CHV160供水专用变频器的应用

相对于传统的水箱和水塔的供水,变频恒压供水具有众多的节电节水、不对水资源造成污染等优点.系统而全面地阐述了CHV160供水专用变频器的特点以及在恒压供水系统中的应用.     

纳米二氧化硅抛光液对低k材料聚酰亚胺的影响

以3英寸的P型〈111〉硅片为衬底,经过旋涂固化制备低介电常数(低k)材料聚酰亚胺。对聚酰亚胺进行化学机械抛光(CMP),考察实验前后,纳米二氧化硅抛光液对低k材料的结构和介电常数。实验中应用了2种纳米二氧化硅抛光液:一种是传统的铜抛光液;另一种为新型的阻挡层抛光液。通过扫描电镜(SEM)和介电常数测试结果显示,2种抛光液对低k材料,不论是在结构还是电特性方面的影响都不大。经铜抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.08;经阻挡层抛光液抛光后,k值从最初的3.0变到3.28。实践证明,这两种纳米二氧化硅抛光液可以应用于集成电路。     

水解锌制备Zn/ZnO纳米结构及其光学性能研究

利用滚压振动磨在干法室温条件下将金属锌制备成尺度约为3~5nm的锌量子点,并使产物与水蒸气在250℃进行化学反应,得到纳米氧化锌或纳米氧化锌与锌的混合物。分别利用能量发射谱仪(EDS)、透射电镜(TEM)对样品成分和形貌进行了表征。结果表明,250℃反应温度下得到的产物具有良好的分散性,其特征是棒状和片状结构共存,而且纳米棒具有显著的沿[011 1]晶向生长的趋势。室温下光致发光(PL)谱显示,在360nm和388nm处有双紫外发射峰,属于激子态发光,双紫外发射峰可能与掺杂能级有关;同时,在496nm处有蓝光发射峰,在515nm处有绿光发射峰,这两种发射属于表面缺陷态发光。对各种发光峰的发光机制进行了讨论。UV-Vis吸收光谱表明,产物在紫外区有很强的紫外吸收,吸收峰出现了蓝移现象,验证了Zn纳米量子点的掺杂形成掺杂能级,也与测得的可见光发射一致。     

碱性抛光液对铜布线电特性的影响

随着互连电路的规模发展到亚微米级,互连延迟已经成为超过门延迟的重要因素。减小延迟在互连结构中是不可避免的问题。化学机械抛光是最适合在多层铜互连结构中达到平整化目的的手段。出于对整体过程的考虑,我们将考察化学机械抛光对铜晶圆片电特性的影响。在这篇文章中,我们将考察两种抛光液在化学机械抛光中的影响,一种抛光液是酸性抛光液,来自于SVTC,另一种是碱性抛光液,由河北工业大学提供的。着重考察了三个方面的特性,电阻,电容和漏电流。电阻测试结果显示,河北工业大学提供的抛光液抛光后,电阻更小。而被两种抛光液抛光后的电容则相差不多,电容值分别为1.2 E^-10F 和1.0 E^-10F。同样,河北工业大学提供的抛光液抛光后的漏电流是1.0E^-11A,低于SVTC提供的酸性抛光液。结果显示,河北工业大学提供的碱性抛光液会产生小的碟形坑和氧化物损失,优于SVTC提供的酸性抛光液。     

分布式系统模糊分类识别航迹关联算法

以模糊分类识别理论为基础,提出了一种分布式系统航迹关联算法。算法以各节点局部航迹为研究对象,确定航迹特性指标,建立航迹贴近度向量,根据最大隶属原则解决航迹关联问题。仿真表明,该算法比基于统计方法的加权航迹关联算法具有关联速度快、关联正确率高,且对密集目标环境适应性较强的优点。     

WINDOWS的内存管理

Ｗｉｎｄｏｗｓ是当前最热门的图形操作系统，本文论述了Ｗｉｎｄｏｗｓ在标准模式和３８６增强模式下的内存管理，并介绍了ＱＥＭＭ－３８６内存管理程序．     

全温超高速ECL双模预置分频器设计

本文叙述了全温(-55～+125℃)超高速ECL双模预置分频器的工作原理、电路设计、版图设计及研制结果,还简述了制作工艺。整个电路设计以提高电路工作速度和温度特性为中心,采用优化的开关电流分配、最佳的电路工作点设置、带温度补偿的电阻反馈网络结构和合理的版图设计,来提高工作速度和保证良好的温度性能。研制的÷8/9分频器,在全温范围内最高工作频率达600MHz以上。     

水平井产能预测及射孔参数优选系统研究

随着钻井和采油技术的飞速发展，一些低渗、超薄油层相继投入开发。由于水平井开采技术具有良好的开采效果,其在各油田受到了重视和应用。根据现场资料，对影响水平井产能的敏感性参数进行了深入分析，对射孔参数进行了优化设计,并编制了相应的计算机软件，为水平井的设计与应用提供了依据。     

外电场周期极化LiNbO3的高压电源设计

分析了周期极化LiNbO3的极化反转过程和特性，进而提出了一种用于外加电场极化法制作周期极化LiNbO3的极化波形，并完成了相应的高压极化电源的设计与制作。电源可产生梯形波、序列脉冲方波以及由两者组合的多种波形，其最高输出电压为15kV，最大输出电流可达到300μA。用其在LiNbO3晶体上进行了多次极化反转实验，取得了很好的效果。