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系统研究了退火温度对硅薄膜结构和光学性能的影响。通过电子束蒸发工艺制备硅薄膜,然后在氮气保护下对薄膜样品在200~500°C范围内进行退火处理。使用XRD、拉曼光谱、电子自旋共振和透射光谱测量等方法对薄膜样品进行了表征。结果显示,随着退火温度的升高,非晶硅薄膜结构有序度在短程和中程范围内得到改善,同时缺陷密度显著降低-。当样品在400°C退火后,消光系数k由6.14×10-3下降到最小值1.02×10~3(1000 nm),这是由于此时硅薄膜缺陷密度也降到最低,约为沉积态薄膜的五分之一。试验结果表明,硅薄膜在适当的温度下退火可以有效地降低近红外区膜层的光学吸收,这对硅薄膜在光学薄膜器件研制中具有重要应用。 相似文献
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模拟退火法在椭偏光谱数值反演中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
将模拟退火(SA)法应用于椭偏光谱数值反演,以达到同时得到介质薄膜的厚度和光学常数谱,并对SA算法作了说明和改进,作为应用实例,计算了Si衬底上的SiO2薄膜和Ba0.9Sr0.1TiO3(BST)铁电薄膜的膜厚及光学常数谱,同时讨论了椭扁参数φ和△随膜厚及折射率变化的灵敏度。 相似文献
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将有名的五极输出管EL34作超线性连接,可以满足现代扬声器对放大器输出功率大的要求,输出34W的输出功率。该机输入级选用西门子公司五极管C3g,在输入电路中用扼流圈进行反相。激励级选用ETT制造的锁式束射四极管58/255H(作三极管连接)的阴极跟随器。电路不采用大环路负反馈。 相似文献
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针对人工检测金属表面缺陷效率低、主观意识强、无法长时间工作等缺点,提出一种基于支持向量机监督检测、分类以及测量的金属表面缺陷的方法,并使用Matlab软件设计一个图形用户界面(GUI),便于检测人员使用.研究中先对工厂采集的图像进行Gabor滤波和对比度增强的前处理.然后使用方向梯度直方图(HOG)和灰度共生矩阵(GL... 相似文献
170.
本文在分形方块图像编码的基础上,提出一种分级匹配分形编码和分形插值相结合的图像压缩方法,实验结果表明,在基本保持重建图像质量的前提下,编码时间大为缩短。 相似文献