激光直写技术的研究现状及其进展

介绍了激光直写技术的最新发展现状,系统的功能、结构和工作方式,对当前该系统存在的一些问题进行了归纳分析,探讨了系统的应用范围和今后的发展方向。     

红外上转换材料共焦光学检测器研究

提出了一种利用共焦光学结构来检测红外上转换材料被激发光的方法。采用下述步骤来提高探测灵敏度:基于红外上转换材料的光谱分布,专门设计了具有对激发外光全反射、对被激发的可见光全透射的分光反射器,用共焦光学结构有效地提高了材料的上转换效率,采用在可见光区灵敏度、在红外光区截止响应GaAsP半导体光敏器件,配合专用放大电路,实现了被激发可见光的微弱光检测。检测器能够稳定检测混合比>0.3%的红外上转换材料,给出了实验结果。     

采用DMD并行输入的激光干涉直写方法

基于HoloMaker-Ⅳ激光干涉直写系统的数字微反射镜(digital micro-mirror device, DMD)并行输入光刻方式,提出了根据图形特性的智能边界处理,实现了超高分辨率图像的高效激光直写干涉光刻.通过DMD输入图形与系统干涉控制参数相互匹配处理的方式对256色位图进行了图形格式转换,从而支持2D/3D,3D光变图像以及各种微图形文字的处理.为高效率制作高品质光变图像提供了新方法.实验表明:在2400DPI分辨率下,该方法比传统逐点光刻法的运行效率提高90倍.给出了高质量的实验结果.     

稀土在高合金耐热钢中的应用

本文阐述了高合金耐热钢3Cr24Ni7N加入稀土元素铈的操作工艺、作用与效果。着重介绍了提高稀土回收率的最优工艺。肯定了加入铈后能改善钢的热塑性,高温强度及抗氧化性,获得较好的经济效果。     

基于网络技术的变电运行信息管理系统的设计

介绍了基于网络技术的变电运行信息管理系统的设计方案，并对统一支撑平台技术、 系统动态建模和自适应技术、可视化自定义工作流技术、基于XML规范的数据交换技术的应用进行了阐述。     

用于二元光学器件制作的激光直写系统

通过双远心成像光路，激光直写（LDW）系统SVG—LDW 04把液晶空间光调制器（LCD-SLM）上的光斑直接成像在光刻胶板上，得到高质量的光斑图形。放置在SLM的共轭面上的CCD成像调焦装置能够实时地在监控像面质量。控制SLM的输入图形、曝光量（刻蚀深度）及系统的运行方式，LDW系统能够制作不同特性的二元衍射光学元件。给出了典型的（2台阶、4台阶）位相衍射器件制作的实验结果。     

一种透明全息投影显示屏的研制

研制了一种透明平面全息显示屏。显示屏由全息像素组成，每一个像素都基于散斑的像面全息结构，其中基元光栅起到调制入射光并定向衍射成像的作用。分析了显示屏的视场特性，对不同的参物比对显示屏衍射效率的影响进行了测量和分析。全息显示屏具有高亮度和消色散的优点，浮雕型结构便于进行大幅面的快速微纳米压印复制，使得所提出的显示屏具有低成本的工艺优势。     

波导多层只读光卡及其软刻印制作方法研究

将波导多层存储与光卡存储技术相结合,提出了一种波导多层光卡存储器的结构方案和软刻印制作方法.采用折射率高的薄波片作为芯层材料、折射率低的透明硅橡胶作为包层材料,利用软刻印方法将信息复制在硅橡胶表面,制作出10层光卡.信息检测结果表明,每一层数据清晰可见,相邻层间无明显干扰.     

基于DMD高分辨率激光直写系统设计与实现

提出了利用数字微反射镜(DMD)实现高分辨率高速度光刻图像的方法,通过对激光直写系统Holomaker-Ⅲ-B光路的改装,将DMD代替原来的方孔作为光调制器,把DMD上的图像成像在光刻胶板上,得到一个缩小倍率的高质量的任意光斑图形.此系统分辨率能够达到6000DPI,能够制作出高质量的光变图像,例如2D图像,2D/3D图像,3D图像以及各种精密的微刻图像和文字,并给出了实验结果.     

采用亚微米埋入式光栅的彩色滤光片

为进一步提高彩色滤光片的色度性能和光能利用率,设计了一种宽带宽高透射率的亚微米埋入式光栅结构,该结构由PMMA基底、ZnS膜层、二维Al金属光栅和SiO2覆盖层等组成。采用严格耦合波理论分析了ZnS膜层厚度、周期、占空比等结构参数对透射光谱特性的影响,并在此基础上优化结构参数,获得了宽带宽滤波输出。当透射光谱中心波长为635,530和455nm时,相应透射效率分别为68%,78%和71%,半极大值处全宽(FWHM)约为100nm。计算结果表明,与其他应用于彩色滤光片的光栅结构相比,所设计光栅结构的中心光谱透射效率可提高19%,并有效减少了三色输出光谱之间的重叠区域,提高了彩色滤光片的色度性能。