阻氘性能进行测试和分析。结果表明,仅热处理温度为760 ℃时,Ti-AlN界面反应生成少量的Al3Ti相。在所有涂层样品中,热处理温度为700 ℃、升温速率为1.5 ℃/min的复合涂层表现出最优的阻氘性能,其600 ℃的PRF(Permeation Reduction Factor)高达536。当热处理温度升高至760 ℃或升温速率达到2.5 ℃/min时,表层AlN层的开裂程度更为严重,并导致涂层的阻氘性能显著降低。另外,所有涂层样品的PRF(阻氘性能)均随渗透温度的降低而急剧减小,表明氘气渗透过程中的温度变化会导致复合涂层阻氘性能失效。 相似文献
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材料问题是可控核聚变能否实现商业应用从而解决人类能源问题的"瓶颈"之一。低活化铁素体/马氏体(RAFM)钢具有良好的抗辐照性能,被普遍认为是新一代聚变反应堆的候选结构材料之一。在聚变堆环境下,材料不仅会受到高能中子辐照而且氘氚也可能进入材料中。为了研究氘离子以及辐照对低活化钢的微观结构的影响,采用CLAM钢(一种RAFM钢)和FeCr模型合金,在500℃下进行58keV氘离子辐照,利用高分辨透射电镜对比分析辐照前后材料微观结构的变化,研究辐照及氘离子对低活化钢的影响。结果表明:高温氘离子辐照不仅在材料中产生大量的缺陷和缺陷集团,同时还可能产生辐照诱导析出。而CLAM钢中原有的析出物经高温离子辐照后并没有发生非晶化,对其原因进行了讨论。 相似文献
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采用先进电子显微术在原子尺度研究了(001)单晶SrTiO3衬底上生长的纳米复合薄膜0.65BiFcO3-0.35CoFe2O4的组织形态以及界面结构.BiFeO3(BFO)和CoFe2O4(CFO)两相在外延生长过程中自发相分离,形成自组织的复合纳米结构.磁性尖晶石CFO呈方块状均匀分布于铁电钙钛矿BFO基体中,并沿[001)1]方向外延生长,形成垂直的柱状纳米结构.两相具有简单的立方-立方取向关系,即[001]BFO//[001]CFO和(100)BFO//(100)CFO,且界面为{110}晶面.薄膜表面起伏不平,形成CFO{111}小刻面而BFO则为平整的(001)表面.能谱分析结果表明各相成分均匀分布并无明显的元素互扩散发生. 相似文献
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基于图像块分割及差异演化的多聚焦图像融合算法 总被引:1,自引:0,他引:1
对于可见光成像系统光学镜头的焦距是有限的,很难将场景中的所有物体都成像清晰.可以对同一场景不同聚焦点的多幅图像进行融合处理,来获取一幅处处清晰的图像.提出了一种基于图像块分割及差异演化的多聚焦图像融合算法,即先把源图像进行分块,再用空间频率作为清晰度评价函数,判断融合子块应取自哪幅源图像,最终重构成新图像.结果表明,与小波变换和遗传算法相比,该方法速度快且融合效果好. 相似文献
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采用薄膜技术制备的磁头具有较高的灵敏度 ,同时还可有效地缩小磁头尺寸 ,提高磁记录密度。良好的磁头材料要有较高的饱和磁化强度和较低的矫顽力。Fe N薄膜具有较好的磁学性能及比纯Fe高的耐腐蚀性和耐磨损性 ,因而近年来得到了广泛的研究。但研究者们大都致力于Fe N薄膜的制备及性能的研究[1,2 ] ,对其微观结构的研究则较少。本文利用透射电镜研究了Fe N薄膜的微观结构 ,为进一步优化性能提供依据。采用反应射频磁控溅射沉积技术合成Fe N薄膜。Fe靶纯度为 99 99%。 (10 0 )单晶Si片作为衬底 ,表面有一氧化层存在。沉积… 相似文献