考虑滑移效应的高密度水基钻井液流变特性

壁面滑移效应会影响高密度水基钻井液流变测量的准确性。基于同轴圆筒旋转黏度计的测量原理,从合理假设壁面滑移现象出发,提出了钻井液流变测量中壁面滑移效应的检测与校正方法,得出了有滑移效应的高密度水基钻井液真实流变特性的确定方法。采用两个不同环形间隙尺寸的圆筒测量系统,开展了考虑滑移效应的高密度水基钻井液流变测量实验,并分析了高密度水基钻井液流变特性与滑移特性。理论与实验研究表明,高密度水基钻井液流动时易出现壁面滑移现象,应消除滑移效应对流变测量的影响;无黏土高密度水基钻井液流变特性符合宾汉模式,其真实流变参数与不考虑滑移效应的表观流变参数存在显著差异;滑移速度与壁面剪切应力呈直线关系,且发生滑移的临界剪切应力很小。     

新型封堵剂FDJ-EF封堵特性及其作用机理

封堵近井壁微裂缝是避免硬脆性泥页岩地层井壁失稳的有效手段之一。在分析各类型水基钻井液防塌封堵剂的基础上,优化研制出一种新型热塑性聚酯类封堵剂FDJ-EF;通过具有模拟微裂缝金属缝板的高温高压封堵仪,评价FDJ-EF的封堵效果,证明其在较宽的温度范围(80～140℃)内具有优异的封堵性能,且其封堵能力强于目前常用的防塌封堵剂(聚乙二醇、乳化石蜡、乳化沥青);通过荧光光度计分析,FDJ-EF无荧光显示;通过封堵特征微观观察及粒度分布测量等实验手段,探讨了FDJ-EF的封堵机理。结果表明,其封堵机理主要为:在软化温度范围内,FDJ-EF封堵粒子在压差作用下软化变形,与其他固相颗粒一同挤入微裂缝内,在短时间内形成致密的封堵层,一方面阻碍了压力和滤液传递,一方面增强了黏土矿物的胶结强度。     

川中小潼场-白庙地区大安寨段储层研究

四川中部小潼场-白庙地区大安寨段油藏是典型的湖相碳酸盐岩裂缝型油气藏,属于特殊油气藏.通过深化该区的地质研究,有望找到相对有利的勘探开发接替区块.研究表明:大安寨段储层的储集岩类主要为质地较纯的介壳灰岩和舍泥质介壳灰岩,储渗空间以构造成因的裂缝占绝对优势,次生孔隙较少,原生孔隙偶见;储层属于典型的特低孔、特低渗的裂缝型储层.在地质研究基础上结合地震裂缝预测,确定了小潼场鼻状突起的大石桥-中坝区块、李渡地区的蒋家湾-走马区块和白庙地区的石龙场-新场区块为区内研究层段的有利勘探区块.     

高压地下储气井腐蚀与防护

随着国内压缩天然气（以下简称CNG）的大力发展,作为建设周期短、造价较底的CNG储气井将在国内推广使用起来,而CNG地下储气井的安全性是保证CNG加气站正常运行的关键。针对目前国内CNG加气站高压地下储气井腐蚀的实际问题进行了分析,提出了现有储气井的防护技术,为进一步推广CNG汽车的应用提供了技术支持和安全保障。     

基于参考信号的无源互调故障定位技术

研究了一种基于参考信号的无源互调故障定位技术.该技术比传统无源互调测量技术多了一个参考信道,提供参考信号,解调互调信号相位响应,同时引入校准技术,在测量端口构建参考平面,通过频时转换得到相对于参考平面的时域响应,有效地进行故障排查.在此基础上,仿真故障定位实验验证了理论的正确性,设计并制造相位参考板,测试结果与实际值比较表明：电缆上两个故障位置实际值与测量值之差的绝对值均≤1m,实际相对误差分别约为5.1%、2.4%,证明了这种方法的正确性和可行性.该技术将克服传统故障定位的不足,更适应于恶劣的地域环境.     

应力制约的InSb焦平面探测器均匀性

采用焦平面探测器均匀性作为衡量InSb芯片承受应力的方法,通过工艺改进有效地降低了应力水平,提高了128×128 InSb焦平面探测器的均匀性,取得了响应非均匀性为3.0%的结果.     

微量氧化石墨烯改性聚酯的制备及性能研究

为探究微量氧化石墨烯在PET合成过程中的作用以及对GO/PET改性聚酯结构的影响,以PTA、EG为单体,微量GO为改性剂,采用原位聚合直接酯化法合成GO/PET改性聚酯.通过特性黏度、端羧基含量、DSC、TG以及红外光谱分析,结果表明:微量GO的加入提高了PET的特性黏度和黏均分子量,特性黏度范围在0.68～0.73d...     

基于FPGA的FIR滤波器的误差分析

数字滤波器作为数字信号处理技术的重要组成部分之一,已广泛应用于信号分离、恢复、整形等重要场合。在工程实践中,往往要求对信号处理要有实时性和灵活性,而基于FPGA的FIR滤波器因其严格的线性相位和简单的设计步骤而应用广泛。本文不仅对基于FPGA设计的FIR滤波器进行了简单的误差分析,包括绝对误差与相对误差分析;而且还做出...     

抛光压力对PS/CeO2纳米复合磨粒抛光性能的影响

以采用改进无皂乳液聚合法制备的纳米尺寸聚苯乙烯(PS)微球为内核,采用原位化学沉淀法制备了不同壳层厚度的PS/CeO2核/壳包覆结构复合微球。将所制备的复合颗粒用于二氧化硅介质层的化学机械抛光,用原子力显微镜测定晶片的微观形貌和粗糙度。电镜结果表明:复合颗粒呈规则球形,其PS内核尺寸约为72 nm,CeO2壳厚为5~20 nm。抛光结果显示:在本实验范围内,抛光速率随抛光压力的增加而增大,而过低(2.4 psi,1 psi=6 895 Pa)或过高(6.1 psi)的抛光压力均使晶片表面产生划痕。当抛光压力适中(4.5 psi)时,经复合磨料(壳厚约为13 nm)抛光后的晶片表面无明显划痕,在5μm×5μm范围内表面均方根粗糙度为0.265 nm,抛光速率达98.7 nm/min。     

稠油热采边水油藏整体治理技术研究

稠油热采小断块边水油藏在蒸汽吞吐生产过程中受边水侵入影响很大,研究应用整体治理技术,按照油藏特点和水侵特征将边水侵入划分为构造部位水淹型、区域差异水淹型、条带状不规则水淹型等三种类型,分别采取立体抑水技术、分区抑水技术、节点抑水技术,优化应用多段塞组合抑水技术,优化热化学组合注汽参数,改善了小断块边水油藏控水稳油开发效果。