NMOS器件两次沟道注入杂质分布和阈电压计算

分别考虑了深浅两次沟道区注入杂质在氧化扩散过程中对表面浓度的贡献。对两次注入杂质的扩散分别提取了扩散系数的氧化增强系数、氧化衰减系数和有效杂地系数，给出了表面浓度与工艺参数之间的模拟关系式，以峰值浓度为强反型条件计算了开启电压，文章还给出了开启电压、氧化条件、不同注入组合之间的关系式。     

高氧化态（Ⅱ─Ⅳ）三核金属簇合物构型的人工神经网络判别方法

本文运用一典型的人工神经网络模型─“反向传播”模型，对高氧化态（Ⅱ─Ⅳ）三核金属簇合物的构型分布进行了分析，得到了较好的分类、预报结果为化合物结构分析提供了新的工具。     

MCS—51单片机在加工精度统计分析中的应用

介绍了以单片机８０３１为微处理机的加工精度统计分析仪的技术特性、工作原理、系统的硬件结构以及软件设计。     

尼泊尔水电工程现状

本文介绍了目前尼泊尔在建的和处于规划阶段的一些水电工程的现状。资料由尼泊尔水电协会的秘书长N．R．什雷斯塔提供。     

汽车维护信息管理系统的研究与开发

对汽车维护信息管理系统进行了设计，制定了系统的设计目标，规划了系统的总体功能结构，定义了系统总体和各模块的数据流程，讨论了管理系统实现过程中的几个问题，通过应用举例，说明汽车维护信息管理系统是可行的。     

光学曝光系统

<正> 半导体集成电路是在不断追求高密度和低成本的过程中发展起来的。今天,64KDRAM已发展到了全盛时期,256KDRAM 也进入了批量生产阶段。光学曝光设备也随着这些器件的发展,由接触式光刻发展到1:1反射投影式及缩小投影的分步重复式光刻,同时实现了高精度化及多功能化。上述发展的结果,导致     

高瓦斯大倾角煤层综采工艺

介绍深部矿井大倾角工作面综采工艺、工作面运输机防滑、支架防倒、防滑措施。