电火花表面强化工艺对涂层组织性能的影响

采用新型脉冲放电电火花表面强化设备,以Ｃｒ２Ｂ作为强化电极材料,３Ｃｒ２Ｗ８Ｖ钢为基体材料,研究了电火花表面强化工艺对强化层组织结构及强化层性能的影响。结果表明,两种强化气氛条件下,强化层组织均为细致的树枝晶,强化层的Ｘ射衍射最强峰均ｒ２Ｂ,次强峰均为α－Ｆｅ,但空气中强化层α－Ｆｅ峰比氩气中的强,另外,还出现了Ｆｅ３Ｏ４的峰;在氩气中强化时,强化表面质量好,气孔及微裂较少,强化层硬度大于空气气氛     

硅片化学机械抛光中表面形貌问题的研究

利用扫描电镜和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪研究了抛光过程中不同阶段硅片的表面形貌、抛光液研磨颗粒粒径对抛光表面质量的影响以及抛光过程中的桔皮现象。结果表明,抛光中主要是低频、大波长的表面起伏被逐渐消除,而小尺度上的粗糙度并未得到显著改善;当颗粒直径在10-25nm的范围时,粒径和粗糙度不存在单调关系;桔皮的产生主要是抛光液中碱浓度过高所致。     

新型脉冲放电电火花表面强化设备

介绍了一种新型脉冲放电表面强化设备,分析了该设备的特点及工作原理,并以Ｃｒ２Ｂ为强化电极进行了强化试验,研究了强化层的组织、性能。结果表明,该设备具有强化速度高、强化层厚及表面质量好等特点,且强化层显微硬度高,耐高温性能好。     

活塞环离子镀膜的磨擦学性能研究及磨损表面的扫描电镜观察

为了改善发动机活塞环的摩擦学性能和提高其使用寿命，采用离子镀技术在活塞环表制备了CrN硬质膜，并利用SRV高温摩擦磨损试验机考察了硬质膜的摩擦学特性，用扫描电子显微镜观察了摩擦的磨损表面形貌，分析了磨损机理。研究结果表明离子镀硬质膜的摩擦系数与镀铭层基本一致，但磨损量远低于镀铬层的磨损量；与两种涂层活塞环配制副的缸套试样的磨损量基本相当。     

努力实现南宁地区矿业生产秩序全面好转

矿业经济的健康发展离不开良好的矿业秩序。而政府抓、抓政府是切实保护矿业秩序整顿顺利进行的决定因素。南宁地区多年矿业秩序治理整顿再次证明，没有政府的统一领导，统一行动，统一指挥，就不可能有全地区矿业规模整顿成果，也没有矿业经济高速发展的可能。     

聚苯乙烯(PS)颗粒抛光液特性对铜表面化学机械抛光的影响

铜互连与低-k介质在集成电路制造中的应用对表面平坦化提出更高的要求。为改善铜层化学机械抛光(Cu-CMP)效果,将聚苯乙烯(PS)颗粒应用于铜的化学机械抛光液,分析PS颗粒抛光液中氧化剂、络合剂、pH值、粒径及颗粒含量对铜的化学机械抛光性能的影响,并通过静态腐蚀及电化学手段对PS颗粒在抛光液中的化学作用进行了分析。实验结果表明,当以过氧化氢(H2O2)为氧化剂,氨基乙酸(C2H5NO2)为络合剂时,优化后的PS颗粒抛光液取得了较高的铜抛光去除速率,达到1μm/min,同时发现PS颗粒的加入增强了抛光液的化学腐蚀作用。     

抛光液组分对硬盘盘基片超光滑表面抛光的影响

在硬盘盘基片的最终抛光中,研究SiO2溶胶颗粒、氧化剂、络合剂和润滑剂对盘基片Ni—P材料抛光性能的变化规律,获得较高的材料去除速率（MRR）和原子级光滑表面,以满足下一代硬盘盘基片制造的更高要求．结果表明,采用平均粒径25nm的SiO2溶胶颗粒,易减少微划痕等缺陷;以过氧化氢为氧化剂,可大幅提高MRR;加入有机酸络合剂后,MRR显著增大,其中含有水杨酸的抛光液MRR最大,并讨论不同络舍剂对盘基片去除的影响机理;丙三醇润滑剂的引入,使抛光中摩擦系数减小,盘基片的表面粗糙度得到明显降低．采用原子力显微镜（AFM）、光学显微镜和ChapmanMP2000＋表面形貌仪来考察盘基片抛光后的表面质量,基于抛光液各组分的影响作用,最终获得表面粗糙度尺。为0．08nm的盘基片表面,且MRR达到0．132μm／min．     

LED蓝宝石衬底抛光表面原子台阶形貌及其周期性研究

LED蓝宝石衬底的表面质量会极大影响到后续外延质量,进而影响到LED器件性能。蓝宝石研磨片经Al2O3磨粒粗抛液、SiO2磨粒精抛液下进行化学机械抛光(CMP),最终表面经原子力显微镜(AFM)所测表面粗糙度达到0.101nm,获得亚纳米级粗糙度超光滑表面,并呈现出原子台阶形貌。同时,通过使用Zygo表面形貌仪、AFM观察蓝宝石从研磨片经Al2O3粗抛液、SiO2精抛液抛光后的表面变化,阐述蓝宝石表面原子台阶形貌的形成原因,提出蓝宝石原子级超光滑表面形成的CMP去除机理。通过控制蓝宝石抛光中的工艺条件,获得a-a型、a-b型两种不同周期规律性的台阶形貌表面,并探讨不同周期规律性台阶形貌的形成机理。