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11.
分别研究了在500、600、650和700 V阴极电压条件下采用连续供气抽真空和间歇供氮闭炉的方式进行纯氮离子渗氮的工艺及机理.通过对间歇供氮闭炉离子渗氮层显微组织、相组成和硬度梯度的测定与分析,计算和验证了该工艺中N2分子临界离解能.结果表明,纯氮离子渗氮的活性氮原子来自于经阴极位降区加速的高能N 2与中性N2分子间的非弹性碰撞,离解N2分子的N 2离子临界能为48.64 eV,相应的阴极电压门槛值为650 V.纯氮离子渗氮工艺除要求阴极电压高于650 V外,间歇供气闭炉渗氮也是必备条件,在一定温度和足够高的阴极电压下,只有采用间歇供氮闭炉方式进行离子渗氮,从N2分子才能离解出足够多的活性氮原子,使试样表面产生明显的渗氮效果. 相似文献
13.
14.
基于纯N2离解产生活性氮原子能量条件的基本理论和纯氮离子渗氮模型,研究了间歇供N2闭炉纯氮离子渗氮新工艺以实现纯氮代替氨或氮-氢的离子渗氮.通过对渗氮层显微组织、相组成和硬度梯度的测定与分析,对纯氮离子渗氮工艺中N2分子临界离解能进行了理论计算和试验验证.结果表明,纯氮离子渗氮存在电压门槛值,只有在700 V左右的高电压下,并且采用间歇供N2闭炉方式进行离子渗氮,才能产生明显的渗氮效果.在相同的渗氮时间里,间歇供N2闭炉的纯氮离子渗氮可获得比常规纯氨离子渗氮更好的渗氮效果. 相似文献
15.
针对目前部分地方高校专业学位研究生实习基地建设过程中存在的问题,在深入研究专业学位研究生培养目标的基础上,提出了"课程设置-人才选拔-长效合作-校企互动反馈"四位一体的专业学位研究生实习基地建设模式,促进了专业学位研究生素质的提高. 相似文献
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17.
冷喷涂沉积机理及其装备的研究进展 总被引:1,自引:6,他引:1
冷喷涂是近几年基于空气动力学发展起来的新型表面改性技术。冷喷涂技术在较低的温度下进行,相比热喷涂有很多优势,成为研制开发非晶、纳米及其他温度敏感材料的有效手段,在工业及国防领域有着重要的应用前景和价值。简要介绍了冷喷涂技术的原理、特点以及在保护涂层、功能涂层、近净成形、零件修复等方面的应用。涂层沉积机理的研究对冷喷涂技术的研究具有重要的理论意义,对工艺参数的优化以及优质涂层的制备具有重要的指导作用。冷喷涂装备对涂层质量和喷涂效率的提高至关重要。冷喷涂装备使冷喷涂技术的研究从理论研究到实验研究过渡,最终由实验室研究向工业应用过渡。详细阐述了冷喷涂涂层沉积机理及其研究进展。系统阐述了冷喷涂装备(真空冷喷涂、激光辅助冷喷涂、脉冲气体冷喷涂、激波风洞冷喷涂等)的工作原理及研究现状。 相似文献
18.
MTMD参数设计控制拱桥竖向振动方法研究 总被引:1,自引:1,他引:0
以金沙江通阳大桥的振动控制为研究背景,介绍一种基于有限元分析手段设计多重调谐质量阻尼器(MTMD)参数的方法:利用有限元确定受控模态、质量比、MTMD的安装位置.作为探索性研究,在实验室建立模型拱桥作为控制对象.采用就此方法设计出的一组MTMD优化方案对移动荷载作用下模型拱桥的竖向位移进行控制,最大控制效果可达到36.03%,验证了此方法的有效性.改变质量比另拟定一组方案进行对比实验,通过两种方案控制效果的比较,反映了MTMD参数设计的必要性. 相似文献
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