双相不锈钢腐蚀磨损机理初探

用稳态腐蚀磨损试验机研究了α＋γ双相不锈钢在６９％Ｈ３ＰＯ４介质中的腐蚀磨损行为，并与奥氏体和铁素体不锈钢对比．ＴＥＭ研究结果表明，双相不锈钢中的γ相由于磨损变形促成高密度位错网络的胞状结构得到强化而具有优秀的耐腐蚀磨损性能．     

JSP应用中的信息共享与传递技术

基于JSP的动态信息发布技术是一个开放的、可扩展的建立动态Web页面的标准，文中从信息流动的有效范围出发，对JSP应用中的信息共享与传递技术进行了探讨，并给出了相应的实现方法和用例，为更好地实现JSP应用中的动态交互做了有益的尝试。     

对远程设备在线重新编程的一种方法

论述了对远方终端的在线重新编程的一种实观方法，包括远方终端的硬件、软件设计方案，主站的通信软件设计。该文的远程设备为80C196系统，该方法在不中断系统运行的情况下，通过任何一种通信方式，远程更新设备功能。     

数字光盘玻璃基片的三步抛光技术

为得到超光滑的数字光盘母盘玻璃基片表面,研究玻璃基片的亚纳米级抛光技术。分别采用2 m、0.3 m超细氧化铈抛光液以及纳米氧化硅抛光液进行三步化学机械抛光(Chemical mechanical polishing, CMP),抛光后最终表面粗糙度Ra达到0.44 nm,为目前报道的数字光盘母盘玻璃基片抛光的最低值。原子力显微镜分析表明,抛光后的表面超光滑且无微观缺陷。通过对玻璃基片CMP中机械作用及化学作用进行分析,对抛光机理进行了探讨。     

微组装Teflon／Si3N4多层膜的结构和微摩擦磨损性能

利用离子束增强交替溅射聚四氟乙烯和氮化硅靶的方法制备出微组装的Ｔｅｆｌｏｎ／Ｓｉ３Ｎ４多层膜,并通过ＰＨＩ－５３００,ＦＴ－ＩＲ２０００,ＸＲＤ和ＡＦＭ／ＦＦＭ等测定了多层膜的结构,力学性能和微观摩擦磨损性能。     

腐蚀磨损交互作用的定量研究

测量了不同载荷下４０Ｃｒ钢和３０４不锈钢在３．５％ＮａＣｌ溶液中的腐蚀磨损率，用Ｔａｆｅｌ法和极化阻力技术测定了静态及磨损状态下的腐蚀率，并用浸泡实验结果了予以修正，定量分析了两种材料在３．５％ＮａＣｌ水溶液中腐蚀磨损交互作用量，结果表明腐蚀对磨损的加速作用是材料流失的主要原因。     

固溶处理温度对双相不锈钢在硫酸介质中腐蚀磨损行为的影响

采用销环式腐蚀磨损试验机研究了固溶处理的双相不锈钢在１０％Ｈ２ＳＯ４中的腐蚀磨损行为．腐蚀磨损率－载荷关系曲线表明：较高温度固溶的双相不锈钢在低载荷下的耐腐蚀磨损性比低温固溶的优，而在高载荷下却恰恰相反；阴极保护下（－６００ｍＶ，ＳＣＥ）具有同样的关系．扫描电镜观察证实，高温固溶处理产生大量铁素体而导致高载下出现脆性剥落是其耐腐蚀磨损性变坏的原因．     

BLOB数据类型存取方法的研究及应用

本文介绍了BLOB数据类型，就其在VC＋＋开发工具上的存取实现进行了具体的论述，并且对其在其它开发环境（Visual Basic,Powqer Builder)上相关的存取方法进行了介绍和探讨。该方法在诸如医院，公安等领域的计算机系统中具有广泛的应用前景。     

磁头表面含氟三氯硅烷自组装膜的生长机理

在磁头表面制备了1H,1H,2H,2H-四氢全氟辛烷基三氯硅烷（FOTS）自组装膜,采用X射线光电子能谱仪（XPS）、时间飞行二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、接触角测量仪和原子力显微镜（AFM）对FOTS自组装膜进行表征,研究了自组装膜的生长机理．结果表明,FOTS自组装膜的生长经过了亚单层膜的低等覆盖,亚单层膜的中等覆盖、团聚和聚结四个阶段．其中第一层和第二层自组装膜的亚单层膜形态和生长方式不同,第一层的亚单层膜呈岛状,岛的生长是自身向外扩展;第二层的亚单层膜呈簇状,簇通过效量增加来实现生长．超薄完整的单层FOTS自组装膜（膜厚为0．8nm、Ra为0．125nm）能使磁头表面的接触角值增加,疏水性能提高．     

巴氏合金ZSnSb8Cu4的摩擦磨损行为

以巴氏合金ZSnSb8Cu4与45#钢为摩擦副,研究巴氏合金ZSnSb8Cu4在不同实验参数下的摩擦磨损行为。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和X射线能谱仪(EDS)对实验样品进行表征,分析其摩擦磨损机制。结果表明:巴氏合金试样在正常温度(130℃)下具有较低且稳定的摩擦因数和磨损率;当试样温度超过130℃时,巴氏合金表面的相成分发生明显变化,磨损率也急剧增大,磨损由以磨粒磨损为主的轻微磨损转变为以熔融磨损为主的严重磨损。