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等离子体发射监控系统参与的中频孪生反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜的实验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在一个孪生靶实验装置上进行了中频反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜的工艺实验.得到了一组真实的反应溅射TiO_2薄膜的沉积速率和真空与反应气体流量之间关系的迟滞曲线(无等离子体发射监控系统Plasma Emission Monitoring,PEM)参与.介绍了PEM参与下的反应溅射TiO_2的一些实验现象和结果,此时TiO_2的沉积速率与PEM设定值呈很好的线性关系,反应溅射可以稳定在过渡态的任一工作点.设定值是PEM控制系统最关键的参数,直接决定着控制的可靠性、反应溅射速率以及薄膜的微观结构.结果表明,为了得到标准化学配比的反应物,PEM的设定值不能超过某个极限值.要在保证化学配比也就是反应物的成分或结构的前提下提高沉积速率才有意义. 相似文献
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本文通过微断开关校验原理的分析,运用机电一体化及电子应用技术,介绍了微断开关自动校验装置的设计方法。 相似文献
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冷轧宽带钢板形控制降维功效继承调控方法 总被引:3,自引:0,他引:3
基于高次勒让德正交多项式和调控功效函数,提出了降维功效调控模型及两级调控模型。首先,利用连续可导的高次曲线准确描述局部板形信息,同时降低影响系数矩阵的维数和功效函数的计算量,利用传统板形调控手段(倾辊、弯辊、横移)同步消除典型板形缺陷;然后,利用精细分段冷却实施剩余板形偏差的二级调控,改善局部浪形缺陷,提高成批钢卷的生产稳定性和板形质量。实例表明,当阶数为带钢覆盖检测通道数量的一半以上时,拟合曲线已包含所有的局部板形信息;对于相对较典型的板形问题(50 I左右),一级调控后剩余板形偏差在15 I以内,二级调控后剩余板形偏差在8 I以内,综合调控效果比较理想。 相似文献
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