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91.
设计一个时滞依赖的模糊滤波器,使得滤波器不仅满足系统稳定性要求而且满足给定滤波误差系统的H∞性能要求.文章由线性矩阵不等式方法(LMI)得到了滤波器存在的充分条件,并给出了该类变时滞模糊系统的H∞滤波器设计方法,最后给出数值算例验证文中方法的有效性. 相似文献
92.
93.
三维刚塑性有限元法中摩擦边界条件的处理方法 总被引:4,自引:0,他引:4
介绍了三维刚塑性有限元法中摩擦边界条件中处理方法,给出了相应的计算公式。 相似文献
94.
在交流条件硅酸钠溶液中利用微等离子体氧化技术合成了陶瓷涂层。通过XRD,EPMA分析了所得陶瓷涂层在不同层面上的相组成、微观结构及元素分布。由陶瓷涂层截面的背散射图看出陶瓷涂层较致密、与基体结合强度高。XRD分析结果显示,陶瓷涂层的最外层由莫来石及γ-Al2O3相组成,随着向陶瓷涂层内部的移动,莫来石的含量逐渐减少,α-Al2O3,γ-A12O3相的含量逐渐提高,而且陶瓷涂层的颜色由白色逐渐变为黑色。硅元素在陶瓷涂层的外侧及陶瓷涂层与基体的交界处陶瓷涂层一侧含量较多,在陶瓷涂层中间含量少。而陶瓷涂层的硬度变化也出现了中间高,两侧低的分布情况。 相似文献
95.
通过电化学测试技术和扫描电镜对显微组织和腐蚀形貌的观察,探讨了稀土元素对M_(80)X_(20)合金喷涂层抗腐蚀性能的影响。试验结果表明,加入稀土元素可以明显改善喷涂层的抗腐蚀性能。 相似文献
96.
挤压后硼酸铝晶须增强铝复合材料表面的腐蚀特征 总被引:1,自引:0,他引:1
利用原于力显微镜观察了挤压态Al18B4O33 w/pure Al复合材料早期腐蚀过程中表面形貌的变化特征.研究了沿与挤压方向成不同角度截取的Al18B4O33 w/pure Al复合材料在3.5%NaCl溶液中的腐蚀规律.结果表明:晶须与基体的界面是腐蚀易于发生的地方.点蚀首先在晶须的端部产生,随后沿着晶须与基体的界面扩展.挤压后沿与挤压方向成不同角度截取的Al18B4O33 w/pure Al复合材料表面腐蚀坑的深度存在差别. 相似文献
97.
通过X射线衍射分析、透射电镜观察、红外透射光谱分析、紫外-可见吸收光谱分析和光致发光试验,研究了用金属有机物化学汽相沉积(MOCVD)的方法,在带有GaN缓冲层的蓝宝石(Al2O3)衬底上生长的AlGaN/GaN超晶格材料的微观结构、光吸收性质和发光特性.X射线衍射结果表明,GaN基材料均为纤锌矿六方结构,薄膜具有良好的结晶质量,薄膜生长沿c轴择优取向.透射电镜观察表明,超晶格试样的周期结构分布均匀,实际周期为13.3nm,且观察到高密度的位错存在于外延膜中。通过光学试验数据,确定了试样的光学吸收边都是在370nm附近,理论计算显示试样为直接跃迁型半导体,禁带宽度约为3.4eV。试样的折射率随光子能量的增加而增加、随波长的增加而减小,计算表明消光系数的极小值位于370nm处。光致发光测试分析表明,超晶格有很好的发光性能,并发现存在黄带发光。 相似文献
98.
Effect of growth-interrupted method on quality of AlGaAs/GaAs multiple quantum wells prepared by MBE
AlGaAs/GaAs multi-quantum well (MQW) was prepared by molecular beam epitaxy(MBE) with growth-interrupted heterointerface (GIH) method and continuous growth (CG) method, respectively. The microstructures Of the MQWs were characterized by double-crystal X-ray rocking curve (DCRC) and atomic force microscopy (AFM), and the photoluminescence (PL) properties of the MQWs were also studied. The MQWs grown with GIH method show that higher order satellite peaks of Pendelloesung fiinges are observed in DCRC, the roughness of surface is much reduced in AFM, and the full width at half maximum (FWHM) of exciton line is much narrower in PL. The results indicate that the GIH method reduces the monolayer growth step density at the heterointerface due to the migration of surface atomsfor a few minutes grower interruption, and substantially improves the quality of AlGaAs/GaAs MQWs. 相似文献
99.
100.