用CF4等离子体制备无水胶印版材斥墨层

采用射频等离子体化学气相沉积设备,以CF4为反应气体,进行了无水胶印版材斥墨层制备的实验.研究了不同等离子体参数(功率、气压和时间)对聚合薄膜性能的影响,并通过接触角、红外光谱、扫描电子显微镜对薄膜表面结构和性能的表征,对等离子体工艺进行优化,得到了表面疏水性能良好的低表面能薄膜.推墨实验结果表明,所聚合的薄膜基本达到斥墨层的要求,用含氟等离子体技术制备无水胶印版材斥墨层的技术路线是可行的.     

离子源辅助电子束沉积凹印版耐磨层

针时凹印版电镀存在的污染和高能耗，采用射频感应偶合（ICP）离子源辅助电子束沉积硬质铬耐磨层，通过控制离子源参数和加入过渡层来提高薄膜与基体的结合力和显微硬度。利用扫描电镜、原子力显微镜、显微硬度计、划痕仪、表面轮廓仪，摩擦磨损仪对膜层的组织结构和性能进行了研究，探讨了在薄膜沉积过程中，离子源工艺参数对薄膜界面结合机理，组织结构和性能的影响。     

电子束蒸发镀铬制备凹印版材耐磨层的研究

利用电子束蒸发镀技术在铜表面沉积铬层,并对制备的工艺,涂层的性能行了初步研究.结果显示,采用低电压(6kV)和低束流(50mA、60mA))蒸镀时,沉积速度适中,所得的膜层呈银白色且光亮,内应力较小,无开裂现象,镀层厚度均匀,硬度较高,且与基体结合良好.适当控制电子枪的工艺参数和烘烤时间可以增加薄膜与基体的结合力.     

SiOx Ink-Repellent Layer Deposited by Radio Frequency（RF） Plasmas in Continuous Wave and Pulse Mode

Low surface energy layers, proposed application for non-water printing in computer to plate （CTP） technology, are deposited in both continuous wave and pulse radio frequency （13.56 MHz） plasma with hexamethyldisiloxane （HMDSO） as precursor. It is found that the plasma mode dominates the polymer growth rate and the surface composition. Derived from the spectra of X-ruy photoelectron spectroscopy （XPS） and combined with printable test it is concluded that concentration of Si in coatings plays an important role for the ink printability and the ink does not adhere on the surface with high silicon concentration.     

普通PS版感光特性的研究

计算机直接制版技术(CTP)是当前印刷技术领域研究的热点问题之一,采用传统PS版的计算机直接制版(CTCP)由于继续沿用传统的预涂感光版(PS版),在印刷适性、耐印力、印品分辨率等方面具有明显的优势,同时成本低,市场量大。但人们对PS版感光材料曝光特性的研究相对较少,本文给出了1种超感度重氮盐PS版的最低曝光能量同波长之间的关系,在波长405nm处所需的临界曝光能量仅为10.35m J/cm2。从曝光前后颜色密度值变化、感光材料红外分析方面,对PS版的曝光效果做了详细的测量。     

Three Kinds of Films Obtained from Plasma Polymerization of Octamethylcyclotetrasioxane

Three kinds of “Films” i.e. cross-linked film,grainy film and transparent film.were obtained in the process of plasma polymerization of Octamethylcyclotetrasioxane(D4) under different conditions.From SEM photos,we can see that the cross-linked film has a network form.From XPS spsectra.we can see that the content of Si-C bond of the cross-linked film is lower than that of the transparent film,and this result agrees well with the test results of FTIR spectra,This proves that the cleavage of the Si-C bond and C-H bond are the main cleavage in the formation of cross-linked film,whereas the cleavage of the Si-O is the main cleavage in the formation of transparent film.In order to enhance the collision of the reactive particles and invertigate the influence of magnetic field on the plasma polymerization,we introduced the magnetic field,as a result ,we got the grainy film.     

HeI 5875.6共振荧光的产生和测量

利用激光产生共振荧光的方法测量等离子体中原子布居密度被公认为最精确和最可靠的方法。近年来这个方法在聚变等离子体诊断中引起了人们的极大关注。本文报告在 He 等离子体中 HeI 5875.6(?)共振荧光的产生和测量结果,并推导出判定荧光信号大小的数字表达式。实验结果与理论分析基本相符。     

射频脉冲N2等离子体蓝紫光源的发光性能研究及其应用

继续沿用传统PS版的计算机直接制版技术(CTP)对于我国的印刷包装行业具有特殊重要的意义.本文利用占空比可调的脉冲射频低温等离子体电源激励氮气等离子体,通过测量辐射光功率密度,从不同占空比、射频功率、气压等方面研究了等离子体光源的发光特性,在入射功率61 W,占空比54.5%,气压550 Pa条件下获得了256 μW/cm2的蓝紫光输出,可以满足PS版感光的要求.最后给出了利用本光源使PS版感光的结果.     

大气压聚合SiOx薄膜用于新型印刷板材的研究

以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体,采用DBD等离子体枪在大气环境下进行聚合物合成,对2种不同进样方式的放电特性、聚合效果作了比较,发现2种进样方式的放电特性相同,唯一不同在于等离子体区下游进样放电等离子体炬长在低流量时先增大后减小,而等离子体区直接进样方式放电炬长直接达到起弧最大值.FTIR显示单体不同的输入方式对聚合膜结构影响不大,但对聚合膜的沉积速度有明显的影响,单体输入到等离子体区下游成膜速度明显快于单体直接进入等离子体区.扫描电子显微镜(SEM)给出了聚合膜的表面形态,表面能测试显示其接触角可达110度,推墨实验表明等离子体下游区进样聚合膜斥墨性好,可做无水胶印板材.     

SiOx包装阻隔薄膜的发展现状及其制备方法

SiOx阻隔薄膜具有优异的阻隔性,并且光透过性和微波透过性好,在阻隔包装领域的应用前景广泛,介绍了SiOx包装阻隔薄膜的制备方法:物理气相沉积,等离子体聚合及大气下等离子体聚合等.