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991.
离子束加工中驻留时间的求解模型及方法 总被引:4,自引:0,他引:4
驻留时间求解问题是离子束加工中的关键问题.通常,离子束加工过程可以描述为一个包含驻留时间的二维卷积方程,理论上通过反卷积即可以求解出驻留时间.然而,反卷积问题是一个病态问题,所以驻留时间一般较难很好地求解出.为了解决这个问题,介绍了一个离散的线性模型——CEH模型,分析了该模型的优点.提出应用截断奇异值分解法(TSVD)来求解CEH模型;深入分析了该方法的优点,并利用“L-曲线”分析了驻留误差和加工量之间的关系以及用“L-曲线”对CEH模型中去除点和驻留点的不同取法进行了评价.仿真结果表明,CEH模型和TSVD方法对于求解光学镜面离子束加工中的驻留时间很有效. 相似文献
992.
993.
为解决目前热工测控环境集成性差,资源共享不易的现状,提出了一种基于C/S结构的局域网络测量平台。通过采用数据库和计算引擎分布加目录服务器的方案优化了网络结构,并以双层数据库存储模式实现对采集硬件接口的数据格式一致和透明,从而实现了数据信息的分布存储和资源信息的集中管理。使得整个热工测控平台实现了分层次、专业化和模块化开发的目的。 相似文献
994.
离子束倾斜入射抛光对表面粗糙度的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
基于光学元件离子束高精度确定性抛光技术,在自行研制的离子束抛光机床上,本文研究了离子束倾斜入射抛光对光学材料熔石英表面粗糙度的影响.为了在离子束抛光中改善表面粗糙度,采用了0°~80°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光和倾斜45°入射均匀去除两种实验方案进行研究,其中不同入射角度抛光实验研究结果表明:离子束垂直入射抛光较难改善表面粗糙度,倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,入射角为30°~60°之间时抛光效果最佳,表面粗糙度得到明显改善;倾斜45°入射均匀去除抛光实验结果表明表面粗糙度的RMS值由抛光前(0.92±0.06)nm下降到(0.48±0.04)nm,提高了光学零件的表面质量,验证了离子束倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜抛光超光滑表面的生成. 相似文献
995.
香港作为世界四大印刷中心之一,其印刷业发展十分迅速,而且香港的印刷业规模大、技术先进,同时还引进了国际先进的印刷技术。据了解,不久前香港一家水印形象公司从瑞士引入了印刷机和新型的水印技术。这种水印技术具有防伪功能,甚至可在250g厚度的纸上加印水印图案,而水印一旦烙印将不能去除。而且该技术还结合了柯式印刷、活版印刷、苯胺印刷三种技术的优点。这种水印技术可用在有价证券、合同文件、证书、大部门票证中,应用领域广泛。香港印刷防伪又添新技术@周林 相似文献
996.
997.
998.
从1993年底,国内开始引进D900移动交换系统,至今已有近201万门容量。本文不仅介绍该系统的硬件和软件,而且分析GSM协议及其在D900系统上的实现。鉴于现有国内的电信网的特殊性,该系统采用了相应的技术。鉴权是GSM的一个主要特性,本文也加以讨论。最后向读者介绍D900系统所提供的数据传真业务、补充业务和一些新开发的功能。 相似文献
999.
配热电阻动圈式温度仪表的测量电路是一个不平衡的直流电桥,动圈测量机构置于桥路的对角线上(如图)。桥路采用直流稳压电源供电。 相似文献
1000.
周林 《郑州轻工业学院学报(自然科学版)》1987,(1)
本文重点说明了负角频率对数频率特性图的绘制方法,再考虑增补特性及正角频率对数频率特性,就得到全频率的(角频率从负无穷到正无穷)的对数频率特性图;后边讨论了奈魁斯特稳定判据在对数坐标图上的应用。把原有的闭环系统稳定充要条件表述略加修改,使用起来简单方便,象在极坐标图上一样,可直接使用N=Z-P关系式。 相似文献