基于SI1SI2R模型的异质群体重复感染的传染病建模与仿真

具有重复感染可能性的传染病由于不受抗体或疫苗等手段的阻碍,其传播范围会比普通传染病更加广泛,严重危害人类的身心健康,影响社会的和谐稳定,有必要对其传播规律进行探究,以便于更有针对性地制定应对策略。基于经典的传染病模型,本文构建考虑了传染病重复感染特征的SI1SI2R模型,定义异质性个体之间的交互及传播规则,并利用ABM仿真建模的方法探究具有重复性感染特征的传染病在异质性群体间的传播规律。仿真实验结果表明,此类传染病感染范围会随二次感染率的提升而增加,而异质性传播群体的组成不仅会影响感染人数的比例,还会影响其到达峰值的时间。因此,不仅要减小此类疾病反复感染的可能,还要根据传播群体的异质性提出更有效率的管理方案。     

基于支持向量机的磨削表面烧伤识别研究

磨削加工是机械加工中的重要工艺之一,磨削烧伤对工件的各方面的性能有很大影响.因此,需要对磨削烧伤进行分级并识别以提高工件品质.论文采用支持向量机法对采集的磨削烧伤图像的颜色以及纹理特征进行深入地分析和研究.研究结果表明,随着数据量的变化,支持向量机模型对不同烧伤类型的识别准确率并不相同,当数据量为500时,支持向量机的类型识别准确率最高为94.02％.基本满足实际工程中对磨削烧伤识别的准确率要求,并具有一定的实际推广意义.     

江苏省代表性水源地持久性有机污染物污染特征及风险评价

为确定江苏省6个代表性水源地中有机氯农药(Organchlorine pesticides,OCPs)、多氯联苯(Polychlorinated phenyls,PCBs)以及多溴联苯醚(Poly brominateddiphenylethers,PBDEs)的季节性分布情况、来源以及其对环境的生态风险,分别于2018年12月、2019年3月以及2019年6月采集6个代表性水源表层水体和表层沉积物样品,采用气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)分析了19种OCPs、17种PCBs和8种PBDEs质量比。     

超低能耗建筑发展现状及关键技术

当前,超低能耗建筑已成为国内外行业建筑节能发展趋势。本文从技术原理、标准、政策、示范项目等方面介绍了超低能耗建筑的发展现状,并梳理了寒冷地区超低能耗建筑技术体系,为推广落地超低能耗建筑项目奠定了基础。     

健康睡眠产业现状与房地产空间应用研究

房地产发展进入聚焦健康的高品质发展阶段,客户更关注生活质量与健康,睡眠是其中关键一环,建筑空间又是健康睡眠的主要保障空间,然而现有居住空间对于健康睡眠的整体性管控仍在初期阶段,居住者对于睡眠空间与健康睡眠的认知较低。基于这种现状,本文对于健康睡眠的研究现状与发展趋势进行了梳理和总结,旨在对于房地产发展健康睡眠管理提升提供支持和指引。     

高炉操作和管理由粗放型向精细型转型实践

对马钢高炉的发展模式、高炉操作和管理进行分析和总结,形成"日分析、周体检、月总结"的体检制度,逐步形成以数据说话的操作和管理理念,建立健全的预警机制为高炉长周期稳定顺行保驾护航,高卢操作和管理向精细化转型。     

甜菜雄性不育系及保持系花期蛋白差异分析

为揭示甜菜雄性不育的原因,从蛋白质组学角度对甜菜细胞质雄性不育进行研究,利用双向电泳与MALDI-TOF-MS方法,对Owen型甜菜质核互作型雄性不育系DY5-CMS及同型保持系DY5-O花粉发育3个阶段(雄蕊原基分化期、四分体时期和单核时期)的花蕾蛋白差异表达进行研究．结果表明： 在雄蕊原基分化期花蕾中鉴定出6个差异蛋白,在四分体时期鉴定出4个差异蛋白,这些蛋白多数与呼吸和能量代谢有关,推测甜菜细胞质雄性不育可能是花粉发育早期(雄蕊原基分化期和四分体时期)与能量和呼吸代谢有关的蛋白表达上调导致呼吸和能量代谢紊乱造成的;在花粉发育的单核时期鉴定出6个差异蛋白,这些蛋白主要与植物的光合作用有关,推测到花粉发育后期雄性不育性状已形成,雄性不育导致植物光合机能下降．     

挖掘机工作装置有限元分析

以国产徐工XE135B型反铲液压挖掘机的挖掘集成组件为一体作为研究对象,建立有限元模型,采用有限元分析软件Ansys对工作装置的5种比较典型工况进行静强度分析和模态分析。结果表明:在切向力为85k N的情况下,危险工况1的强度和刚度都满足要求,5种工况的模态分析在激振频率范围内的变形满足要求,为改进挖掘机设计、提高工作寿命及安全性提供理论参考。     

Electrolyte composition and removal mechanism of Cu electrochemical mechanical polishing

The optimization of electrolytes and the material removal mechanisms for Cu electrochemical mechanical planarization （ECMP） at different pH values including 5-methyl-1H-benzotriazole （TTA）, hydroxyethylidenediphosphoric acid （HEDP）, and tribasic ammonium citrate （TAC） were investigated by electrochemical techniques, X-ray photoelectron spectrometer （XPS） analysis, nano-scratch tests, AFM measurements, and polishing of Cu-coated blanket wafers. The experimental results show that the planarization efficiency and the surface quality after ECMP obtained in alkali-based solutions are superior to that in acidic-based solutions, especially at pH=8. The optimal electrolyte compositions （mass fraction） are 6% HEDP, 0.3% TTA and 3% TAC at pH=8. The main factor affecting the thickness of the oxide layer formed during ECMP process is the applied potential. The soft layer formation is a major mechanism for electrochemical enhanced mechanical abrasion. The surface topography evolution before and after electrochemical polishing （ECP） illustrates the mechanism of mechanical abrasion accelerating electrochemical dissolution, that is, the residual stress caused by the mechanical wear enhances the electrochemical dissolution rate. This understanding is beneficial for optimization of ECMP processes.